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公开(公告)号：CN119916517A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510050443.X
申请日：2025-01-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明提供了一种高信噪比反射式体布拉格光栅滤光片的制备方法。通过光强调制板实现折射率调制度在体光栅滤光片厚度方向上呈现中心高、两侧逐渐降低的任意函数分布，从而优化折射率调制度分布，显著提升信噪比，有效抑制信道间串扰，在3nm的光谱范围内，具有超过60dB的信噪比，在光通信、光谱滤波及光学显示等领域展现出重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN107475777A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710576936.2
申请日：2017-07-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 杭州锐研科技有限公司
Abstract: 一种用于KDP类晶体的高精密油浴退火炉，包括保温筒、保温盖，在保温筒内设有内筒，在保温筒的内壁上安装有加热器，在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环，保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道，内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连，出油管的出油端与油泵的进口连接，在出油管旁边安装进油管，进油管的进油端与油泵的出口相连，进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具有很高的温度均匀性，待退火的晶体附近的温度均匀性在±0.1℃以内，可以为提升KDP类晶体的退火温度、达到较为理想的退火效果提供有力的保障。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107326438A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201710409731.5
申请日：2017-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种KDP类晶体的生长装置，包括供晶体放置的晶体托盘、搅拌桨、搅拌桨连杆、旋转轴、驱动电机、晶体生长槽本体和生长槽上盖，其特点在于，还包括至少两根侧杆，所述的晶体托盘通过所述的侧杆与生长槽上盖相连，所述的搅拌桨通过所述的搅拌桨连杆与所述的旋转轴的下端相连，该旋转轴的上端与所述的驱动电机相连。本发明使得整个晶体生长过程中静止在晶体托盘上的晶体不会振动，晶体附近不易产生杂晶，同时能够保证晶体表面和整个生长槽内区域的联通，有利于晶体生长边界层附近的溶质传输和供应，有利于快速地生长出更均匀优质的KDP类晶体。
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公开(公告)号：CN105603525A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610072296.7
申请日：2016-02-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于KDP类晶体生长的载晶架，包括载晶板、两个侧杆、上横杆、两个搅拌桨以及旋转轴，所述的两个侧杆上端与上横杆的连接处通过圆角平滑连接，所述的上横杆的旋转轴两边对称的位置各安装一个梯形体搅拌桨，该搅拌桨的棱边均为圆角，通过搅拌桨连杆固定在上横杆上。模拟分析和流场显示实验表明，本发明最小限度的降低了对溶液的微扰，保证了溶液的稳定性；在整个生长槽中形成多个大型涡流，能够联通晶体表面和整个生长槽内的区域，使溶质宏观分布更加均匀，特别是有利于晶体生长边界层附近的溶质传输和溶质供应。晶体生长实验表明，本发明可以明显降低产生包藏等缺陷的几率，加快晶体的生长速度，生长出更均匀、更高质量的晶体。
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公开(公告)号：CN107475776B
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201710576931.X
申请日：2017-07-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 杭州锐研科技有限公司
Abstract: 一种用于KDP类晶体的油浴退火炉，包括保温筒、保温盖，在保温筒内设有内筒，在保温筒的内壁上安装有加热器，在内筒内设有晶体支撑板，还包括搅拌叶轮和固定在所述的保温盖上的搅拌电机，该搅拌叶轮由搅拌电机带动，在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环，保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道，内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连，出油管的出油端与油泵的进口连接，在出油管旁边安装进油管，进油管的进油端与油泵的出口相连，进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具有很高的温度均匀性，试验结果表明，待退火的晶体附近的温度均匀性在±0.05℃以内，可以为提升KDP类晶体的退火温度、达到较为理想的退火效果提供有力的保障。
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公开(公告)号：CN107475777B
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201710576936.2
申请日：2017-07-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 杭州锐研科技有限公司
Abstract: 一种用于KDP类晶体的高精密油浴退火炉，包括保温筒、保温盖，在保温筒内设有内筒，在保温筒的内壁上安装有加热器，在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环，保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道，内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连，出油管的出油端与油泵的进口连接，在出油管旁边安装进油管，进油管的进油端与油泵的出口相连，进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具有很高的温度均匀性，待退火的晶体附近的温度均匀性在±0.1℃以内，可以为提升KDP类晶体的退火温度、达到较为理想的退火效果提供有力的保障。
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公开(公告)号：CN107475776A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710576931.X
申请日：2017-07-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 杭州锐研科技有限公司
Abstract: 一种用于KDP类晶体的油浴退火炉，包括保温筒、保温盖，在保温筒内设有内筒，在保温筒的内壁上安装有加热器，在内筒内设有晶体支撑板，还包括搅拌叶轮和固定在所述的保温盖上的搅拌电机，该搅拌叶轮由搅拌电机带动，在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环，保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道，内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连，出油管的出油端与油泵的进口连接，在出油管旁边安装进油管，进油管的进油端与油泵的出口相连，进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具有很高的温度均匀性，试验结果表明，待退火的晶体附近的温度均匀性在±0.05℃以内，可以为提升KDP类晶体的退火温度、达到较为理想的退火效果提供有力的保障。
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