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公开(公告)号：CN105387882A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510759877.3
申请日：2015-11-10
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测工程设备监理有限公司
IPC: G01D11/26
CPC classification number: G01D11/26
Abstract: 本发明公开了一种应用于仪器的防护外罩，包括：一罩体,设于支撑所述仪器的隔振平台外围且与该隔振平台刚性连接；和一半圆弧形顶罩,可开合地罩盖在所述罩体的顶部；其中，所述半圆弧形顶罩具有一弧形后盖和一弧形翻转前盖，并且，该弧形后盖的左侧壁和该弧形翻转前盖的左侧壁于所述圆弧形顶罩的弧心位置铰接，该弧形后盖的右侧壁和该弧形翻转前盖的右侧壁于所述弧心位置铰接。当弧形翻转前盖向后翻转开启时，可扩大仪器的计量测试视野和作业空间，便于仪器的拆装和维修保养。当弧形翻转前盖向前翻转关闭时，罩体、半圆弧形顶罩、以及隔振平台合围形成容纳仪器的封闭空间，能够为仪器提供优良的实验环境。
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公开(公告)号：CN104236501A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410483545.2
申请日：2014-09-22
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B21/04
Abstract: 本发明公开了一种二维栅格板的栅格点系统误差自校准方法，利用测量精度不高于栅格板本身的二维影像测量仪作为测量工具,将二维栅格板通过承载夹具安装在影像测量仪工作台上。通过影像测量仪读取栅格板上每个栅格点的坐标，接着将栅格板相对初始位置旋转90度，再次读取栅格板上每个栅格点的坐标，然后以初始位置为基准向左及向右各平移一个栅格间距，再次读取栅格板上每个栅格点的坐标。针对上述4个栅格位置或更多位置下的测量数据，建立测量系统矩阵方程，基于最小二乘法可以求解出二维栅格板的栅格点系统误差。本发明实现了利用低精度的影像测量仪标定二维栅格板的功能，无需额外的高精度标定工具，适用于各种类型的二维栅格板的精度标定。
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公开(公告)号：CN110726378B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN201911100142.4
申请日：2019-11-12
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置及方法，在利用本发明的一种基于四象限光电探测器的三维微接触式测量装置对样品表面参数进行测量时，开启激光光源并对X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器进行校正之后，将测端球沿被测样品的表面接触扫描；测端球通过测针以及中心连接部带动四棱锥反射镜产生位置变化，从而使得四棱锥反射镜的三个反射面反射至X轴四象限光电探测器、Y轴四象限光电探测器、Z轴四象限光电探测器上的光斑产生偏移量；根据光斑所产生的偏移量可以得出测端球与样品表面接触点的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的坐标参数。
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公开(公告)号：CN110160464B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN201910490623.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法，利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时，通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差，并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差，根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见，本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。
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公开(公告)号：CN117629067A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311628512.8
申请日：2023-11-30
Abstract: 本发明提供一种基于探针干涉的三维微接触测头，包括探测组件、悬挂组件和传感单元，探测组件的下端形成测球，测球用于与样品表面相接触；悬挂组件将探测组件悬挂在空中；测球不受外力时，悬挂组件使探测组件的水平基准面保持水平；测球受外力时，悬挂组件限制探测组件只能沿中心轴线的方向上下移动或以转动中心为中心转动。上述三维微接触测头，可实现兼顾高精度、高动态特性的三维传感测量；通过优化设计，可实现三轴分辨力及刚度各向同性；传感单元和探测组件的分离式设计，使测头具备探测组件的互换性，可根据被测对象灵活更换具有不同尺寸和型号的测针的探测单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111487441A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202010451028.2
申请日：2020-05-25
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法，原子力显微镜扫描头固定设置，在测量过程中静止不动，原子力显微镜扫描头扫描测量被测物体表面的轮廓面参数并生成检测信号，原子力显微镜信号调理装置将检测信号调理之后传递给平台控制器，平台控制器根据检测信号控制定位平台相对原子力显微镜扫描头运动而使原子力显微镜扫描头沿着被测物体表面扫描检测，计算机对检测信号进行处理而得出被测物体表面轮廓的参数。由此可见，本发明的一种基于原子力显微镜的测量装置及台阶面测量方法，能够方便地进行测量，测量过程中，原子力显微镜扫描头保持静止，避免了振动导致的测量误差，提高了测量准确性。
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公开(公告)号：CN110160464A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910490623.4
申请日：2019-06-06
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法，利用本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置对被测工件的被测内孔进行检测时，通过第一检测杆、第二检测杆和第三检测杆在不同测量截面检测得出测量值并计算出被测内孔在测量截面上的圆度误差，并根据每个测量截面处第一检测杆、第二检测杆、第三检测杆以及倾角传感器的测量值计算得出被测内孔中心线的直线度误差，根据所得出的各测量截面上的圆度误差及被测内孔中心线的直线度误差就能够计算得出被测内孔的圆柱度误差。由此可见，本发明的一种用于测量内孔圆柱度的装置及其使用方法能够方便地对工件的内孔参数进行检测。
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公开(公告)号：CN116625193A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310588296.2
申请日：2023-05-23
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 上海计测信息科技有限公司
IPC: G01B5/02
Abstract: 本发明涉及一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及方法，通过采用两台共聚焦显微镜直接定位量块的两个测量面，实现量块长度的测量，无需借助辅助面，避免了采用其他原理单方向测量时存在的量块与辅助面研合间隙造成的测量误差，结果更为准确可靠。本发明涉及的一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置采用两台共聚焦显微镜对顶测量的方式，通过定位量块两个测量面实现测量，无需进行全范围扫描，仅需在量块的测量面附近进行慢速扫描，其余位置均可快速移动，在测量长度较长的量块时，可有效提升测量效率。
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公开(公告)号：CN115372368A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202211002888.3
申请日：2022-08-19
Applicant: 上海市计量测试技术研究院
Abstract: 本发明涉及一种亚表面多参数纳米标准样板及其制备方法，包括用于定位寻找校准位置的X向循迹标记、Y向循迹标记和对准标记，用于校准的Z向台阶校准区域、一维栅格校准区域和二维栅格校准区域，使用本发明的一种亚表面多参数纳米标准样板进行仪器校准时，可借助循迹标记和对准标记快速分辨当前位置并定位到待测区域，可用于共聚焦显微镜、白光干涉显微镜、超声原子力显微镜等亚表面测量仪器的校准及溯源，为亚表面几何参数测量中的量值准确性提供保障，助力半导体、精密制造、国防军工等战略性新兴产业的发展，具有高度产业利用价值。
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公开(公告)号：CN109238155A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811296986.6
申请日：2018-11-01
Applicant: 上海市计量测试技术研究院 , 中国计量大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明为一种采用等效物理结构模型测量SiO2薄膜厚度的方法，其特征在于：所述测量SiO2薄膜厚度的方法是基于椭偏法采用微纳米薄膜厚度标准样片结合等效物理结构模型进行测量Si/SiO2薄膜的厚度，所述的等效物理结构模型是根据Si/SiO2薄膜的实际多层膜物理结构模型建立的简化等效物理结构模型，实际多层膜物理结构模型顺序包括表面粗糙层、SiO2薄膜层、中间混合层及Si基底，其中所述的中间混合层为Si基底与SiO2薄膜层之间反应产生的SixOy产物膜层。本发明可保证不同厂家、型号的椭偏仪建立薄膜物理结构模型的统一性与结果的一致性，为建立和完善微纳米薄膜量值溯源体系奠定基础。
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