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公开(公告)号：CN115485628B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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公开(公告)号：CN116917721A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280017885.9
申请日：2022-05-11
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/95
Abstract: 一种系统包含通信地耦合到光学晶片特征化系统的检测器阵列的处理单元。所述处理单元经配置以执行包含以下步骤的方法或过程的一或多个步骤：从所述检测器阵列获取晶片上的目标位置的一或多个目标图像；将去噪滤波器应用到至少所述一或多个目标图像；从一或多个参考图像及所述一或多个目标图像确定一或多个差异图像；及上取样所述一或多个差异图像以产生一或多个经上取样图像。可在所述一或多个差异图像或所述经上取样图像中检测一或多个晶片缺陷。
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公开(公告)号：CN115485628A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032420.6
申请日：2021-05-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： 陈宏 , K·吴 , 李晓春 , J·A·史密斯 , E·希夫林 , 骆青 , M·库克 , W·W·司 , L·余 , B·布拉尔 , N·帕特威瑞 , N·特洛伊 , R·尹宗扎
IPC: G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G01N21/95 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。
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