公开(公告)号：CN106062636B

公开(公告)日：2018-11-30

申请号：CN201580010247.4

申请日：2015-01-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  M·库珀厄斯 ,  A·M·雅库尼恩

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70433 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70483 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: 本发明公开了一种光刻系统，包括：具有失真投影系统(PS)的光刻设备(LA)；和辐射源(SO)，所述辐射源被配置为在等离子体形成位置(4)处生成发射EUV辐射的等离子体，发射EUV辐射的等离子体在基本上垂直于辐射源(SO)的光轴(OA)的平面内具有细长形状。

公开(公告)号：CN107807494A

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：CN201710788152.6

申请日：2017-09-05

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 大阪昇

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70066

Abstract: 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。提供在CD一致性这点上有利的曝光波长的控制技术。提供对被照明面进行照明的照明光学系统。照明光学系统具有：遮光板，形成开口部，该开口部规定被照明面中的照明区域的形状；调整部，进行遮光板的调整，以变更被照明面中的照明区域；以及波长选择部，选择对所述被照明面进行照明的光的波长，调整部根据由波长选择部选择的波长，使用遮光板来变更照明区域。

公开(公告)号：CN105807572A

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：CN201410855707.0

申请日：2014-12-31

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 石硕 ,  季汉川

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03B9/08 ,  G03B9/14 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/7055 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明公开了一种用于光刻机曝光分系统的自阻尼快门装置，包括：至少两片快门叶片，用于在快门关闭时切断曝光区域的光源；快门驱动臂，用于带动所述快门叶片同时开启或关闭；磁阻尼制动电机，用于驱动并制动所述快门驱动臂，磁阻尼制动电机通过所述快门驱动臂驱动并制动快门叶片。本发明公开的用于光刻机曝光分系统的自阻尼快门装置提高了快门叶片开启或关闭的一致性，提高了快门装置曝光遮光效果；提高了快门叶片开启或关闭过程中的稳定性；快门叶片完成开启或关闭动作时，不需要通电流，磁阻尼制动电机可以使快门叶片保持开或者闭的状态，缩短控制电流持续的时间，减少热耗散，节约能源。

公开(公告)号：CN105745580A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201480063069.7

申请日：2014-11-13

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.德冈瑟 ,  V.戴维登科 ,  T.科布 ,  F.施莱塞纳 ,  S.希尔特 ,  W.霍格勒

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包含：光瞳形成单元(36)，其引导光至空间光调制器(52)上，该空间光调制器以空间解析方式透射或反射照射光。物镜(58)，将该空间光调制器(52)的光离开表面(57)成像于光学积分器(60)的光进入分面(75)上，如此该光离开表面(57)上物体区域(110)的像(110')与所述光进入分面中的一个光进入分面完全重合。该光瞳形成单元(36)以及该空间光调制器(52)受到控制，使得该物体区域(110)由该光瞳形成单元(36)完全照明，并且至少部分且可变地防止与所述物体区域(110)中的点关联的投射光照射至所述光进入分面(75)中的所述一个光进入分面上。

公开(公告)号：CN104656378A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201410858447.2

申请日：2014-11-24

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·德冈瑟 ,  V·戴维登科 ,  T·科布 ,  F·施莱塞纳 ,  S·希尔特 ,  W·霍吉利

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，光入射分面的像至少基本上在掩模平面(88)中叠加。空间光调制器(52)以空间分辨方式透射或者反射投射光。光瞳形成单元将投射光引导到空间光调制器。物镜(58)将空间光调制器(52)的光出射面(57)成像到光学积分器(60)的光入射分面(75)上使得光出射面(57)上的目标区域(110)的像(110′)与光入射分面(75)中的一个完全重合。控制单元(90)控制空间光调制器(52)使得目标区域中的光图案形成在掩模(16)上的像的长度沿着扫描方向(Y)在扫描周期开始时逐渐地增大，在扫描周期结束时逐渐地减小。

公开(公告)号：CN103092006B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201310030574.9

申请日：2013-01-25

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 曾爱军 ,  朱玲琳 ,  方瑞芳 ,  黄惠杰

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09 ,  G02B3/00

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G02B3/0037 ,  G02B19/0047 ,  G02B26/101 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075

Abstract: 一种光刻照明系统，包括激光光源，沿激光光源的激光前进方向依次是准直扩束单元、光瞳整形单元、第一微透镜阵列、微积分棒阵列、微扫描狭缝阵列、第二微透镜阵列、聚光镜组和掩膜，运动控制单元控制所述的微扫描狭缝阵列的运动，本发明光刻照明系统减小了扫描狭缝的扫描行程和速度，降低了扫描狭缝振动带来的影响，提高了系统透过率，且具有结构简单的特点。

公开(公告)号：CN102236265B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201110103590.7

申请日：2011-04-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 森坚一郎

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70066 ,  G03F7/70091

Abstract: 本发明涉及光刻设备和制造物品的方法，该光刻设备包括：遮光板，该遮光板在其边缘上包括与圆形边界线重叠的弧形，该圆形边界线限定要将该图案转印到其上的区域，并且，该圆形边界线位于基板的外周的内侧，所述遮光板阻挡光以防止该光入射到位于圆形边界线的外侧的外周区域上；第一驱动单元，围绕与照射系统的光学轴平行的轴旋转所述遮光板；以及第二驱动单元，在垂直于光学轴的平面内线性驱动所述遮光板。

公开(公告)号：CN103412465A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201310270245.1

申请日：2013-07-01

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 曾爱军 ,  陈立群 ,  方瑞芳 ,  黄惠杰

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075

Abstract: 一种步进扫描投影光刻机的照明系统，沿光束传播方向，其构成包括光源、光瞳整形单元、视场定义单元、第一透镜阵列、第一狭缝阵列、第二透镜阵列、第三透镜阵列、第二狭缝阵列、第四透镜阵列、聚光镜和扫描驱动单元。本发明降低了透镜加工、狭缝扫描速度和狭缝扫描精度的要求，更容易实现。

公开(公告)号：CN103293873A

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201310062492.2

申请日：2013-02-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 铃木厚志 ,  平野真一

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/7085

Abstract: 本公开内容涉及曝光装置和使用曝光装置的器件制造方法。该曝光装置包括：遮光板，该遮光板被布置在与基板面共轭的面上并屏蔽光以防止光入射到基板上的圆形边界线外部的外周区域；关于与照明系统的光轴平行的轴旋转驱动遮光板的第一驱动单元；在与光轴垂直的面内直线驱动遮光板的第二驱动单元；检测遮光位置的检测单元；和控制单元，该控制单元存储基准时间点处的遮光位置和在基准时间点之后改变遮光板时的遮光板的改变前后的遮光位置，并基于在改变遮光板之后的任意时间点处由检测单元检测的遮光位置、基准时间点处的遮光位置和改变遮光板前后的遮光位置之间的差值来计算遮光位置的变化量。

公开(公告)号：CN103140802A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201180047361.6

申请日：2011-09-26

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.劳夫 ,  H.费尔德曼

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0891 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70283

Abstract: 一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20)，其包含反射镜主体，其具有至少一个EUV辐射反射区(23)及至少两个EUV辐射可穿透区(22)。因此，也可以较小入射角及较大物侧数值孔径形成照明和成像光束路径的空间分离。