公开(公告)号：CN106206232B

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201510315762.5

申请日：2015-06-10

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供基板处理装置，能稳定支承大型化了的支架并能防止因支架大型化导致闸室的大容量化，缩短闸室的气氛的切换时间。该基板处理装置包括：处理基板的处理室；收容基板的闸室；在处理室和闸室之间输送基板的输送室；设置在处理室中，分别保持不同基板的两个支架；支架移动机构，使两个支架在基板接收位置和基板处理位置之间移动，在基板接收位置使两个支架处于上下排列的状态；及基板输送机构，将收容于闸室中的基板以上下排列的状态统一输送到位于基板接收位置的两个支架上。此外，支架移动机构具备两个移动支架的线性运动机构、以及使两个支架转动的转动机构。此外，线性运动机构在比支架的移动方向上的两端更靠内侧的位置支承支架。

公开(公告)号：CN106128929A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201510641785.5

申请日：2015-09-30

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 中泽喜之 ,  小野田正敏

IPC: H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种不导致装置构成的复杂化及装置整体的大型化而确实地固定基板的基板固定装置。本发明的基板固定装置具备平台以及夹抓机构，其中，前述夹抓机构包括：多个夹具，其与基板的各边对应而设置，并可在将基板予以固定的固定位置、与将基板予以释放的释放位置之间移动；以及动力传达机构，其在对应于基板的相对向的两边之中的一边而设置的一边侧夹具、与对应于另一边而设置的另一边侧夹具之间传达用以移动夹具的驱动力；而动力传达机构具有：滑动构件，其随着前述一边侧夹具的移动、或随着对前述一边侧夹具传达驱动力的构件的移动而往预定方向滑动移动，来对前述另一边侧夹具传达驱动力。

公开(公告)号：CN101921990B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

公开(公告)号：CN117790320A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202310901126.5

申请日：2023-07-21

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏 ,  后藤亮介 ,  永尾友一 ,  宇井利昌

IPC: H01L21/425 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明涉及提供一种可降低形成显示器的TFT的氧化物半导体膜的电阻值的离子束照射装置及离子束照射方法。离子束照射装置设为在显示器面板的制造步骤中使用，且对于具有氧化物半导体膜的照射对象物(T)照射包含既定的离子的离子束，该离子束照射装置具备将照射对象物(T)加热的加热装置(30)，且构成为在加热装置(30)将照射对象物(T)加热之后，以使得至少一部分的离子可贯通氧化物半导体膜的方式照射离子束(IB)。

公开(公告)号：CN116072490A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202210850031.0

申请日：2022-07-19

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 大槻佑介 ,  小野田正敏 ,  西村一平

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明涉及一种基板固定装置，其能够实现马达的小型化，并且能够精密地控制基板相对于离子束的倾斜。本发明的基板固定装置具备：固定架，其固定被照射离子束的基板；以及驱动机构，其使固定架绕规定的轴旋转，来改变所固定的基板相对于离子束的倾斜；驱动机构具备：动力源，其输出使固定架旋转的动力；减速器，其设置于从动力源到固定架的动力传递路径的中途；第一轴部件，其通过从减速器输出的动力而与固定架一起旋转；第一检测器，其检测第一轴部件的旋转动作；以及动力控制部，其基于第一检测器的检测值控制动力源。

公开(公告)号：CN112153761A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN202010355827.X

申请日：2020-04-29

Applicant: 日新离子机器株式会社 ,  姫路理化股份有限公司

Inventor： 小野田正敏 ,  后藤亮介 ,  清水一男 ,  岸本康広

IPC: H05B3/02 ,  H05B3/44 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供加热装置，能够将加热器(30)插入真空腔室内并抑制由于电热丝(32)的光而端子部(33)被加热。一种加热装置，对基板(W)进行加热，具备收纳基板(W)的真空腔室(S2)以及插入真空腔室(S2)的内部的加热器(30)，加热器(30)具有：管状体(31)，贯通配置基板(W)的真空腔室(S2)的壁部设置；电热丝(32)，收纳在管状体(31)的内部，并且至少一部分配置在真空腔室(S2)内；以及端子部(33)，与电热丝(32)连接，端子部(33)配置在真空腔室(S2)的外部。

公开(公告)号：CN111413002A

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201911059736.5

申请日：2019-11-01

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 后藤亮介 ,  小野田正敏

IPC: G01K7/02 ,  G01K7/16 ,  G01K1/14 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供基板温度测定装置和半导体制造装置，基板的种类不限，采用接触式温度计能准确地测定基板温度。在用于被热源(H)加热的基板(S)的温度测定的基板温度测定装置(M)中，包括：具有和基板(S)相同的热透过率的小片(1)；安装有小片(1)的主体(3)；以及与小片(1)在第一方向上分开并安装在主体(3)上的热吸收构件(2)，小片(1)具有在第一方向上和热吸收构件(2)重叠的重复区域(G)，以及和热吸收构件(2)不重叠的非重复区域，非重复区域曝露在热源(H)下，接触式温度计(5)安装在重复区域(G)中。

公开(公告)号：CN111383973A

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201910783397.9

申请日：2019-08-23

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 西村一平 ,  小野田正敏

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种基板保持装置，能够避免使装置整体大型化且高成本而将基板从基板保持架抬起。基板保持装置具备：保持基板(W)的基板保持架(3)；使基板保持架(3)旋转的旋转机构(10)；多个升降销(P)，在位于比基板保持架(3)的基板载置面(3a)靠下方处的退避位置(x)与从该基板载置面(3a)突出的突出位置(y)之间升降移动；及动力传递机构(20)，介于旋转机构(10)与升降销(P)之间设置，将旋转机构(10)的使基板保持架(3)旋转的动力变换为使升降销(P)在退避位置(x)与突出位置(y)之间移动的动力而向升降销(P)传递。

公开(公告)号：CN119675378A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411104317.X

申请日：2024-08-13

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 丹羽雄一 ,  小野田正敏 ,  市南幸哉 ,  久田晋也 ,  桥野义和

IPC: H02K37/24 ,  H02K7/14 ,  H02K7/10 ,  H02K7/116 ,  H02K7/06 ,  H02P8/00 ,  H02P8/24 ,  H02P8/30

Abstract: 本发明涉及一种驱动装置及真空装置，其可较熟知更缩短移动体自开始既定的移动动作起至停止为止所需要的时间。使用在真空装置(1)的驱动装置(10A)具备连接于移动体(3A的驱动构件(14A)、步进马达(11)、动力传递单元(20A)、控制步进马达(11)的控制单元(13)及将驱动构件(14A)的停止位置信息传送至控制单元(13)的编码器(18A)。控制单元(13)根据停止位置信息而进行变更所设定的驱动脉冲数的脉冲数变更处理。

公开(公告)号：CN112153761B

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN202010355827.X

申请日：2020-04-29

Applicant: 日新离子机器株式会社 ,  姫路理化股份有限公司

Inventor： 小野田正敏 ,  后藤亮介 ,  清水一男 ,  岸本康広

IPC: H05B3/02 ,  H05B3/44 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供加热装置，能够将加热器(30)插入真空腔室内并抑制由于电热丝(32)的光而端子部(33)被加热。一种加热装置，对基板(W)进行加热，具备收纳基板(W)的真空腔室(S2)以及插入真空腔室(S2)的内部的加热器(30)，加热器腔室(S2)的壁部设置；电热丝(32)，收纳在管状体(31)的内部，并且至少一部分配置在真空腔室(S2)内；以及端子部(33)，与电热丝(32)连接，端子部(33)配置在真空腔室(S2)的外部。(30)具有：管状体(31)，贯通配置基板(W)的真空