公开(公告)号：CN101526738B8

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200910004485.0

申请日：2009-03-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴廷敏 ,  郑斗喜 ,  李羲国 ,  金柄郁 ,  金东敏

IPC: G03F7/012 ,  H01L21/84

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：由苯酚化合物制备的酚醛清漆树脂、双叠氮化合物和有机溶剂，其中间甲酚占所述苯酚化合物重量的约70重量％～约85重量％。

公开(公告)号：CN101526738B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN200910004485.0

申请日：2009-03-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 朴廷敏 ,  郑斗喜 ,  李义国 ,  金柄郁 ,  金东敏

IPC: G03F7/012 ,  H01L21/84

CPC classification number: G03F7/0236

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：由苯酚化合物制备的酚醛清漆树脂、双叠氮化合物和有机溶剂，其中间甲酚占所述苯酚化合物重量的约70重量％～约85重量％。

公开(公告)号：CN101071268B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200710096935.4

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻羟苯甲醛缩合而成。[化学式1]

公开(公告)号：CN1702554B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200510075828.4

申请日：2005-05-27

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 吕泰勳 ,  金柄郁 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004 ,  G02F1/133

Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物，特别是涉及的感光性树脂组合物含有：a)使i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或者它们的混合物、ii)含有环氧基的不饱和化合物及iii)烯烃类不饱和化合物共聚而得到的丙烯酸类共聚物；b)1，2-醌二叠氮化合物；以及c)选自由苄醇、己醇、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚及二丙二醇二乙醚组成的组中的1种或者1种以上的溶剂。本发明涉及的感光性树脂组合物不仅光敏度、透过率、绝缘性、耐化学性等性能优越，特别是还可以显著地提高平坦性和涂布性，适宜于形成LCD制造工序的层间绝缘膜。

公开(公告)号：CN101738854A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910209666.7

申请日：2009-11-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  李原荣 ,  李纪万 ,  金升起 ,  崔基植 ,  诸葛银 ,  金贞元 ,  卞哲基 ,  申在浩 ,  边滋勋

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/095 ,  G03F7/012 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种显示器元件用图案形成方法，其用于形成可适用于剥离工序的凹割形状轮廓。本发明通过使用特定结构的聚合化合物来增加感光速度，并可在形成多层光刻胶层时容易形成凹割形状轮廓，从而容易适用于剥离工序。另外，还可以形成大厚度的图案，并且可以省略工艺中的蚀刻工序，从而可以实现工序简单化。

公开(公告)号：CN101071268A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710096935.4

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含（a）由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、（b）重氮类感感光性化合物、（c）有机溶剂的光致抗蚀性组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀性组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀性的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻苯甲醛缩合而成。

公开(公告)号：CN113121824B

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202011620652.7

申请日：2020-12-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 安民石 ,  赵英云 ,  郑载勋 ,  徐英浩 ,  金东敏 ,  金珍郁

IPC: C08G73/14 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  H10K59/12 ,  H10K77/10

Abstract: 本发明公开一种聚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺组合物以及显示屏元件。所述聚酰亚胺薄膜包含以化学式2表示的聚酰亚胺或以化学式1表示的聚酰胺‑酰亚胺共聚物，剥离激光的能量裕度为30mj/cm2以上。在化学式1中，n:m比例为11:89至39:61，X为具有芳族环结构的4价基团，Y为具有芳族环结构的2价的基团，而Z为具有芳族环或脂族环结构的2价的基团，在化学式2中，n:m比例为21:79至94:6，X1为具有芳族环结构的4价基团，Y1为具有芳族环结构的2价的基团，而Z1为具有脂族环结构的4价的基团。#imgabs0#

公开(公告)号：CN110616036A

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201910531238.X

申请日：2019-06-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 裵珉英 ,  安民石 ,  车荣哲 ,  郑载勋 ,  朴势周 ,  赵英云 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  赵泰杓 ,  金炳郁

IPC: C09D179/08 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明公开使用于显示器的聚酰亚胺清漆组合物及包含其的聚酰亚胺膜。含有包含由下述化学式1表示的重复单元的聚酰亚胺及有机溶剂的聚酰亚胺清漆组合物，在下述化学式1中，A为衍生自酸二酐且碳原子数为6至30的芳烃基，B为衍生自二胺且碳原子数为6至30的芳烃基，A及B中至少一者包含硫元素。化学式1：

公开(公告)号：CN104793464B

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201410795461.2

申请日：2014-12-18

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 李政洙 ,  朴廷敏 ,  朴成均 ,  田俊 ,  曹基铉 ,  金智贤 ,  金东敏 ,  金升起 ,  诸葛银

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  H01L21/336

Abstract: 本发明公开光刻胶组合物、形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法，所述组合物包括溶剂、酚醛清漆树脂、重氮类光敏剂、由以下化学式1表示的丙烯酰基化合物，在化学式1中，R1为氢原子或甲基，R2为芳族基团或烷基，所述烷基具有1‑1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，R3、R4和R5各自独立地为烷氧基，所述烷氧基具有1‑1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，并且X、Y和Z各自独立地为1‑100的整数。

公开(公告)号：CN102566270B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。