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公开(公告)号：CN104025278A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280064260.4
申请日：2012-12-20
IPC: H01L21/677 , C23C14/00 , C23C14/56 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/54 , H01L21/67017 , H01L21/67201
Abstract: 装载闭锁装置(1)具备：装载闭锁室(4)，其构成为内部能被真空排气，收纳处理对象物(S)；支撑台(13)，其收纳于装载闭锁室(4)的内部，支撑处理对象物(S)；以及慢速通气单元(15)，其设置于装载闭锁室(4)，向处于真空状态的装载闭锁室(4)的内部供应通气气体，使装载闭锁室(4)的内部切换为大气压状态。慢速通气单元(15)相对于支撑台(13)左右对称地配置。
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公开(公告)号：CN101784693A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880103599.4
申请日：2008-08-18
CPC classification number: C23C14/352 , C03C17/2453 , C03C2217/231 , C03C2217/948 , C03C2218/155 , C03C2218/156
Abstract: 本发明提供一种能够抑制由处理基板的充电所引起的异常放电的发生，能够对大面积的处理基板形成良好薄膜的溅射方法。向在溅射室(12)内与处理基板(S)相对并且以规定间隔并列设置的多片靶(41a)至(41h)中各成对的靶施加电力，并按照规定的频率交替改变极性，将各个靶交替转换为阳极电极、阴极电极，在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电，形成等离子体气氛，对各个靶进行溅射。在溅射中间歇地停止向各个靶施加电力。
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公开(公告)号：CN103283011A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201180062688.0
申请日：2011-10-25
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67706 , B65G49/061 , B65G49/063 , B65G2249/02 , H01L21/67709 , H01L21/67718
Abstract: 一种成膜装置，具备：L/UL室；H室，与L/UL室连通；SP室，与H室连通，并且被分割为独立的第一空间和第二空间；成膜单元，分别配置在第一空间及第二空间中；真空排气装置，独立设置在L/UL室、H室、第一空间及第二空间中，并用于分别真空排气这些的内部；四条线路，由贯通L/UL室及H室，并配置在第一空间及第二空间中的各去路和回路构成；运送装置，将被处理体沿着去路或回路运送；以及移动机构，在第一空间及第二空间的内部，将运送装置从去路向回路移动。
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公开(公告)号：CN101370959A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002218.9
申请日：2007-01-11
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/3464 , C23C14/352 , C23C14/54 , H01J37/3405 , H01J2237/0206 , H01J2237/022
Abstract: 提供一种溅射方法及溅射装置，在使用交流电源溅射成膜时，迅速检测出电弧放电的发生并切断交流电源的输出，可减小电弧放电时的能量并有效防止微粒和溅沫的发生。在真空室内11内设置的一对靶41a、41b上，通过交流电源E以规定的频率交替改变极性地施加电压，将各靶交替切换成为阳极电极、阴极电极，在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电形成等离子体气氛，从而对各靶进行溅射。并检测出向一对靶中输出的电压波形，当判断该输出电压波形的电压降时间比正常辉光放电的时间更短时，切断交流电源的输出。
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公开(公告)号：CN1572900A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410045720.6
申请日：2004-05-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/35 , H01L21/203
CPC classification number: H01J37/3408 , C23C14/086 , C23C14/352 , H01J37/3455
Abstract: 在本发明中，当靶(15)被溅射时，由于各个靶(15)相对基板(10)移动，溅射时基板(10)的全部区域变为都与靶(15)相对，可在基板(10)的表面上形成膜质均匀的膜。另外，在溅射时，由于不仅靶(15)相对基板(10)移动，磁场形成装置(25)也相对靶(15)移动，因此靶(15)的很宽区域被溅射。进而，如果使磁场形成装置(25)也相对基板(10)移动，则靶(15)就变为大部分被溅射的区域相对基板(10)移动，以使基板(10)上形成的膜的膜厚分布更均匀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103459653A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201180069851.6
申请日：2011-11-21
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , H01J37/34 , H01J37/3435
Abstract: 该阴极单元（220）用于成膜装置（200），包括：多个靶（C1、C2、C3），设置在成膜空间（50）内，并具有背板（204）、第一母材（205）、第二母材（206）和旋转轴（207），所述背板具有第一主面（204a）、第二主面（204b）、第一侧面（211）及第二侧面（212），多个旋转轴（207）以相互平行地排列的方式配置在同一平面内；多个控制部（E1、E2、E3），使所述旋转轴（207）旋转，并对所述靶（C1、C2、C3）施加用于溅射的电压；多个磁场生成部（H1、H2、H3），设置在靠近所述背板（204）的远离所述成膜空间（50）的表面的位置，使得在所述背板（204）的靠近所述成膜空间（50）的表面生成特定的分布磁场。
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公开(公告)号：CN103329257A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201180065526.2
申请日：2011-10-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , C23C14/50
CPC classification number: B65G49/063 , B65G49/061 , B65G2249/02 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67706 , H01L21/67709 , H01L21/67712 , H01L21/6776
Abstract: 一种被处理体的运送机构具备：运送部件，在下部具备圆柱状的滑动轴并运送被处理体；支撑部件，由具备与所述滑动轴相接并引导所述运送部件的U字状的槽部的多个辊构成，在所述被处理体的运送机构中，所述滑动轴及所述辊中一方的至少接触部由包括硅、铝、氧及氮的块体构成，所述滑动轴及所述辊中另一方的至少接触部由不锈钢构成。
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公开(公告)号：CN102097270A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010580566.8
申请日：2010-12-09
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01J23/087 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供一种用于磁控管溅射电极的磁铁组以及溅射装置，其不必更换磁铁组即可简单地改变靶的腐蚀区域，使靶的使用效率高。在溅射室内以彼此相对设置的靶朝向基板的方向为上，所述磁铁组设置在靶的下侧，在靶的上方形成隧道形的磁力线，所述述磁铁组包括：沿靶长度方向呈线状设置的中央磁铁，以及由中央磁铁两侧平行延伸的直线部和分别连接各直线部两端的拐弯部构成的无端头形状的周边磁铁，用以改变靶一侧的极性，还具有通过相对移动前述中央磁铁和周边磁铁的直线部，即可改变中央磁铁及周边磁铁彼此间隔的变更装置。
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公开(公告)号：CN101512038B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200780032826.4
申请日：2007-08-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3464 , H01J37/34 , H01J37/3444
Abstract: 提供一种薄膜形成方法以及实施该薄膜形成方法的薄膜形成装置，其并联设置了多个与交流电源连接的电极对，比较该并联设置的电极对中与不同的交流电源连接的彼此相邻电极间的输出，当输出电位差超过规定值的情况下，通过调整上述交流电源的输出，使输出电位差收敛到上述规定值以下。
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公开(公告)号：CN101370959B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200780002218.9
申请日：2007-01-11
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/3464 , C23C14/352 , C23C14/54 , H01J37/3405 , H01J2237/0206 , H01J2237/022
Abstract: 提供一种溅射方法及溅射装置，在使用交流电源溅射成膜时，迅速检测出电弧放电的发生并切断交流电源的输出，可减小电弧放电时的能量并有效防止微粒和溅沫的发生。在真空室内11内设置的一对靶41a、41b上，通过交流电源E以规定的频率交替改变极性地施加电压，将各靶交替切换成为阳极电极、阴极电极，在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电形成等离子体气氛，从而对各靶进行溅射。并检测出向一对靶中输出的电压波形，当判断该输出电压波形的电压降时间比正常辉光放电的时间更短时，切断交流电源的输出。
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