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公开(公告)号：CN107239005A
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201710504412.2
申请日：2012-05-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.恩德里斯
CPC classification number: G03F7/70075 , G03F7/70033 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G21K1/02
Abstract: 一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。
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公开(公告)号：CN106462076A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201480079475.2
申请日：2014-08-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/70158 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/708 , H01L23/544
Abstract: 由光刻工艺形成度量目标，每个目标包括底部光栅和顶部光栅。可以通过使用辐射照明每个目标并且观测衍射辐射中非对称性而度量光刻工艺的重叠性能。选择度量配方和目标设计的参数以便于最大化重叠测量的精度而不是可重复性。方法包括计算在(i)表示由顶部光栅衍射的辐射的第一辐射分量与(ii)表示在穿过顶部光栅和插入层之后由底部光栅衍射的辐射的第二辐射分量之间的相对幅度和相对相位的至少一个。顶部光栅设计可以修改以使得相对幅度接近均一。度量配方中照明辐射的波长可以调节以使得相对相位接近π/2或3π/2。
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公开(公告)号：CN103149807B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201310052891.0
申请日：2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置（13）将输出自曝光用光源（12）的曝光用光（EL）导向被照射物体（R）。照明光学装置(13)具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件(22)，各空间光调变构件(22)将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又，各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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公开(公告)号：CN105122139A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201380071158.1
申请日：2013-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a，515b)，所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500)，所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减，并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号：CN101685265B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN200910173716.0
申请日：2004-11-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 豊田光纪
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B5/3025 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4233 , G02B27/4261 , G03F7/70158 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种光学照明装置、曝光装置以及曝光方法。光学照明装置适用在将掩膜的图案转写到感光性基板的曝光装置中，使用来自光源而射出的直线偏光的光束、对配置掩膜的被照射面进行照明。光学照明装置包括：光束变换元件以及反射元件。光束变换元件将来自光源射出的直线偏光的光束、相对于被照射面变换成为以S偏光为主成份的偏光状态的光束而射出，且从光束变换元件射出的以S偏光为主成份的偏光状态的光束是：经由反射元件而照射到被照射面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101681117B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN200880015567.9
申请日：2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置13将输出自曝光用光源12的曝光用光EL导向被照射物体R。照明光学装置13具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件22，各空间光调变构件22将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又，各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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公开(公告)号：CN101685264B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN200910173714.1
申请日：2004-11-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 豊田光纪
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B5/3025 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4233 , G02B27/4261 , G03F7/70158 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种光学照明装置，适用在将配置在被照射面的掩膜的图案转写到感光性基板的曝光装置中，所述光学照明装置基于来自光源的光束而对所述被照射面进行照明，所述光学照明装置包括：光学元件，其利用有旋光性的光学材料形成；其中，所述光学元件的光学结晶轴配置成与所述照明光学装置的光轴方向一致；所述光学元件具有：在沿光的透过方向的厚度互异的多个部分。
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公开(公告)号：CN101793989B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201010143342.0
申请日：2005-08-30
Applicant: 数字光学东方公司
CPC classification number: G03F7/70075 , G02B5/0252 , G02B5/0263 , G02B5/0278 , G02B5/1809 , G02B27/281 , G02B27/286 , G03F7/70158 , G03F7/70566 , Y10T29/49
Abstract: 单块的偏振受控角漫射器包括：具有第一表面和第二表面的系统；用于在照明平面上提供角分布的受控角漫射器图案，该受控角漫射器图案在基板的第一和第二表面之一上；和在基板的第一和第二表面之一上的偏振图案。该受控角漫射器图案包括至少两个受控角漫射器元件。每个受控角漫射器元件都输出不同的角分布。偏振图案包括至少两个偏振元件。每个偏振元件都对应于各个受控角漫射器元件。所述至少两个偏振元件输出彼此旋转的偏振。
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公开(公告)号：CN102099743B
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：CN200980127435.X
申请日：2009-06-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： 马库斯·德冈瑟
CPC classification number: G03F7/70141 , G02B26/02 , G02B26/0833 , G02B26/101 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70158 , G03F7/702
Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括光栅元件(72)，其被配置为产生位于系统光瞳面(70)中的多个二次光源(95)。所述光栅元件(72)具有多个光入射面(92)，每个光入射面(92)与所述二次光源(95)之一关联。光束偏转装置包括反射或透射光束偏转元件(Mij)的光束偏转阵列(46)，每个光束偏转元件(Mij)被配置为在可以通过改变由所述光束偏转元件(Mij)产生的偏转角度而改变的位置处，照明所述光入射面(92)之一上的光斑(90)。控制单元(50)被配置为控制所述光束偏转元件(Mij)，使得可以在所述多个光入射面(92)的至少一个上形成由所述光斑(80)组合的可变光图案(LP)。
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公开(公告)号：CN101770162B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200910160237.5
申请日：2009-07-30
Applicant: 海力士半导体有限公司
IPC: G03F1/30
CPC classification number: G03F7/70158 , G03F1/50
Abstract: 本发明提供一种背侧相栅掩模及其制造方法。该掩模包括形成在基板前侧上的掩模图案以及形成在基板背侧上的相栅。掩模图案对应于斜图案的布局，该斜图案沿从直角坐标系的轴朝向预定方向旋转的方向延伸。相栅的延伸方向平行于所述掩模图案的延伸方向。相栅包括交替设置在基板背侧上的第一相区和第二相区，第一相区和第二相区之间具有180°的相差。第一相区和第二相区导致阻挡入射到基板的曝光光的零级光且允许初级光入射到掩模图案的相干涉。
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