半导体器件和存储介质

    公开(公告)号:CN101226937A

    公开(公告)日:2008-07-23

    申请号:CN200810003083.4

    申请日:2008-01-18

    CPC classification number: H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明提供一种半导体器件和存储介质,其目的在于降低具有构成逻辑电路的核心单元的半导体器件的电源噪声。在设在半导体衬底的主面上的构成逻辑电路的核心单元(CL)的上方,设置有与对核心单元(CL)供电的电源(Vdd)用的电源干线(PM1)电连接的支线(BL 1)和与对核心单元(CL)供电的电源(Vss)用的电源干线(PM2)电连接的支线(BL2)。使支线(BL1)和支线(BL2)彼此相对,在电源(Vdd)和电源(Vss)之间构成电容(C1)。

    半导体器件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101355083A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810128037.7

    申请日:2008-07-10

    CPC classification number: H01L27/11803 H01L27/0207

    Abstract: 提供一种半导体器件技术,能够实现半导体器件的高集成。标准单元设置在n-型阱中,并且包括p+-型扩散层和n+-型扩散层,其覆盖有金属硅化物膜。p+-型扩散层构成MIS晶体管的源极/漏极,并且n+-型扩散层构成抽头。p+-型扩散层经由接触电连接到布线层,并且n+-型扩散层经由接触电连接到布线层。此外,p+-型扩散层与n+-型扩散层接触。提供给MIS晶体管的源极节点的电源电势使用两层来提供,即,扩散层和布线层。

    半导体集成电路器件
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1741190A

    公开(公告)日:2006-03-01

    申请号:CN200510087600.7

    申请日:2005-07-28

    CPC classification number: G11C11/412

    Abstract: 本发明提供一种减小了漏电流的具有SRAM的半导体集成电路器件。在包括多个存储单元的SRAM中,提供衬底偏置切换电路,其中每个存储单元由存储器和选择MOSFET构成,在所述存储器中,两个反相器电路的输入端和输出端交叉连接,所述选择MOSFET设置在存储器和互补位线之间,并且其栅极连接到字线。在正常操作中,衬底偏置切换电路将电源电压提供给其中形成存储单元的P沟道MOSFET的N型阱,并将电路的地电位提供给其中形成N沟道MOSFET的P型阱。在备用状态下,衬底偏置切换电路将比电源电压低并且通过它使N型阱和P沟道MOSFET的源极之间的PN结不被正向偏置的预定电压提供给N型阱,并且将比地电位高并通过其使P型阱和N沟道MOSFET的源极之间的PN结不被正向偏置的预定电压提供给P型阱。

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