公开(公告)号：CN109581820A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811105201.2

申请日：2018-09-21

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 田卷纯一 ,  松崎宏行

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70191

Abstract: 本发明提供一种曝光装置。在具有放电灯的曝光装置中，在不损害分辨率的前提下，通过期望的光谱分布的光，对掩膜、光调制元件阵列等进行照明。在具有设置了放电灯(20D)和椭圆镜(20M)的光源部(20)以及照明光学系统(11)的曝光装置(1)中，照明光学系统(11)由光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)构成，并且光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)是从光源部侧起依次配置的。

公开(公告)号：CN104656378B

公开(公告)日：2018-06-05

申请号：CN201410858447.2

申请日：2014-11-24

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·德冈瑟 ,  V·戴维登科 ,  T·科布 ,  F·施莱塞纳 ,  S·希尔特 ,  W·霍吉利

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，光入射分面的像至少基本上在掩模平面(88)中叠加。空间光调制器(52)以空间分辨方式透射或者反射投射光。光瞳形成单元将投射光引导到空间光调制器。物镜(58)将空间光调制器(52)的光出射面(57)成像到光学积分器(60)的光入射分面(75)上使得光出射面(57)上的目标区域(110)的像(110′)与光入射分面(75)中的一个完全重合。控制单元(90)控制空间光调制器(52)使得目标区域中的光图案形成在掩模(16)上的像的长度沿着扫描方向(Y)在扫描周期开始时逐渐地增大，在扫描周期结束时逐渐地减小。

公开(公告)号：CN105278256B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201510282331.3

申请日：2015-05-28

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 卢彦丞 ,  游信胜 ,  陈政宏 ,  严涛南

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F1/0046 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70308

Abstract: 本发明提供一种用于极紫外线光刻(EUVL)工艺的方法。方法包括：将二元相位掩模(BPM)加载至光刻系统，其中BPM包括两种相位状态并且限定在其上的集成电路(IC)图案；根据IC图案将光刻系统的照射装置设定为照射模式；根据照射模式将光瞳滤波器配置在光刻系统中；以及通过照射模式的光刻系统，利用BPM和光瞳滤波器对靶子执行光刻曝光工艺。本发明还提供了一种印制低图案密度部件的极紫外线光刻工艺。

公开(公告)号：CN104656379B

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201410858448.7

申请日：2014-11-24

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M·德冈瑟 ,  V·戴维登科 ,  T·科布 ,  F·施莱塞纳 ,  S·希尔特 ,  W·霍吉利

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70425

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，每个光入射分面与次级光源(106)关联。空间光调制器(52)具有光出射面(57)，以空间分辨方式透射或反射照射的投射光。光瞳形成单元(36)将投射光引导到空间光调制器。物镜(58)，将空间光调制器的光出射面成像到光学积分器(60)的光入射分面(75)上。空间光调制器的光出射面包括目标区域(110)的组(54‑1至54‑8)，所述组通过未成像到光入射分面(75)上的区域(130)分隔开。物镜(58)组合目标区域(110)的像(110′)，从而使目标区域的像(110′)在光学积分器(60)上邻接。

公开(公告)号：CN105116694B

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201510622624.1

申请日：2015-09-25

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

Inventor： 齐鹏煜 ,  查长军 ,  王艳萍 ,  汪栋 ,  袁剑峰 ,  邵喜斌 ,  张焱 ,  肖金涛 ,  郭杨辰

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F1/38 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1303 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/70191

Abstract: 本发明提供一种掩膜版、曝光装置及曝光方法。所述掩膜版，包括基板以及设置在基板上的多个开口图形，在利用所述掩膜版对目标基板进行曝光时，基板上第一区域中的开口图形的光线透过量大于基板第二区域中的光线透过量，使得第一区域中多于第二区域的光线透过量能够对第二区域所对应的产品区域中的线宽进行补偿，令产品线宽的一致度大于设定值；所述第一区域和第二区域为基板上的两个区域。所述曝光装置包括本发明任意一项实施例所提供的掩膜版。本发明所提供的曝光方法，采用本发明任意一项实施例所提供的曝光装置对目标基板进行曝光。

公开(公告)号：CN104025257B

公开(公告)日：2017-09-19

申请号：CN201280064004.5

申请日：2012-10-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田中裕久 ,  大木裕史 ,  中岛伸一

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G02B5/3075 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70566

Abstract: 一种照明光学系统、曝光装置及组件制造、图像形成、照明与曝光方法，能够形成具有所需的光束剖面的光瞳强度分布。利用来自光源的光对被照射面进行照明的照明光学系统包括：空间光调变器，包括排列于规定面上且被个别地控制的多个光学组件，将光强度分布可变化地形成于照明光学系统的照明光瞳；发散角赋予构件，配置于包含与规定面成光学共轭的面的共轭空间内，对入射光束赋予发散角而射出；以及偏光构件，配置于规定面的附近位置或共轭空间，使经由光路传播的传播光束中的一部分光束的偏光状态发生变化。

公开(公告)号：CN104704406B

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201380053614.X

申请日：2013-10-15

Applicant: 北卡罗莱纳州立大学

Inventor： M.J.埃斯库蒂 ,  M.N.米斯基维奇 ,  金知焕

IPC: G02B5/32

CPC classification number: G02B5/3083 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/32 ,  G02B26/101 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70566 ,  G03H1/0248 ,  G03H1/0476 ,  G03H1/08 ,  G03H2001/0478 ,  G03H2222/31 ,  G03H2240/15

Abstract: 直写光刻装置包括配置成改变来自光源的光的极化定向角的极化选择器级、配置成将来自光源的光聚焦到在其焦平面处的斑点中的聚焦元件、以及配置成在至少两个维度中沿着布置成接近焦平面的极化敏感记录介质的表面扫描斑点使得相邻的扫描实质上重叠的扫描级。极化选择器级和扫描级被配置成彼此独立地进行操作。也讨论了相关的制造方法和由此制造的光学元件。

公开(公告)号：CN106886131A

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201611142628.0

申请日：2016-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 永井善之

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70308

Abstract: 提供一种曝光装置，使用相移掩模曝光基板，相移掩模包含在基准波长下使透射光的相位相互不同的第1区域及第2区域，曝光装置的特征在于包括第1变更部，变更照明所述相移掩模的光的照明波长；投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板；第2变更部，变更所述投影光学系统的球面像差；控制部，根据利用所述第1变更部变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长及所述基准波长，控制基于所述第2变更部的所述球面像差的变更，在变更为与所述基准波长不同的波长的所述照明波长下，照明所述相移掩模，使用具有根据所述照明波长及所述基准波长变更的所述球面像差的所述投影光学系统，将所述相移掩模的图案图像投影到所述基板。

公开(公告)号：CN103597404B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201280027886.8

申请日：2012-03-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 彼得·德亚格尔 ,  V·班尼恩 ,  约翰内斯·昂伍李 ,  L·史蒂文斯 ,  S·伍伊斯特尔 ,  N·伊欧萨德

IPC: G02F1/29 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/29 ,  G03F7/704

Abstract: 在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括：调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。

公开(公告)号：CN105629671A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201510786814.7

申请日：2015-11-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 水谷将树

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/7085

Abstract: 公开了照明光学装置和设备制造方法。提供了用于利用来自光源的光照明掩模的照明光学装置。该装置包括：光学积分器，被配置为通过使从入射端面入射的光在内表面中反射多次来使光强度分布在射出端面中均匀；图像形成光学系统，被配置为在掩模上形成光学积分器的射出端面的图像；及调节单元，被配置为调节光的远心度使得入射到掩模上的主光线与掩模的法线接近平行，并且被配置为布置在图像形成光学系统的外部。