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公开(公告)号：CN113330481A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN202080009814.5
申请日：2020-01-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种样本特性化系统。在实施例中，所述样本特性化系统包含通信地耦合到检验子系统的控制器，所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的程序指令集的一或多个处理器，所述程序指令集经配置以导致所述一或多个处理器：获取样本的一或多个目标图像帧；利用所述一或多个所获取目标图像帧来产生目标张量；对所述目标张量执行第一组的一或多个分解过程以形成产生包含一或多个参考图像帧的一或多个参考张量；识别所述一或多个目标图像帧与所述一或多个参考图像帧之间的一或多个差异；及基于所述一或多个所识别差异来确定所述样本的一或多个特性。
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公开(公告)号：CN114341933B
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202080061753.7
申请日：2020-09-18
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种光学特性化系统及其使用方法。所述系统包括经配置以与经配置以从样本接收照明且产生图像数据的一或多个检测器通信地耦合的控制器。一或多个处理可经配置以：接收所述样本上的裸片的图像；计算所述图像的所有组合的相异性值；执行集群分析以将所述图像的所述组合分割成两个或更多个集群；使用所述两个或更多个集群中的集群中的所述图像的所述组合中的两者或更多者产生所述集群的参考图像；及通过比较所述集群中的测试图像与所述集群的所述参考图像来检测所述样本上的一或多个缺陷。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114341933A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061753.7
申请日：2020-09-18
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种光学特性化系统及其使用方法。所述系统包括经配置以与经配置以从样本接收照明且产生图像数据的一或多个检测器通信地耦合的控制器。一或多个处理可经配置以：接收所述样本上的裸片的图像；计算所述图像的所有组合的相异性值；执行集群分析以将所述图像的所述组合分割成两个或更多个集群；使用所述两个或更多个集群中的集群中的所述图像的所述组合中的两者或更多者产生所述集群的参考图像；及通过比较所述集群中的测试图像与所述集群的所述参考图像来检测所述样本上的一或多个缺陷。
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公开(公告)号：CN113330481B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202080009814.5
申请日：2020-01-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于使用张量分解及奇异值分解检验的系统及方法。在实施例中，样本特性化系统包含通信地耦合到检验子系统的控制器，所述控制器包含经配置以执行存储于存储器中的程序指令集的一或多个处理器，所述程序指令集经配置以导致所述一或多个处理器：获取样本的一或多个目标图像帧；利用所述一或多个所获取目标图像帧来产生目标张量；对所述目标张量执行第一组的一或多个分解过程以形成产生包含一或多个参考图像帧的一或多个参考张量；识别所述一或多个目标图像帧与所述一或多个参考图像帧之间的一或多个差异；及基于所述一或多个所识别差异来确定所述样本的一或多个特性。
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公开(公告)号：CN115485628A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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公开(公告)号：CN119343630A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046080.1
申请日：2023-11-17
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 提供用于检测倍缩光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统经配置用于基于针对晶片上的不同行中的第一经图案化区域产生的图像来产生所述不同行中的所述第一经图案化区域的多个例子的不同经堆叠差异图像。所述系统还经配置用于基于所述不同经堆叠差异图像执行双重检测。接着，所述系统基于通过所述双重检测而检测到的缺陷来识别所述倍缩光罩上的缺陷。如本文中进一步描述，所述系统及方法检测来自印刷于晶片上的多个倍缩光罩行的缺陷，此可减少噪声且实现基本上小中继器缺陷的检测。实施例对于极紫外(EUV)倍缩光罩及多裸片倍缩光罩(MDR)的高敏感度中继器缺陷检测尤其有用。
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公开(公告)号：CN115485628B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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