公开(公告)号：CN111668143A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN202010124358.0

申请日：2020-02-27

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 上野宏优 ,  小野田正敏

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种可在外壳内冷却或加热经加热后的基板，并且可提高处理量的基板收容装置。本发明的解决手段为一种基板收容装置(10)，其具备：外壳(11)，在内部呈真空的状态下收容多片基板(S)；温度改变装置(40)，改变被收容于外壳(11)内的基板(S)的温度；以及移送机构(20)，在以既定间隔分离的状态下保持被收容于外壳(11)内的多片基板(S)，并且在外壳(11)内，将基板(S)从由外壳(11)的外部所送入的送入位置(F)，移送到用以送出至外壳(11)的外部的送出位置(E)为止；且移送机构(20)构成为：伴随着新的基板(S)被收容于外壳(11)内，从先被收容于外壳(11)的基板(S)开始依次移送到送出位置(E)。

公开(公告)号：CN108573842A

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201711143287.3

申请日：2017-11-17

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 西村一平 ,  丹羽雄一 ,  小野田正敏 ,  立道润一

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子源的装拆方法，能够实现离子源装拆作业效率的提高和离子源装拆机架结构的简化。离子束照射装置(ID)具有：外壳(12)，具有比配置离子束照射装置(ID)的地面(11)高的地面(4)，在内部收纳离子源(1)；以及通道(P)，从外壳(12)的外周端部朝向内侧形成在外壳(12)的地面的一部分上，形成有通道(P)的外壳(12)的地面的高度比其它部分低，与配置离子束照射装置(ID)的地面(11)的高度大致相同。

公开(公告)号：CN106206232A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510315762.5

申请日：2015-06-10

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供基板处理装置，能稳定支承大型化了的支架并能防止因支架大型化导致闸室的大容量化，缩短闸室的气氛的切换时间。该基板处理装置包括：处理基板的处理室；收容基板的闸室；在处理室和闸室之间输送基板的输送室；设置在处理室中，分别保持不同基板的两个支架；支架移动机构，使两个支架在基板接收位置和基板处理位置之间移动，在基板接收位置使两个支架处于上下排列的状态；及基板输送机构，将收容于闸室中的基板以上下排列的状态统一输送到位于基板接收位置的两个支架上。此外，支架移动机构具备两个移动支架的线性运动机构、以及使两个支架转动的转动机构。此外，线性运动机构在比支架的移动方向上的两端更靠内侧的位置支承支架。

公开(公告)号：CN114188202B

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202110715711.7

申请日：2021-06-25

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 后藤亮介 ,  小野田正敏 ,  中泽喜之

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种基板保持装置以及离子注入装置，能够抑制保持基板的支架变形。所述基板保持装置具备：保持基板的支架；与支架接合并规定支架的旋转轴的轴部件；以及支承轴部件的支架支承部件，通过使支架绕规定的旋转轴进行旋转动作而能够在倒伏位置与立起位置之间移动，支架具备：彼此分离地配置在旋转轴上的多个基板支承部件；以及将多个基板支承部件的一端部连结的第一连结部件，轴部件沿着所述旋转轴与各基板支承部件接合。

公开(公告)号：CN109516106B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201711143720.3

申请日：2017-11-17

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 丹羽雄一 ,  西村一平 ,  小野田正敏 ,  立道润一

IPC: B65G35/00 ,  B65G47/24

Abstract: 本发明提供离子源支承台，能够以稳定的状态使放置在离子源支承台(X)上的离子源(101)成为倒伏姿势。离子源支承台(X)用于放置离子源(101)，所述离子源(101)包括长条状的等离子体生成容器(10)和一对辊(31)，所述一对辊(31)设置于等离子体生成容器(10)的在与长边方向垂直的方向上相对的侧壁(11b)上，离子源支承台(X)包括：一对轨道(5)，在离子源(101)悬吊的状态下，可转动地放置一对辊(31)；以及牵引机构(6)，在一对辊(31)放置在一对轨道(5)上的状态下，将离子源(101)从轨道(5)的一端(A)侧向另一端(B)侧牵引。

公开(公告)号：CN103050359A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210394946.1

申请日：2012-10-17

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  C23C14/48 ,  C23C14/56

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/20221 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/6776

Abstract: 能束照射系统和工件传输机构。能束照射系统能在将能束有效地照射在工件上的同时实现显著的紧凑构造。能束照射系统包括能束发射机构、第一和第二轨道运动机构。能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件。第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿预定的第一轨道作轨道运动，第一轨道包括照射区域。第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿预定的第二轨道作轨道运动，第二轨道包括照射区域。当从垂直于由第一和第二轨道形成的理想轨道运动表面的方向观看时，由第一轨道包围的第一区域和由第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。工件传输机构包括第一和第二轨道运动机构。

公开(公告)号：CN101921990A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

公开(公告)号：CN111383973B

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN201910783397.9

申请日：2019-08-23

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 西村一平 ,  小野田正敏

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明提供一种基板保持装置，能够避免使装置整体大型化且高成本而将基板从基板保持架抬起。基板保持装置具备：保持基板(W)的基板保持架(3)；使基板保持架(3)旋转的旋转机构(10)；多个升降销(P)，在位于比基板保持架(3)的基板载置面(3a)靠下方处的退避位置(x)与从该基板载置面(3a)突出的突出位置(y)之间升降移动；及动力传递机构(20)，介于旋转机构(10)与升降销(P)之间设置，将旋转机构(10)的使基板保持架(3)旋转的动力变换为使升降销(P)在退避位置(x)与突出位置(y)之间移动的动力而向升降销(P)传递。

公开(公告)号：CN114188202A

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN202110715711.7

申请日：2021-06-25

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 后藤亮介 ,  小野田正敏 ,  中泽喜之

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供一种基板保持装置以及离子注入装置，能够抑制保持基板的支架变形。所述基板保持装置具备：保持基板的支架；与支架接合并规定支架的旋转轴的轴部件；以及支承轴部件的支架支承部件，通过使支架绕规定的旋转轴进行旋转动作而能够在倒伏位置与立起位置之间移动，支架具备：彼此分离地配置在旋转轴上的多个基板支承部件；以及将多个基板支承部件的一端部连结的第一连结部件，轴部件沿着所述旋转轴与各基板支承部件接合。

公开(公告)号：CN109427526A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810532390.5

申请日：2018-05-29

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 土肥正二郎 ,  小野田正敏 ,  高桥元喜

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/16 ,  H01J37/244

Abstract: 本发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P)，束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S)，防护罩(S)包括：前面防护罩(FS)，具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H)；后面防护罩(BS)，配置在与前面防护罩(FS)相对的位置；侧面防护罩(SS)，配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位，在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D)，门(D)兼用作后面防护罩(BS)。