公开(公告)号：CN115485411A

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN202180032124.6

申请日：2021-04-14

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德 ,  S·隆戈 ,  P·蒂亚吉

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明描述氟化钇组合物，包括含有氟化钇的沉积膜，例如涂层；制备氟化钇组合物和含有氟化钇的沉积膜涂层的方法；以及具有在表面处含有氟化钇的沉积膜涂层的衬底和包括所述衬底的方法和设备。

公开(公告)号：CN111593324A

公开(公告)日：2020-08-28

申请号：CN202010449411.4

申请日：2016-02-13

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  D·W·彼得斯 ,  李卫民 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  R·A·库克 ,  N·困达 ,  林奕宽

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  B01D46/00 ,  B01D46/54

Abstract: 本申请描述了一种多孔基质过滤器及其制作方法。在各种应用中，衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。

公开(公告)号：CN111519166A

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN202010448514.9

申请日：2016-02-13

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  D·W·彼得斯 ,  李卫民 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  R·A·库克 ,  N·困达 ,  林奕宽

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中，所述衬底部分包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。

公开(公告)号：CN118696406A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202380022029.7

申请日：2023-02-24

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： J·莱辛斯基 ,  S·唐奈 ,  刘研 ,  C·明斯基 ,  C·凡卡拉曼 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 描述用于在处理工件的步骤期间支撑所述工件的静电卡盘，所述静电卡盘包含在绝缘层上的电荷消散线的图案，所述线具有第一导电层及第二导电层且经布置以在所述线之间定义所述绝缘层的封闭场。

公开(公告)号：CN114868225A

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN202080089408.4

申请日：2020-12-08

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明描述有效抑制固体材料中存在的杂质自所述固体材料的表面流动和释放的扩散阻障，以及表面上具有扩散阻障的物品，制备表面上包括扩散阻障的物品的方法，包括表面上具有扩散阻障的物品的设备，和使用所述物品和设备的方法；所述扩散阻障包括至少两种不同阻障材料。

公开(公告)号：CN113913783A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202110776379.5

申请日：2021-07-09

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德 ,  S·隆戈

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/56 ,  C23C16/455

Abstract: 本申请案涉及含有氟化氧化钇及金属氧化物的涂层以及制备及使用所述涂层的方法。本发明描述含有氟化氧化钇及金属氧化物的涂层；制备这些涂层的方法；包含含有氟化氧化钇与金属氧化物的组合的涂层的衬底、表面、设备及设备组件；以及制备及使用所述涂层及经涂覆衬底的方法。

公开(公告)号：CN109023303A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201811031909.8

申请日：2016-02-13

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  D·W·彼得斯 ,  李卫民 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  R·A·库克 ,  N·困达 ,  林奕宽

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C28/044 ,  C23C14/243 ,  C23C14/50 ,  C23C16/042 ,  C23C16/403 ,  C23C16/404 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555 ,  C23C16/56 ,  C23C28/042

Abstract: 本申请描述了一种衬底部分上的复合原子层沉积ALD涂层及一种在衬底部分上形成经图案化ALD涂层的方法。在各种应用中，所述衬底部分包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。

公开(公告)号：CN115896569A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202211209427.3

申请日：2022-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: C22C23/00 ,  C23C22/34 ,  B22F10/20 ,  B22F10/25 ,  B22F10/28 ,  B33Y10/00

Abstract: 一些实施例涉及具有钝化表面的增材制品及相关方法。所述方法可包括通过增材制造形成三维3D制品以获得包括镁组分的增材制造3D制品。所述方法可进一步包括使所述增材制造3D制品暴露于包括氟组分的反应性气相。来自所述反应性气相的所述氟组分可与所述增材制造3D制品的所述镁组分反应以在所述增材制造3D制品的表面处及下方形成钝化层。

公开(公告)号：CN115874164A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211210465.0

申请日：2022-09-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  C23C16/40 ,  C23C16/30 ,  B33Y40/20 ,  B33Y80/00

Abstract: 一些实施例涉及具有涂层表面的增材制品及相关方法。所述方法可包括：通过增材制造形成三维3D制品以获得具有不能通过机械加工构造的整体结构的增材制造3D制品；及使所述增材制造3D制品暴露于一或多种前驱气体以在所述增材制造3D制品的表面上形成涂层。所述增材制品可包括增材制造三维3D主体。所述增材制造3D主体可具有不能通过机械加工构造的整体结构。所述增材制造3D主体可在所述增材制造3D主体的表面上具有涂层。

公开(公告)号：CN115110060A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210304547.5

申请日：2022-03-21

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： N·困达 ,  J·纳拉亚纳莫奥瑞思 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/30

Abstract: 本申请涉及具有氟化钇涂层的衬底，以及制备和使用所述衬底的方法。描述衬底，其包含：高纵横比表面和非高纵横比表面、至少两个涂层，一个涂层位于高纵横比表面处且第二涂层位于非高纵横比表面处，且具有氟化外表面；制备这些涂层的方法；以及包含所述涂层的衬底、表面、设备和设备组件。