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公开(公告)号:CN102629543B
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:CN201110303446.8
申请日:2011-10-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/265 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/31711
Abstract: 本发明提供离子注入方法和离子注入装置。该离子注入方法可以不受在基板面内形成的不均匀剂量分布的形状的限制,使作为不希望具有的剂量分布的过渡区域变小,并且可以缩短离子注入处理所需要的时间。该离子注入方法通过改变离子束(3)和基板(11)的相对位置关系,向基板(11)注入离子。而且,按照事先确定的顺序进行第一离子注入处理和第二离子注入处理,该第一离子注入处理在基板(11)上形成均匀的剂量分布,该第二离子注入处理在基板(11)上形成不均匀的剂量分布,并且在进行第二离子注入处理时向基板(11)上照射的离子束(3)的断面尺寸比在进行第一离子注入处理时向基板(11)上照射的离子束(3)的断面尺寸小。
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公开(公告)号:CN119675378A
公开(公告)日:2025-03-21
申请号:CN202411104317.X
申请日:2024-08-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明涉及一种驱动装置及真空装置,其可较熟知更缩短移动体自开始既定的移动动作起至停止为止所需要的时间。使用在真空装置(1)的驱动装置(10A)具备连接于移动体(3A的驱动构件(14A)、步进马达(11)、动力传递单元(20A)、控制步进马达(11)的控制单元(13)及将驱动构件(14A)的停止位置信息传送至控制单元(13)的编码器(18A)。控制单元(13)根据停止位置信息而进行变更所设定的驱动脉冲数的脉冲数变更处理。
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公开(公告)号:CN102629543A
公开(公告)日:2012-08-08
申请号:CN201110303446.8
申请日:2011-10-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/265 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/31711
Abstract: 本发明提供离子注入方法和离子注入装置。该离子注入方法可以不受在基板面内形成的不均匀剂量分布的形状的限制,使作为不希望具有的剂量分布的过渡区域变小,并且可以缩短离子注入处理所需要的时间。该离子注入方法通过改变离子束(3)和基板(11)的相对位置关系,向基板(11)注入离子。而且,按照事先确定的顺序进行第一离子注入处理和第二离子注入处理,该第一离子注入处理在基板(11)上形成均匀的剂量分布,该第二离子注入处理在基板(11)上形成不均匀的剂量分布,并且在进行第二离子注入处理时向基板(11)上照射的离子束(3)的断面尺寸比在进行第一离子注入处理时向基板(11)上照射的离子束(3)的断面尺寸小。
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