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公开(公告)号：CN113930746A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202111192285.X
申请日：2016-02-13
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 本发明涉及用于增强衬底制品及装置的性质及性能的涂层。本发明描述适用于多种衬底制品、结构、材料及设备的涂层。在各种应用中，所述衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。
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公开(公告)号：CN111593324A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010449411.4
申请日：2016-02-13
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , B01D46/00 , B01D46/54
Abstract: 本申请描述了一种多孔基质过滤器及其制作方法。在各种应用中，衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。
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公开(公告)号：CN111519166A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010448514.9
申请日：2016-02-13
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C23C16/44 , C23C16/455
Abstract: 本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中，所述衬底部分包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。
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公开(公告)号：CN115110060A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210304547.5
申请日：2022-03-21
Applicant: 恩特格里斯公司
Inventor： N·困达 , J·纳拉亚纳莫奥瑞思 , C·瓦尔德弗里德
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/30
Abstract: 本申请涉及具有氟化钇涂层的衬底，以及制备和使用所述衬底的方法。描述衬底，其包含：高纵横比表面和非高纵横比表面、至少两个涂层，一个涂层位于高纵横比表面处且第二涂层位于非高纵横比表面处，且具有氟化外表面；制备这些涂层的方法；以及包含所述涂层的衬底、表面、设备和设备组件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109023303A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201811031909.8
申请日：2016-02-13
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C23C16/44 , C23C16/455
CPC classification number: C23C28/044 , C23C14/243 , C23C14/50 , C23C16/042 , C23C16/403 , C23C16/404 , C23C16/405 , C23C16/4404 , C23C16/4412 , C23C16/45525 , C23C16/45555 , C23C16/56 , C23C28/042
Abstract: 本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中，所述衬底部分包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。
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公开(公告)号：CN119095946A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202380036832.6
申请日：2023-03-21
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: C11D3/00 , C11D3/06 , C11D3/065 , C11D3/20 , C11D3/34 , C11D3/32 , C11D1/66 , C11D7/32 , C11D7/16
Abstract: 本发明提供用于存在二氧化铈的化学机械抛光后清洁操作的组合物。在一个方面中，本发明提供一种包含还原剂、螯合剂、氨基(C6‑C12烷基)醇和水的组合物；其中所述组合物具有小于约8的pH。可发现本发明的组合物在例如多晶硅(poly Si)衬底上显示出改进的二氧化铈的去除。还提供一种使用这些组合物清洁微电子装置衬底的方法以及一种在一或多个容器中包含所述组合物的选定组分的试剂盒。
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公开(公告)号：CN114517284A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202111367249.2
申请日：2021-11-18
Applicant: 恩特格里斯公司
Abstract: 本申请涉及涂覆有抗裂氟退火膜的制品及制造方法。提供与具有优异的抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的使用寿命的涂层相关的制品及方法。制品具有真空兼容衬底及覆盖所述衬底的至少一部分的保护膜。所述膜包括含钇的氟化金属氧化物，其中使用AC电源沉积氧化钇。所述膜在所述膜的30％总厚度的深度处具有至少10的氟原子％，并且所述膜不具有当使用激光共聚焦显微镜以1000倍的放大率观察所述膜的整个深度时可见的在所述膜的表面下方的表面下裂纹。
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公开(公告)号：CN107615462A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680018518.5
申请日：2016-02-13
Applicant: 恩特格里斯公司
IPC: H01L21/56 , H01L21/205
CPC classification number: C23C28/044 , C23C14/243 , C23C14/50 , C23C16/403 , C23C16/404 , C23C16/405 , C23C16/4404 , C23C16/4412 , C23C16/45525 , C23C16/45555 , C23C28/042
Abstract: 本发明描述适用于多种衬底制品、结构、材料及设备的涂层。在各种应用中，所述衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。
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