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公开(公告)号:CN103149806B
公开(公告)日:2016-04-06
申请号:CN201310052720.8
申请日:2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor: 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置(13)将输出自曝光用光源(12)的曝光用光(EL)导向被照射物体(R)。照明光学装置(13)具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件(22),各空间光调变构件(22)将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又,各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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公开(公告)号:CN102301281B
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201080005865.7
申请日:2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor: A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15),第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关,用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如,第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24),它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置,使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关,所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统,利用该照明系统,可以影响特定的照明参数,从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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公开(公告)号:CN102804072A
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN201080062769.6
申请日:2010-12-13
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
Abstract: 本发明涉及用于在微光刻中使用的分面反射镜(6;10)。分面反射镜(6;10)具有预定用于引导EUV照明光(3)的部分光束的照明通道的多个分面(7;11)。借由包括致动器(31;35)且具有运动分量(32;dz';dz″)的调节装置(30;34),分面(7;11)的至少一些是可垂直于分面反射平面(xy;x'y';x″y″)移动的。这导致在分面反射镜中,与现有技术相比,可以较低的制造成本实现与目标照明规格相符的给定要求,当使用分面反射镜时,该给定要求必须被满足。
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公开(公告)号:CN101384966B
公开(公告)日:2012-10-10
申请号:CN200780005542.6
申请日:2007-02-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B27/0911 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70158
Abstract: 一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统,包括光源(30)和光学积分器(56)。后者具有第一光学子元件(561X、561Y、562X、562Y)并且产生每个发射光束的多个二次光源(82)。聚光器使得所述光束在掩模面(70)中重叠。至少一个散射结构(58、60)包括设置在所述二次光源前面或者后面的多个单独设计的第二光学子元件。所述第一和第二光学子元件被配置使得由相同的辐照分布照射的光学子元件被隔开5mm以上。
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公开(公告)号:CN102308364A
公开(公告)日:2012-01-04
申请号:CN201080006400.3
申请日:2010-02-02
IPC: H01L21/027 , G02B26/10 , G02B27/09 , G03F7/20
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B27/0961 , G03F7/70083 , G03F7/70191 , G03F7/70583
Abstract: 本发明提供一种激光曝光装置,其具备:第一蝇眼透镜(2),其扩大激光的截面形状;第一光程差调整构件(3),其配置于第一蝇眼透镜(2)的激光的入射侧且使向第一蝇眼透镜(2)的各聚光透镜(2a)分别入射的激光产生相位差;会聚透镜(4),其将从第一蝇眼透镜(3)射出的激光转变为平行光;第二蝇眼透镜(6),其将激光带来的光掩模的照明区域内的光强度分布均匀化;第二光程差调整构件(7),其配置于第二蝇眼透镜(6)的激光的入射侧,使向第二蝇眼透镜(6)的各聚光透镜(6a)分别入射的激光产生相位差。由此,将由蝇眼透镜产生的激光的干涉条纹平均化,同时降低激光的照度不均。
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公开(公告)号:CN101273304A
公开(公告)日:2008-09-24
申请号:CN200680032521.9
申请日:2006-09-05
Applicant: 萨热姆防务安全公司 , 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7055 , G03F7/70066 , G03F7/70083
Abstract: 本发明涉及用于光刻设备的照射器。本发明包括:光束(10)的光源(1’),其用于照射掩模(8)并使晶片(W)的范围曝光;至少一个微透镜主阵列(4);以及包括至少一个快门板(61)的快门(6),该快门板(61)包括对于光束(10)不透明的至少一个部分(612)和对于光束透明的多个部分(610),由此,所述板(61)可沿与该板基本平行的移动方向(X)相对于光束(10)移动,从而使不透明部分(612)可至少部分地阻挡光束或者使透明部分可至少部分地使光束(10)能够通过。本发明的特征在于,包括移动装置(9),其可使快门(6)的移动与掩模(8)和晶片(W)的移动同步,所述快门(6)位于邻近光学系统的光瞳(40,410)的范围(11)内,该光学系统至少包括微透镜主阵列(4)。本发明还涉及包括一个这种照射器的光刻设备。
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公开(公告)号:CN103713474A
公开(公告)日:2014-04-09
申请号:CN201410006090.5
申请日:2008-11-20
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70191
Abstract: 一种用于微光刻的照明光学部件,该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明的第一方面,照明光学部件(26)将照明光辐射束(3)分成多个辐射子束(28至30),该多个辐射子束被分配物场照明的不同照明角。照明光学部件(26)被配置以使辐射子束(28至30)中的至少一些在交叠平面中交叠,该交叠平面与物平面分开且不被成像到其中发生交叠的物平面。该交叠使得交叠辐射子束(28至30)的边缘(32)至少部分地重合。根据本发明的另一方面,场强度设定装置(24)包括多个相邻的单独的光阑(27),当对那里曝光时,该多个相邻的单独的光阑至少减弱照明光(3)。这些单独的光阑(27)在平行于物移动方向(v)的方向上可插入到照明光辐射束(3)中。场强度设定装置(24)的所有单独的光阑(27)可从同一侧插入到照明光辐射束(3)中。
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公开(公告)号:CN102171616B
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN200980138463.1
申请日:2009-08-31
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/702 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , Y10T29/49826
Abstract: 一种在用于EUV微光刻的投射曝光设备的照明光学部件中使用的场分面镜,用以将布置在物场中的物的结构传送到像场中。场分面镜(6)具有包含反射表面(22)的多个场面(18x)。所述场面(18x)彼此相邻的设置分布在基平面(xy)上。至少两个场面(18x)的反射表面(22)到基平面(x,y)上的投影关于至少一个以下参数不同:尺寸、形状、定位。场分面镜确保均匀的物场照明以及高EUV通过量同时符合高要求。
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公开(公告)号:CN102224459B
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:CN200980145873.9
申请日:2009-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G06F17/5081 , G03F1/144 , G03F1/36 , G03F7/70083 , G03F7/70125 , G03F7/70441 , G03F7/705 , G06F17/5068
Abstract: 本发明涉及光刻设备和过程,尤其涉及用于优化用在光刻设备和过程中的照射源和掩模的工具。根据特定的方面,本发明通过允许直接计算成本函数的梯度,显著地加速了所述优化的收敛。根据其它的方面,本发明允许同时优化源和掩模,由此显著地加速了整体的收敛。根据又一另外的方面,本发明允许自由形式的优化,且没有通过传统的优化技术所要求的限制。
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公开(公告)号:CN103149807A
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201310052891.0
申请日:2008-10-10
Applicant: 株式会社尼康
Inventor: 广田弘之
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291
Abstract: 照明光学装置(13)将输出自曝光用光源(12)的曝光用光(EL)导向被照射物体(R)。照明光学装置(13)具备排列成矩阵状的多个空间光调变构件(22),各空间光调变构件(22)将具有可动反射面的多个反射光学元件排列成矩阵状而分别构成。又,各空间光调变构件中的至少1个配置在从光源输出的光的光路内。
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