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公开(公告)号:CN101071267B
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN200710096934.X
申请日:2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。[化学式1]
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公开(公告)号:CN101071266A
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200710096933.5
申请日:2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,具有优异的耐热性及分辨率,且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成,所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。
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公开(公告)号:CN101071268B
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN200710096935.4
申请日:2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在上述化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,因而具有可提高光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻羟苯甲醛缩合而成。[化学式1]
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公开(公告)号:CN1721989B
公开(公告)日:2010-05-05
申请号:CN200510080628.8
申请日:2005-07-04
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: G03F7/022
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0007 , G03F7/022
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物,更具体地,本发明提供了包含以下物质的光致抗蚀剂组合物:a)酚醛清漆树脂、b)二叠氮化合物和c)包含丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)和2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁基酯(TMPMB)的溶剂。本发明的光致抗蚀剂组合物在涂布后具有优异的涂布均匀性和污染抑制性能,使得它容易适用于实际工业场合,并且在大规模生产时,由于消耗量的降低和生产所需时间的缩短等,该光致抗蚀剂组合物可以改善作业环境。
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公开(公告)号:CN101071268A
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200710096935.4
申请日:2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀性组合物。在上述化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀性组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,因而具有可提高光致抗蚀性的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻苯甲醛缩合而成。
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公开(公告)号:CN101071267A
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200710096934.X
申请日:2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物,具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中,R表示氢、羟基或甲基,n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物,由于加入了酚醛清漆树脂,因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。
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