-
公开(公告)号：CN111033382B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN201780093820.1
申请日：2017-10-22
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供系统及方法，其从至少一个计量成像目标中的每一ROI(所关注区域)的经分析测量计算叠加错位误差估计，且将所述经计算叠加错位误差估计并入在对应叠加错位估计中。所揭示实施例提供可以连续方式集成到计量测量过程中且此外依据叠加错位评估目标质量的分级及加权目标质量分析，所述分析形成用于评估来自例如生产步骤特性、测量参数及目标特性的不同源的误差的共同基础。接着，此类共同基础实现以下中的任一者：组合各种误差源以给出与测量保真度相关联的单个数目；在晶片级、批量级及过程级下分析各种误差；及/或通过减少测量次数而对于吞吐量以受控方式权衡所得准确度。
-
公开(公告)号：CN112331576A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011201964.4
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本申请实施例是关于验证计量目标及其设计。示例性的方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
-
公开(公告)号：CN113167745B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN201980079626.7
申请日：2019-12-20
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： E·莱欣斯凯-阿特休勒 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , D·沙皮罗乌 , G·本多夫 , R·弗克维奇 , C·斯蒂利
IPC: G01N21/956 , G01N21/95 , G01B11/25 , G06T7/00
Abstract: 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。
-
公开(公告)号：CN112331576B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202011201964.4
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本申请实施例是关于验证计量目标及其设计。示例性的方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
-
公开(公告)号：CN116897283A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280017626.6
申请日：2022-04-18
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/956
Abstract: 一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具，所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照明所述叠加目标，使得对于所述测量方向中的每一者，所述叠加目标对由所述物镜收集的所述一或多个照明分布的衍射级排他地包含来自所述两个或更多个照明波瓣中的至少一者的0级衍射波瓣及单个一级衍射波瓣。所述叠加计量工具可进一步包含用以将所述样本成像的至少一个检测器以及用以基于所述图像来产生叠加测量的控制器。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115917435A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180039748.0
申请日：2021-05-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G01N21/95
Abstract: 一种计量目标包含具有形成于样本的第一工作区或第二工作区中的至少一者内的一或多个第一目标结构的第一目标结构组。所述计量目标包含具有形成于所述第一工作区或所述第二工作区中的至少一者内的一或多个第二目标结构的第二目标结构组。所述第一工作区可包含对称中心，所述对称中心在所述样本的一或多个层不存在叠对误差时与所述第二工作区的对称中心重叠。所述计量目标可另外包含第三目标结构组、第四目标结构组或第五目标结构组。
-
公开(公告)号：CN114930161A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008016.5
申请日：2021-01-26
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·戈洛塔斯万 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , M·吉诺乌克 , R·迪拉韦
IPC: G01N21/956 , H01L21/027 , H01L21/68 , G03F7/20 , G03F9/00 , G01J4/00
Abstract: 一种计量目标包含沿着一或多个方向与第一计量模式兼容的第一组图案元素及沿着一或多个方向与第二计量模式兼容的第二组图案元素，其中所述第二组图案元素包含所述第一组图案元素的第一部分，且其中所述第二组图案元素是由所述第一组图案元素的不包含于所述第二组图案元素中的第二部分包围。
-
公开(公告)号：CN114341593A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061816.9
申请日：2020-09-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具有沿着所述测量方向的不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅结构形成的云纹图案。当所述第一样本层与所述第二层之间的叠加误差是零时，所述第一工作区及所述第二工作区的旋转对称中心通过设计可重叠。所述第一工作区及所述第二工作区的所述旋转对称中心之间的差可指示所述第一样本层与所述第二样本层之间的叠加误差。
-
公开(公告)号：CN113939772A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202080040950.0
申请日：2020-06-24
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/956 , G01N21/95 , H01L21/66
Abstract: 一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元，所述第二测量群组。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
-
公开(公告)号：CN106796900B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201580053714.1
申请日：2015-10-02
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： M·E·阿德尔 , I·塔尔西斯-沙皮尔 , J(石铭)·魏 , M·吉诺乌克
Abstract: 本发明提供计量目标设计方法及验证目标。方法包括：使用与经设计计量目标有关的OCD数据作为目标模型与晶片上的对应实际目标之间的差异的估计；及调整计量目标设计模型以补偿所述经估计差异。专属验证目标可包括叠加目标特征且对尺寸进行优化以可由OCD传感器测量，以实现对于由生产工艺变化所引起的不准确度的补偿。方法还包括提供经启用的较高保真度计量目标设计模型及计量测量的最终较高准确度的对制造商与计量商家之间的工作流程的修改。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
35
records
(took 0.024 seconds)
