公开(公告)号：CN106502049B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN106502049A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN102566270A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。

公开(公告)号：CN102566270B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。