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公开(公告)号：CN105606344B
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201610084052.0
申请日：2009-05-12
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G01M11/005 , G03F7/70116 , G03F7/70591
Abstract: 本发明提供一种检查装置，其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置(10)，其具备：共轭光学系统(11、12)，其配置于空间光调制器的光学上的下游侧，形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；光检测器(13)，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；检查部(14)，其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。
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公开(公告)号：CN109564389A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780044174.X
申请日：2017-05-19
Inventor： 朵妮丝·G·费杰洛 , 大卫·M·威尔森 , 史蒂芬·P·雷威克 , 丹尼尔·杰尼·史密斯 , 麦可·B·宾纳德
CPC classification number: G03F7/70033 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70283 , G03F7/70325
Abstract: 被专门配置为在目标工件(156)上印刷一维线的极紫外(EUV)光刻刻划引擎包括：EUV辐射源(114)；图案源(144)，其限定1D图案；照射单元(IU)，其被配置为辐照图案源(144)；以及投影光学(PO)，其被配置为以缩小因子N>1将1D图案光学成像在与1D图案光学共轭的像面上。图案源(144)的辐照可同轴或离轴。在1D图案具有第一空间频率时，其光学图像具有至少为第一空间频率的两倍的第二空间频率。图案源(144)可为平坦的或弯曲的。IU可以包括中继反射器(126)。PO的反射器可以包括多个空间上不同的反射元件(130,134)，其一同形成这样的反射器。该引擎被配置为不允许形成具有基本上等于图案源(144)的1D图案的节距的空间分辨率的任何2D图案的光学图像。
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公开(公告)号：CN107407891A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680018673.7
申请日：2016-02-15
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70075 , G03F7/70116 , H04B5/0081
Abstract: 本发明涉及一种光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，所述组合件包括反射镜布置(110，210，310，410)，其包括多个可相互独立地调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)，以及包含数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成控制数据以及供应电压，以控制各反射镜元件的调节，其中组合件设计为将控制数据和/或供应电流从数据和电压生成单元(120，220，320，420)以电隔离的方式传输到反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)。
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公开(公告)号：CN104541207B
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201380042232.7
申请日：2013-08-02
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.帕特拉
CPC classification number: G03F7/70058 , B82Y10/00 , G03F7/70008 , G03F7/70025 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70566 , G21K1/062 , G21K1/067 , H01S3/0903 , H05G2/00
Abstract: 一种EUV投射光刻投射曝光设备(1)的照明系统，包含光源(2)，其产生具有预定偏振态的EUV照明光的输出光束(3)。照明光学单元(5)沿光轴引导输出光束(3)，从而，掩模母版平面(15)中的照明场(14)由输出光束(3)照明。光源(2)包含电子束供应装置(2a)、EUV产生装置(2c)和偏振设定装置(25)。通过电子束供应装置(2a)为EUV产生装置(2c)供应电子束(2b)。偏振设定装置(25)对电子束(2b)施加可调偏转效应，用于设定输出光束(3)的偏振。因此导致以基于电子束的EUV光源为基础进行操作且提供针对分辨率优化的照明而改进的输出光束的照明系统。
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公开(公告)号：CN104854510B
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201380065563.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： M.莫尔
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B5/3075 , G02B5/3091 , G02B17/06 , G02B27/28 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
Abstract: 本发明涉及一种用于尤其在EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：反射镜装置(200)，由多个可相互独立调节的反射镜元件组成；以及至少一个偏振影响装置(100)，相对于光传播方向布置在所述反射镜装置(200)的上游，其中，所述偏振影响装置(100)具有一组第一反射表面(111、112、...)和一组第二反射表面(121、122、...)，其中，所述第一反射表面(111、112、...)能够彼此独立地倾斜，并且其中，在所述光学系统操作期间，取决于所述第一反射表面(111、112、...)的倾斜，经由所述第二反射表面(121、122、...)的相应不同一个可以将在所述第一反射表面(111、112、...)的相应一个处反射的光引导至所述反射镜装置(200)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106716256A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580051928.5
申请日：2015-08-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·P·高德福莱德 , 许贝特斯·P·L·H·范巴斯尔 , 威廉默斯·P·E·M·奥特罗特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02F1/133526 , G03F7/70133 , G03F7/7085
Abstract: 一种用于光刻设备的照射系统(IL)包括：透镜阵列(2a‑h)，被配置成接收辐射束(B)且将所述辐射束聚焦成多个子束(4a‑h)；反射元件阵列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；分束装置(10)，被配置成将所述照射束分裂成第一部分(12)和第二部分(14)，其中所述第一部分被引导以入射于光刻图案形成装置(MA)上：聚焦单元(22)，被配置成将所述照射束的所述第二部分聚焦至检测平面上使得在所述检测平面处形成图像，且其中所述图像是彼此并不重叠的所述子束的图像；及检测器元件阵列(24)，其被配置成测量入射于所述检测平面上的辐射的强度。
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公开(公告)号：CN103777471B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410019498.6
申请日：2008-10-23
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 谷津修
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B27/0927 , F21V9/14 , F21V13/02 , F21V14/003 , G02B27/0938 , G02B27/1086 , G02B27/126 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70566
Abstract: 一种照明光学设备具有光学单元(3)。所述光学单元具有：分光器(35)，用以使入射射束分裂成两个射束；第一空间光调制器(33)，其可布置于第一射束的光学路径中；第二空间光调制器(34)，其可布置于第二射束的光学路径中；和光组合器(36)，其将已通过所述第一空间光调制器的射束与已通过所述第二空间光调制器的射束组合；所述第一空间光调制器和所述第二空间光调制器中的每一者具有二维地布置且个别地被控制的多个光学元件(33a、34a)。
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公开(公告)号：CN103149806B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201310052720.8
申请日：2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置（13）将输出自曝光用光源（12）的曝光用光（EL）导向被照射物体（R）。照明光学装置(13)具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件(22)，各空间光调变构件(22)将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又，各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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公开(公告)号：CN105278256A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510282331.3
申请日：2015-05-28
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F1/0046 , G03F1/24 , G03F1/26 , G03F7/70091 , G03F7/70116 , G03F7/70125 , G03F7/70283 , G03F7/70308
Abstract: 本发明提供一种用于极紫外线光刻(EUVL)工艺的方法。方法包括：将二元相位掩模(BPM)加载至光刻系统，其中BPM包括两种相位状态并且限定在其上的集成电路(IC)图案；根据IC图案将光刻系统的照射装置设定为照射模式；根据照射模式将光瞳滤波器配置在光刻系统中；以及通过照射模式的光刻系统，利用BPM和光瞳滤波器对靶子执行光刻曝光工艺。本发明还提供了一种印制低图案密度部件的极紫外线光刻工艺。
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公开(公告)号：CN103488056B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201310320160.X
申请日：2008-09-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 谷津修
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70058 , G02B26/00 , G02B26/02 , G02B27/0927 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70158
Abstract: 一种照明光学系统，其在来自光源（1）的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件（6）可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件（3a）的空间光调制器（3）可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统（11）布置于其中。所述分布形成光学系统（11）基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
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