制造半导体装置的方法以及半导体装置

    公开(公告)号:CN108695256B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN201810288543.6

    申请日:2018-04-03

    Abstract: 本申请提供了一种制造半导体装置的方法以及半导体装置。该制造半导体装置的方法包括:将衬底的上部图案化,以形成第一有源图案,所述衬底包括具有第一晶格常数的半导体元素;在第一有源图案的上部上执行选择性外延生长工艺,以形成第一源极/漏极区;为第一源极/漏极区掺杂镓;在掺有镓的第一源极/漏极区上执行退火工艺;以及形成连接至第一源极/漏极区的第一接触图案。第一源极/漏极区包括具有大于第一晶格常数的第二晶格常数的半导体元素。

    处理多视点图像的方法以及用于执行所述方法的设备

    公开(公告)号:CN103686191A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310389664.7

    申请日:2013-08-30

    CPC classification number: H04N13/161 H04N19/42 H04N19/597

    Abstract: 提供一种处理多视点图像的方法以及用于执行所述方法的设备。所述多视点图像处理设备包括:第一视频编解码器模块,被配置为输出第一图像处理数据作为对从第一图像源提供的第一图像信号进行处理的结果,并且在每个预定时间产生同步信息;第二视频编解码器模块,被配置为输出第二图像处理数据作为根据同步信息使用输出的第一图像处理数据的一部分对从第二图像源提供的第二图像信号进行处理的结果。第一图像处理数据和第二图像处理数据被组合为多视点图像。

    制造半导体器件的方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100576450C

    公开(公告)日:2009-12-30

    申请号:CN200510116124.7

    申请日:2005-10-26

    CPC classification number: H01L27/11521 H01L27/115

    Abstract: 一种制造半导体器件的方法,包括,在衬底上形成绝缘图形。绝缘图形具有露出衬底表面的至少一个开口。然后,在衬底上形成第一多晶硅层,以便第一多晶硅层填充开口。第一多晶硅层还包括在其中的空隙。第一多晶硅层的上部被除去,以便空隙扩大到凹部,以及凹部被露出。在衬底上形成第二多晶硅层,以便第二多晶硅层填充凹部。

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