一种ZnS包覆的ZnO纳米阵列核壳结构的制备方法

    公开(公告)号:CN102800747A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201210237891.3

    申请日:2012-07-11

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及利用磁控溅射法制备ZnO晶种、利用水热法生长ZnO纳米阵列以及利用水热法硫化生长ZnS壳层结构的制备方法。生长出来的ZnO@ZnS纳米阵列核壳结构可作为铜锌锡硫(CZTS)太阳能电池的窗口层。属太阳能电池薄膜器件制备工艺技术领域。本发明先采用磁控溅射法在掺杂氟的SnO2导电玻璃(FTO)上溅射ZnO晶种,接着使用真空管式炉,在N2气氛中对晶种进行热处理,温度为400℃,时间为20min。然后通过水热法生长ZnO纳米阵列,生长溶液为0.05mol/L硝酸锌水溶液和0.05mol/L六亚甲基四胺(HMT)的水溶液。最后,通过水热法硫化生长ZnS壳层结构,生长溶液为0.05~0.50mol/L硫代乙酰胺(TAA)的水溶液,在水热反应釜中硫化1~9小时后取出,然后放入烘箱烘干,即可得到ZnO@ZnS纳米阵列核壳结构。

    一种柱状结构CdZnTe薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103343389A

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201310280052.4

    申请日:2013-07-05

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种柱状结构CdZnTe薄膜及其制备方法,本方法包括如下步骤:(a)CdZnTe单晶升华源的准备;(b)衬底预处理;(c)CdZnTe薄膜生长;(d)CdZnTe薄膜抛光、腐蚀及退火;制得的柱状结构的CdZnTe薄膜厚度为100~500mm。本发明方法相比CdZnTe单晶生长工艺简单、成本更低、可大面积制备、批量生长可行性高。本发明制备的柱状CdZnTe薄膜相比常规的CdZnTe薄膜,具有更少的晶界缺陷和更好的电阻率,电阻率最高可达6×109Ω·cm。

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