公开(公告)号：CN102566270B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。

公开(公告)号：CN106502049A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN102566270A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。

公开(公告)号：CN116466544A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202310059289.3

申请日：2023-01-18

Applicant: 株式会社东进世美肯 ,  三星显示有限公司

Inventor： 金京浩 ,  尹赫敏 ,  尹柱豹 ,  成纹昌 ,  林演洙

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/008

Abstract: 本发明涉及一种可以在用于在如液晶显示装置电路等中形成微细电路图案的湿法蚀刻工程中使用的光刻胶组合物，尤其涉及一种可以通过使用结合有4个以上的二叠氮基萘醌磺酰基基团的二叠氮类感光性化合物，即使是在不包含交联剂的情况下也可以在湿法蚀刻工程中实现优秀的金属锥角且储藏稳定性优秀的光刻胶组合物以及利用所述光刻胶组合物的金属多层膜图案形成方法。

公开(公告)号：CN107728426B

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。

公开(公告)号：CN106502049B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN107728426A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0085

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。