公开(公告)号：CN107532283A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201580078965.5

申请日：2015-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  N·困达 ,  D·拉德戈斯基 ,  C·凡卡拉曼

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/48 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供与具有优良抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的寿命的涂层有关的物件及方法。一种物件具有真空兼容衬底及上覆于所述衬底的至少一部分上的保护膜。所述膜包括含有钇的氟化金属氧化物。

公开(公告)号：CN107532283B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201580078965.5

申请日：2015-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  N·困达 ,  D·拉德戈斯基 ,  C·凡卡拉曼

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/48 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供与具有优良抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的寿命的涂层有关的物件及方法。一种物件具有真空兼容衬底及上覆于所述衬底的至少一部分上的保护膜。所述膜包括含有钇的氟化金属氧化物。