半导体芯片及其制造方法、半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1738027A

    公开(公告)日:2006-02-22

    申请号:CN200510091409.X

    申请日:2005-08-10

    Abstract: 本发明提供一种半导体芯片的制造方法,包括:在具有表面及背面并在所述表面上形成了功能元件的半导体基板的所述表面上,形成比所述半导体基板的厚度更小的给定的深度的表面侧凹部的工序;向该表面侧凹部内供给非金属材料,将由该非金属材料制成的虚设塞子嵌入所述表面侧凹部中的虚设塞子形成工序;在该虚设塞子形成工序之后,将所述半导体基板的所述背面侧部分除去,将所述半导体基板薄型化为比所述表面侧凹部的深度更小的厚度,将所述表面侧凹部制成贯穿孔的薄型化工序;将所述贯穿孔内的所述虚设塞子除去的虚设塞子除去工序;在该虚设塞子除去工序之后,向所述贯穿孔供给金属材料,形成贯穿电极的工序。

    半导体芯片及其制造方法、半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN100461371C

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200510091409.X

    申请日:2005-08-10

    Abstract: 本发明提供一种半导体芯片的制造方法,包括:在具有表面及背面并在所述表面上形成了功能元件的半导体基板的所述表面上,形成比所述半导体基板的厚度更小的给定的深度的表面侧凹部的工序;向该表面侧凹部内供给非金属材料,将由该非金属材料制成的虚设塞子嵌入所述表面侧凹部中的虚设塞子形成工序;在该虚设塞子形成工序之后,将所述半导体基板的所述背面侧部分除去,将所述半导体基板薄型化为比所述表面侧凹部的深度更小的厚度,将所述表面侧凹部制成贯穿孔的薄型化工序;将所述贯穿孔内的所述虚设塞子除去的虚设塞子除去工序;在该虚设塞子除去工序之后,向所述贯穿孔供给金属材料,形成贯穿电极的工序。

    半导体装置的制造方法和半导体装置

    公开(公告)号:CN101015053A

    公开(公告)日:2007-08-08

    申请号:CN200580029878.7

    申请日:2005-10-17

    Abstract: 一种半导体装置(1、21)的制造方法,包括:准备由多个布线基板(2)制成,在至少一表面(2a)具有跨相互邻接的上述布线基板的边界而形成的导电构件(13)的原基板(11)的工序;使具有形成有功能元件(4)的功能面(3a)的半导体芯片(3)对着各布线基板,使其功能面与上述一表面隔有规定间隔而相对地连接的芯片连接工序;在此芯片连接工序后,在上述原基板与上述半导体芯片的间隙,以及上述导电构件上形成密封树脂层(7)的密封树脂层形成工序;在该密封树脂层形成工序之后,使上述原基板和切割工具(B)相对移动,以使该切割工具从与上述原基板的上述一表面呈相反侧的另一表面(2b)穿到上述一表面,由此沿着互相邻接的上述布线基板的边界切割上述原基板的切割工序。

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