化学镀镍浴
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107955942A

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201710953140.4

    申请日:2017-10-13

    CPC classification number: C23C18/34

    Abstract: 本发明提供了一种化学镀镍浴,该化学镀镍浴可以抑制镍漏镀和图案外析出,并且可以得到耐腐蚀性和外观良好的化学镀镍膜。本发明的化学镀镍浴,其特征在于,该化学镀镍浴含有还原剂和含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物。

    化学镀钌浴
    2.
    发明公开
    化学镀钌浴 审中-公开

    公开(公告)号:CN118256901A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202311621008.5

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种化学镀钌浴,其至少含有钌化合物、还原剂以及稳定剂,还原剂是氨硼烷化合物及次磷酸钠中的至少一种,稳定剂由羟胺化合物和胺类化合物构成,羟胺化合物是硫酸羟胺及氯化羟胺中的至少一种。该化学镀钌浴使用作为一般还原剂的氨硼烷化合物或次磷酸钠,能够提高浴稳定性,并且钌的析出性优异。

    化学镀镍浴
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107955942B

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN201710953140.4

    申请日:2017-10-13

    Abstract: 本发明提供了一种化学镀镍浴,该化学镀镍浴可以抑制镍漏镀和图案外析出,并且可以得到耐腐蚀性和外观良好的化学镀镍膜。本发明的化学镀镍浴,其特征在于,该化学镀镍浴含有还原剂和含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物。

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