公开(公告)号：CN110616036A

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201910531238.X

申请日：2019-06-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 裵珉英 ,  安民石 ,  车荣哲 ,  郑载勋 ,  朴势周 ,  赵英云 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  赵泰杓 ,  金炳郁

IPC: C09D179/08 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明公开使用于显示器的聚酰亚胺清漆组合物及包含其的聚酰亚胺膜。含有包含由下述化学式1表示的重复单元的聚酰亚胺及有机溶剂的聚酰亚胺清漆组合物，在下述化学式1中，A为衍生自酸二酐且碳原子数为6至30的芳烃基，B为衍生自二胺且碳原子数为6至30的芳烃基，A及B中至少一者包含硫元素。化学式1：

公开(公告)号：CN104272193B

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201380024161.8

申请日：2013-04-18

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 辛成健 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC: G03F7/42 ,  C11D3/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物，更具体地说，涉及一种使用于半导体制造用晶片的边缘和后面部位而可在短时间内有效去除多余粘附的光致抗蚀剂，而且提高光致抗蚀剂RRC的性能而能够减少光致抗蚀剂的使用，并对人体的稳定性高、降低界面的段差而可用于多种工序、使半导体制造工序简单化而能够以低成本提高生产收率的稀释剂组合物。

公开(公告)号：CN102566270B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。

公开(公告)号：CN103631103A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N-二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。

公开(公告)号：CN105759568B

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201510940417.0

申请日：2015-12-16

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 沈承辅 ,  金贞元 ,  禹俊赫 ,  周振豪 ,  朴光雨 ,  金炳郁 ,  吕泰勋 ,  尹赫敏 ,  李相勋

IPC: G03F7/075 ,  H01L27/32

Abstract: 阳性光敏硅氧烷树脂组合物包括：a)通过在催化剂下进行i)至少一种由下列化学式1表示的反应性硅烷和ii)至少一种由下列化学式2表示的4‑官能反应性硅烷的水解和缩合聚合而获得的硅氧烷类共聚物，所述共聚物具有1,000至20,000的聚苯乙烯转换的重均分子量Mw；b)1,2‑二叠氮醌化合物；和c)溶剂，(R1)nSi(R2)4‑n [化学式1]Si(R3)4 [化学式2]其中R1可各自独立地为具有1至10个碳原子的烷基和具有6至15个碳原子的芳基中的任一种，R2可以各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，R3可各自独立地为具有1至4个碳原子的烷氧基、苯氧基和乙酰氧基中的任一种，且n可以为1至3的自然数。

公开(公告)号：CN110872438A

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201910833532.6

申请日：2019-09-04

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 赵英云 ,  安民石 ,  车荣哲 ,  郑载勋 ,  裵珉英 ,  朴势周 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  赵泰杓 ,  金炳郁

IPC: C08L79/08 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明提供一种使聚酰胺酸部分酰亚胺化而成的聚酰胺酸-酰亚胺组合物、以及利用其的聚酰亚胺膜的制备方法以及聚酰亚胺膜，其中，所述聚酰胺酸-酰亚胺组合物包含：具备聚酰胺酸和聚酰亚胺结构的重复单元的聚合物、以及分散溶剂，其中所述聚酰胺酸和聚酰亚胺结构的重复单元的摩尔比为85:15至30:70，并且所述聚合物包含5至30摩尔％的不对称结构，所述不对称结构包含来自二酐的结构。

公开(公告)号：CN103631103B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N‑二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。

公开(公告)号：CN102597864A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049561.0

申请日：2010-10-29

Applicant: 株式会社东进世美肯 ,  高丽大学校产学协力团

Inventor： 李晙赫 ,  金炳郁 ,  洪雯杓 ,  崔弘 ,  裴秉成

IPC: G02F1/167

CPC classification number: G02F1/167 ,  G02F1/133512 ,  G02F2001/1676

Abstract: 本发明关于一种电场驱动显示设备，本发明实施例的电场驱动显示设备可包括：第一基板；形成于所述第一基板上的第一电极；形成于所述第一基板上、且与第一电极平行的第二电极；形成于所述第一电极和所述第二电极上、且具有多个开闭孔的驱动隔壁；以及多个驱动体，分别设置于各开闭孔中。因此，本发明实施例的电场驱动显示设备利用电力控制驱动体水平方向的位置，以控制透光度，进而显示出想要的图像。

公开(公告)号：CN102566270A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110353244.4

申请日：2011-11-07

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金升起 ,  边滋勋 ,  金炳郁 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  朴柱京 ,  朱相一 ,  咸先美 ,  李斗渊 ,  朴一圭 ,  郑起和 ,  金京浩 ,  洪宇成

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。

公开(公告)号：CN110616036B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201910531238.X

申请日：2019-06-19

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 裵珉英 ,  安民石 ,  车荣哲 ,  郑载勋 ,  朴势周 ,  赵英云 ,  金东敏 ,  尹赫敏 ,  赵泰杓 ,  金炳郁

IPC: C09D179/08 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明公开使用于显示器的聚酰亚胺清漆组合物及包含其的聚酰亚胺膜。含有包含由下述化学式1表示的重复单元的聚酰亚胺及有机溶剂的聚酰亚胺清漆组合物，在下述化学式1中，A为衍生自酸二酐且碳原子数为6至30的芳烃基，B为衍生自二胺且碳原子数为6至30的芳烃基，A及B中至少一者包含硫元素。化学式1：#imgabs0#