公开(公告)号：CN113167745B

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN201980079626.7

申请日：2019-12-20

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： E·莱欣斯凯-阿特休勒 ,  I·塔尔西斯-沙皮尔 ,  M·吉诺乌克 ,  D·沙皮罗乌 ,  G·本多夫 ,  R·弗克维奇 ,  C·斯蒂利

IPC: G01N21/956 ,  G01N21/95 ,  G01B11/25 ,  G06T7/00

Abstract: 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。

公开(公告)号：CN113167745A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980079626.7

申请日：2019-12-20

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： E·莱欣斯凯-阿特休勒 ,  I·塔尔西斯-沙皮尔 ,  M·吉诺乌克 ,  D·沙皮罗乌 ,  G·本多夫 ,  R·弗克维奇 ,  C·斯蒂利

IPC: G01N21/956 ,  G01N21/95 ,  G01B11/25 ,  G06T7/00

Abstract: 一种计量系统可包含耦合到计量工具的控制器。所述控制器可接收计量目标设计，所述计量目标设计包含通过利用光刻工具在样本上曝光出第一曝光场而形成的至少一第一特征及通过利用所述光刻工具在所述样本上曝光出第二曝光场而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光场与所述第一曝光场在所述样本上计量目标的位置处重叠。所述控制器可进一步接收与根据所述计量目标设计制作的所述计量目标相关联的计量数据，基于所述计量数据确定在所述计量目标的制作期间的一或多个制作误差，并基于所述一或多个制作误差产生校正项以在一或多个后续光刻步骤中调整所述光刻工具的一或多个制作参数。