公开(公告)号：CN105759568A

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：CN201510940417.0

申请日：2015-12-16

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 沈承辅 ,  金贞元 ,  禹俊赫 ,  周振豪 ,  朴光雨 ,  金炳郁 ,  吕泰勋 ,  尹赫敏 ,  李相勋

IPC: G03F7/075 ,  H01L27/32

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08K5/23 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  H01L27/3246 ,  H01L27/3248 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0094 ,  C08L83/04 ,  G03F7/0757

Abstract: 阳性光敏硅氧烷树脂组合物包括：a)通过在催化剂下进行i)至少一种由下列化学式1表示的反应性硅烷和ii)至少一种由下列化学式2表示的4-官能反应性硅烷的水解和缩合聚合而获得的硅氧烷类共聚物，所述共聚物具有1,000至20,000的聚苯乙烯转换的重均分子量Mw；b)1,2-二叠氮醌化合物；和c)溶剂，(R1)nSi(R2)4-n [化学式1]Si(R3)4 [化学式2]其中R1可各自独立地为具有1至10个碳原子的烷基和具有6至15个碳原子的芳基中的任一种，R2可以各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，R3可各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，且n可以为1至3的自然数。

公开(公告)号：CN104865793A

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201510088685.4

申请日：2015-02-26

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  周振豪 ,  金东敏 ,  金昇起 ,  朴光雨 ,  咸先美

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明提供了光致抗蚀剂组合物及使用其制造显示基板的方法。光致抗蚀剂组合物可以包含酚醛清漆树脂、二叠氮化物类光敏剂、以及溶剂。酚醛清漆树脂可以通过包括甲酚混合物、二甲苯酚和水杨醛的单体混合物的缩合反应而制备。

公开(公告)号：CN101071268B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200710096935.4

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻羟苯甲醛缩合而成。[化学式1]

公开(公告)号：CN101738854A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910209666.7

申请日：2009-11-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  李原荣 ,  李纪万 ,  金升起 ,  崔基植 ,  诸葛银 ,  金贞元 ,  卞哲基 ,  申在浩 ,  边滋勋

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/095 ,  G03F7/012 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种显示器元件用图案形成方法，其用于形成可适用于剥离工序的凹割形状轮廓。本发明通过使用特定结构的聚合化合物来增加感光速度，并可在形成多层光刻胶层时容易形成凹割形状轮廓，从而容易适用于剥离工序。另外，还可以形成大厚度的图案，并且可以省略工艺中的蚀刻工序，从而可以实现工序简单化。

公开(公告)号：CN101071268A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710096935.4

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含（a）由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、（b）重氮类感感光性化合物、（c）有机溶剂的光致抗蚀性组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀性组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀性的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻苯甲醛缩合而成。

公开(公告)号：CN101071267B

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN200710096934.X

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。[化学式1]

公开(公告)号：CN101071266A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710096933.5

申请日：2007-04-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。

公开(公告)号：CN107728426B

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。

公开(公告)号：CN107728426A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0085

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。

公开(公告)号：CN105759568B

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201510940417.0

申请日：2015-12-16

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 沈承辅 ,  金贞元 ,  禹俊赫 ,  周振豪 ,  朴光雨 ,  金炳郁 ,  吕泰勋 ,  尹赫敏 ,  李相勋

IPC: G03F7/075 ,  H01L27/32

Abstract: 阳性光敏硅氧烷树脂组合物包括：a)通过在催化剂下进行i)至少一种由下列化学式1表示的反应性硅烷和ii)至少一种由下列化学式2表示的4‑官能反应性硅烷的水解和缩合聚合而获得的硅氧烷类共聚物，所述共聚物具有1,000至20,000的聚苯乙烯转换的重均分子量Mw；b)1,2‑二叠氮醌化合物；和c)溶剂，(R1)nSi(R2)4‑n [化学式1]Si(R3)4 [化学式2]其中R1可各自独立地为具有1至10个碳原子的烷基和具有6至15个碳原子的芳基中的任一种，R2可以各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，R3可各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，且n可以为1至3的自然数。