半导体集成电路
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101232020B

    公开(公告)日:2010-08-18

    申请号:CN200710186823.8

    申请日:2007-11-22

    CPC classification number: H03K19/0008 H03K2217/0018

    Abstract: 本发明提供一种半导体集成电路,采用可实现高制造成品率的有源模式下的偏压技术,并减少在有源模式下的信号处理的动作功耗和信号延迟量的变动。用与CMOS电路(STC1)、(STC2)、(STC3)的PMOS、NMOS相同的制造工艺制造附加电容电路(CC1)的附加PMOS(Qp4)、附加NMOS(Qn4)。在电源布线(Vdd_M)与N阱(N_Well)之间连接附加PMOS(Qp4)的栅极电容,在接地布线(Vss_M)与P阱(P_Well)之间连接附加NMOS(Qn4)的栅极电容。电源布线(Vdd_M)的噪声通过栅极电容(Cqp04)而传递到N阱(N_Well),接地布线(Vss_M)的噪声通过栅极电容(Cqn04)而传递到P阱(P_Well)。能够降低CMOS电路(STC1)、(STC2)、(STC3)的PMOS、NMOS的源极阱之间的衬底偏压的噪声变动。

    半导体器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101667452A

    公开(公告)日:2010-03-10

    申请号:CN200910168293.3

    申请日:2009-08-24

    CPC classification number: G11C8/08 G11C11/412

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件,能够自动补偿存储单元写入和读出余量的劣化。半导体器件比较用于确定字线选择期间的字线定时信号和基准信号,在响应上述比较结果为读出余量低的状态时施加扩大读出余量的基板偏压,反之在该比较结果表示处于低写入余量状态时施加扩大写入余量的基板偏压。基准信号根据补偿随字线选择期间(字线脉冲宽度)变动的工作余量的情况、或在补偿因工艺变动(阈值电压的偏差)而变动的工作余量的情况来选择。通过根据字线脉冲宽度控制基板偏压能够改善随字线脉冲宽度变动的工作余量,另外,能够改善随制造时的阈值电压的偏差而变动的工作余量。

    半导体集成电路及其制造方法

    公开(公告)号:CN101206919A

    公开(公告)日:2008-06-25

    申请号:CN200710186826.1

    申请日:2007-11-22

    CPC classification number: G11C11/417

    Abstract: 一种半导体集成电路及其制造方法,其可以实现较高的制造成品率,并且补偿CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差。在SRAM的信息保存工作和写入工作和读出工作的任一有源模式下,对SRAM存储单元的MOS晶体管的衬底(阱)施加衬底偏压(Vbp、Vbn)。首先,测定SRAM的PMOS和NMOS的晶体管的阈值电压。根据测定结果,编程控制存储器(Cnt_MM1、2)的控制信息(Cnt_Sg1、2)。利用程序调整衬底偏压(Vbp、Vbn)的电平,CMOS型SRAM的MOS晶体管的阈值电压的标准离差被控制在规定的误差范围内。相对于施加给MOS晶体管的源极的工作电压,对MOS晶体管的衬底施加反偏置、或者极弱正偏置的衬底偏压。

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