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公开(公告)号：CN109964115A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201780068950.X
申请日：2017-11-08
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统包含：(若干)计算机子系统，其包含一或多个图像处理组件，其获取由检验子系统针对晶片产生的图像；主用户接口组件，其将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且接收来自所述用户的指令；及接口组件，其提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口之间的接口。不同于当前使用的系统，所述一或多个图像处理组件经配置用于通常将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测，且所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的所述缺陷。
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公开(公告)号：CN110709973B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201880036421.6
申请日：2018-06-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 可将来自热扫描的缺陷保存例如在永久存储装置、随机存取存储器或分离数据库上。所述永久存储装置可为基于区块的虚拟检验器虚拟分析器VIVA或本地存储装置。可确定重复者缺陷检测工作且可基于所述重复者缺陷检测工作检验晶片。可分析重复者缺陷且可从所述永久存储装置读取对应于所述重复者缺陷的缺陷记录。可将这些结果回传到高阶缺陷检测控制器。
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公开(公告)号：CN107710880A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680032513.8
申请日：2016-06-22
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H05H1/24
Abstract: 一种用于产生激光支持宽带光的系统，其包含：泵浦源，其经配置以产生泵浦光束；气体容纳结构，其用于容纳气体；及多通光学组合件。所述多通光学组合件包含一或多个光学元件，所述一或多个光学元件经配置以执行所述泵浦光束多次通过所述气体的一部分来支持发射宽带光的等离子体。所述一或多个光学元件经布置以收集透射通过所述等离子体的所述泵浦光束的未吸收部分且将所述泵浦光束的所述收集的未吸收部分导引回到所述气体的所述部分中。
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公开(公告)号：CN115485628B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113301699B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202110569605.2
申请日：2016-06-22
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请实施例涉及高效率激光支持等离子体光源。一种用于产生激光支持宽带光的系统，其包含：泵浦源，其经配置以产生泵浦光束；气体容纳结构，其用于容纳气体；及多通光学组合件。所述多通光学组合件包含一或多个光学元件，所述一或多个光学元件经配置以执行所述泵浦光束多次通过所述气体的一部分来支持发射宽带光的等离子体。所述一或多个光学元件经布置以收集透射通过所述等离子体的所述泵浦光束的未吸收部分且将所述泵浦光束的所述收集的未吸收部分导引回到所述气体的所述部分中。
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公开(公告)号：CN115485628A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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公开(公告)号：CN107077733A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580059583.8
申请日：2015-11-11
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G06K9/40 , G06K9/209 , G06K9/6202 , G06T5/002 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/20024 , G06T2207/30024 , G06T2207/30148 , G06T7/0002 , G06T5/20
Abstract: 对样本的增强型缺陷检测包含针对第一光学模式从样本的两个或多于两个位置获取来自所述样本的两个或多于两个检验图像。所述缺陷检测还基于针对所述第一光学模式来自所述两个或多于两个位置的所述两个或多于两个检验图像而针对选定缺陷类型产生经聚合缺陷分布，以及计算针对所述第一光学模式从所述两个或多于两个位置获取的所述两个或多于两个检验图像的一或多个噪声相关性特性。缺陷检测进一步包含基于所述所产生的经聚合缺陷分布及所述所计算的一或多个噪声相关性特性而产生用于所述第一光学模式的匹配滤波器。
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公开(公告)号：CN119256221A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380041313.9
申请日：2023-11-08
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种方法包含分别针对检验子系统的第一及第二模式产生样品的第一及第二模式测试、参考及差异图像。所述方法还包含组合所述第一及第二模式测试图像、所述第一及第二模式参考图像及所述第一及第二模式差异图像作为用于缺陷检测的输入。另外，所述方法包含至少基于所述第一及第二模式差异图像检测所述样品上的缺陷。
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