• Patent Title: 照明光学装置、曝光装置及元件制造方法
  • Patent Title (English): Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
  • Application No.: CN200880015567.9
    Application Date: 2008-10-10
  • Publication No.: CN101681117B
    Publication Date: 2014-05-14
  • Inventor: 广田弘之
  • Applicant: 株式会社尼康
  • Applicant Address: 日本东京
  • Assignee: 株式会社尼康
  • Current Assignee: 株式会社尼康
  • Current Assignee Address: 日本东京
  • Agency: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
  • Agent 寿宁
  • Priority: 266691/2007 2007.10.12 JP
  • International Application: PCT/JP2008/068909 2008.10.10
  • International Announcement: WO2009/048170 EN 2009.04.16
  • Date entered country: 2009-11-10
  • Main IPC: G03F7/20
  • IPC: G03F7/20
照明光学装置、曝光装置及元件制造方法
Abstract:
照明光学装置13将输出自曝光用光源12的曝光用光EL导向被照射物体R。照明光学装置13具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件22,各空间光调变构件22将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又,各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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