公开(公告)号：CN111712589B

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN201980013443.5

申请日：2019-02-15

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 笹村哲也 ,  染矢立志 ,  田边克久 ,  和田真辅 ,  古矢绘理子

IPC: C23C18/44

Abstract: 本发明提供一种化学镀钯液，其至少使用肼作为还原剂，在酸性至中性附近的浴稳定性和长期稳定性优异，同时可以抑制伴随抗蚀剂溶出而引起的Pd镀膜的析出速度的降低。本发明的化学镀钯液含有：钯化合物；肼或其盐；以及选自由NH2NHCOR1式所示的式(1)的化合物或其盐、和(NH2NHCO)2(R2)n所示的式(2)的化合物或其盐组成的组中的至少一种；并且，所述化学镀钯液满足pH为8以下。(式中，R1为H、NH2、碳数1‑10的烷基、碳数1‑10的烷氧基、NHNH2或芳香族基团，且R1可具有取代基，R2为(CH2)或芳香族基团，且R2可具有取代基，n为0‑10的整数)。

公开(公告)号：CN107365985A

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201710124004.4

申请日：2017-03-03

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 田边克久 ,  笹村哲也 ,  西村直志 ,  染矢立志

IPC: C23C18/44

CPC classification number: C23C18/44

Abstract: 本发明提供一种新的化学镀金浴，该化学镀金浴可以全面提高镀覆稳定性、镀覆后的外观和镀覆速度。本发明的化学镀金浴含有水溶性金化合物、还原剂、络合剂和稳定剂，其中，所述稳定剂为下述式所示的氰醇化合物。式中，R1和R2相同或不同，表示氢原子、甲硅烷基、或可被取代基取代的烷基或芳基。

公开(公告)号：CN106399981A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201610584716.X

申请日：2016-07-22

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前田刚志 ,  柴山文德 ,  田边克久 ,  和田真辅

IPC: C23C18/32

Abstract: 本发明提供一种能够得到良好的弯曲性，在施加应力的部分难以出现裂缝，并且不用担心漏镀的化学镀镍浴。本发明的化学镀镍浴含有下述式(1)所示的含硫苯并噻唑类化合物。式中，X为碳原子数2以上的烷基或其盐，X也可以具有取代基。

公开(公告)号：CN117248215A

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202310704616.6

申请日：2023-06-14

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前川拓摩 ,  田边克久 ,  田中小百合 ,  柴山文德

IPC: C23F1/20

Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使是酸性也能得到镀镍等金属镀敷的良好的析出性的蚀刻处理液、使用该蚀刻处理液的铝或铝合金的表面处理方法。一种蚀刻处理液，其含有锌化合物、氟化合物，pH为4.5～6.5。

公开(公告)号：CN111183245A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880064740.8

申请日：2018-10-03

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前田刚志 ,  田边克久 ,  河原知博

IPC: C23C18/44

Abstract: 本发明的课题在于提供一种化学镀钯液，其可得到Pd镀膜，该Pd镀膜构成在热过程后也具有优异的引线键合性的镀膜，本发明的化学镀钯液的要旨在于，含有钯化合物、还原剂、络合剂以及选自Ge和稀土类元素中的至少一种。

公开(公告)号：CN109415812A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780041522.8

申请日：2017-04-27

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 笹村哲也 ,  田边克久 ,  大久保洋树 ,  染矢立志 ,  古矢绘理子

IPC: C23C18/44

CPC classification number: C23C18/44

Abstract: 本公开提供一种化学镀铂液。该化学镀铂液含有水溶性铂化合物、络合剂、还原剂以及卤化物离子供给剂，且还原剂是蚁酸。

公开(公告)号：CN107955942A

公开(公告)日：2018-04-24

申请号：CN201710953140.4

申请日：2017-10-13

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 桥本大督 ,  田边克久 ,  西村直志 ,  丸尾洋一

IPC: C23C18/34

CPC classification number: C23C18/34

Abstract: 本发明提供了一种化学镀镍浴，该化学镀镍浴可以抑制镍漏镀和图案外析出，并且可以得到耐腐蚀性和外观良好的化学镀镍膜。本发明的化学镀镍浴，其特征在于，该化学镀镍浴含有还原剂和含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物。

公开(公告)号：CN101275224B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200710305957.7

申请日：2007-12-28

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 木曾雅之 ,  小田幸典 ,  黑坂成吾 ,  上玉利彻 ,  西条义司 ,  田边克久

IPC: C23C18/42

Abstract: 是在将含有氰化金盐、络合剂、甲醛合酸式亚硫酸盐加成物及胺化合物的无电解镀金浴保持在70-90℃的状态下稳定地维持控制上述无电解镀金浴的镀敷能力的方法，是将碱性氰化物、甲醛合酸式亚硫酸盐加成物及胺化合物作为第1补充成分定期地补充，还对由于镀敷处理消耗了金的镀浴，只补充氰化金盐、甲醛合酸式亚硫酸盐加成物及胺化合物作为第2补充成分的无电解镀金浴的镀敷能力维持控制方法。采用本发明的方法，不引起由于镍表面进行晶界侵蚀导致的外观不良，可长期、稳定地维持控制形成良好的被膜外观的镀金被膜的无电解镀金浴的镀敷能力，还可长期、稳定地维持控制由于镀敷处理消耗氰化金盐的无电解镀金浴。

公开(公告)号：CN115442958A

公开(公告)日：2022-12-06

申请号：CN202210598990.8

申请日：2022-05-30

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 田边克久 ,  染矢立志 ,  中野尚贵 ,  山口和希

IPC: H05K1/09 ,  C23C18/32 ,  C23C18/48

Abstract: 本发明提供一种镀膜，其能够提高焊料安装后的热过程的累积所导致的焊料接合部的连接可靠性。本发明的多层镀膜，其依次层叠有化学镀镍‑锗合金镀膜、化学镀钯镀膜、化学镀金镀膜。

公开(公告)号：CN109415812B

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201780041522.8

申请日：2017-04-27

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 笹村哲也 ,  田边克久 ,  大久保洋树 ,  染矢立志 ,  古矢绘理子

IPC: C23C18/44

Abstract: 本公开提供一种化学镀铂液。该化学镀铂液含有水溶性铂化合物、络合剂、还原剂以及卤化物离子供给剂，且还原剂是蚁酸。