公开(公告)号：CN111712589B

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN201980013443.5

申请日：2019-02-15

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 笹村哲也 ,  染矢立志 ,  田边克久 ,  和田真辅 ,  古矢绘理子

IPC: C23C18/44

Abstract: 本发明提供一种化学镀钯液，其至少使用肼作为还原剂，在酸性至中性附近的浴稳定性和长期稳定性优异，同时可以抑制伴随抗蚀剂溶出而引起的Pd镀膜的析出速度的降低。本发明的化学镀钯液含有：钯化合物；肼或其盐；以及选自由NH2NHCOR1式所示的式(1)的化合物或其盐、和(NH2NHCO)2(R2)n所示的式(2)的化合物或其盐组成的组中的至少一种；并且，所述化学镀钯液满足pH为8以下。(式中，R1为H、NH2、碳数1‑10的烷基、碳数1‑10的烷氧基、NHNH2或芳香族基团，且R1可具有取代基，R2为(CH2)或芳香族基团，且R2可具有取代基，n为0‑10的整数)。

公开(公告)号：CN106399981A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201610584716.X

申请日：2016-07-22

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前田刚志 ,  柴山文德 ,  田边克久 ,  和田真辅

IPC: C23C18/32

Abstract: 本发明提供一种能够得到良好的弯曲性，在施加应力的部分难以出现裂缝，并且不用担心漏镀的化学镀镍浴。本发明的化学镀镍浴含有下述式(1)所示的含硫苯并噻唑类化合物。式中，X为碳原子数2以上的烷基或其盐，X也可以具有取代基。

公开(公告)号：CN106399981B

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201610584716.X

申请日：2016-07-22

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前田刚志 ,  柴山文德 ,  田边克久 ,  和田真辅

IPC: C23C18/32

Abstract: 本发明提供一种能够得到良好的弯曲性，在施加应力的部分难以出现裂缝，并且不用担心漏镀的化学镀镍浴。本发明的化学镀镍浴含有下述式(1)所示的含硫苯并噻唑类化合物。式中，X为碳原子数2以上的烷基或其盐，X也可以具有取代基。

公开(公告)号：CN111712589A

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：CN201980013443.5

申请日：2019-02-15

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 笹村哲也 ,  染矢立志 ,  田边克久 ,  和田真辅 ,  古矢绘理子

IPC: C23C18/44

Abstract: 本发明提供一种化学镀钯液，其至少使用肼作为还原剂，在酸性至中性附近的浴稳定性和长期稳定性优异，同时可以抑制伴随抗蚀剂溶出而引起的Pd镀膜的析出速度的降低。本发明的化学镀钯液含有：钯化合物；肼或其盐；以及选自由NH2NHCOR1式所示的式(1)的化合物或其盐、和(NH2NHCO)2(R2)n所示的式(2)的化合物或其盐组成的组中的至少一种；并且，所述化学镀钯液满足pH为8以下。(式中，R1为H、NH2、碳数1-10的烷基、碳数1-10的烷氧基、NHNH2或芳香族基团，且R1可具有取代基，R2为(CH2)或芳香族基团，且R2可具有取代基，n为0-10的整数)。

公开(公告)号：CN111164236A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201880064756.9

申请日：2018-10-03

Applicant: 上村工业株式会社

Inventor： 前田刚志 ,  田边克久 ,  和田真辅

IPC: C23C18/44

Abstract: 本发明的课题在于提供一种化学镀钯液，其可得到Pd镀膜，该Pd镀膜构成在热过程后也具有优异的引线键合性的镀膜，本发明的化学镀钯液的要旨在于，含有钯化合物、选自次磷酸化合物和亚磷酸化合物中的至少一种、选自胺硼烷化合物和氢硼化合物中的至少一种、以及络合剂。