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公开(公告)号：CN114815025B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202210596749.1
申请日：2022-05-17
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种大占宽比亚波长周期光栅结构制备方法，采用Bosch刻蚀技术在硅衬底上制备出侧壁带有锯齿状结构的光栅母版，使用纳米压印技术将光栅母版结构转移到压印胶中，然后采用镀膜技术沉积一层薄膜材料作为掩膜，最后通过lift‑off工艺将压印胶图形剥离并形成大占宽比光栅结构。本发明利用Bosch刻蚀技术形成的光栅侧面锯齿状结构替代传统负性光刻胶的倒梯形结构，避免了因镀膜过程中薄膜材料对光栅结构的包裹导致的lift‑off剥离困难问题，并解决了因负性光刻胶光刻胶分辨率不足导致的大占宽比、亚波长周期光栅结构制备难题，为大占宽比、亚波长周期光栅结构的制备提供了一种新的思路。
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公开(公告)号：CN116698365A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310509612.2
申请日：2023-05-08
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种啁啾体光栅的啁啾率测量方法，包括构建测量光路；开启激光器和能量探测器；通过调整角度调节台和平移台控制待测啁啾体光栅样品与激光器输出光束的夹角和相对位置，记录啁啾体光栅发生衍射时的角度和位置，并计算角度平均值；根据公式计算得到待测啁啾体光栅样品的啁啾率。本发明测量原理简单，计算方法明了，可实现对任意规格啁啾体光栅的啁啾率测量。
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公开(公告)号：CN113805414B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202111181959.6
申请日：2021-10-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03B21/14
Abstract: 本发明涉及一种曲面投影的方法，所需投影图像、所需投影曲面和初始源平面光场关联结构存在的对应关系式，通过所需投影图像灰度信息、所需投影曲面位置信息可推导初始源平面光场的关联结构信息，携带该关联结构初始源平面光场经过自由空间衍射可在所需投影曲面上投影所需投影图像。
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公开(公告)号：CN112799160B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202110119781.6
申请日：2021-01-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光致热折变玻璃的啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁啾体光栅的制备方法，所述的曝光装置至少包括一个发散柱面透镜系统和一个会聚柱面透镜系统，所述的啁啾体光栅的制备方法为变焦距对称入射的双柱面波干涉法，包括使不同焦距的一束发散柱面光束和一束会聚柱面光束在光致热折变玻璃处干涉，并在其体内形成周期渐变的干涉条纹，经热显影处理后得到任意啁啾率的啁啾体光栅。本发明提供了一种啁啾体光栅制备的曝光夹角、曝光距离、柱面透镜系统焦距等参数的计算方法，并在此基础上形成了啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁啾体光栅的制备方法，实现任意啁啾率的啁啾体光栅的制备。
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公开(公告)号：CN113337894A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110557849.9
申请日：2021-05-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种在掺铈钇铝石榴石闪烁晶体表面使用反应离子束刻蚀的具有二维周期阵列的蛾眼式微结构，微结构参数包括周期、深度以及占空比，由闪烁体的中心发射波长决定。本发明的表面蛾眼式微结构能够有效提升掺铈钇铝石榴石晶体的光提取效率，增强闪烁体的光输出，本发明涉及工艺成熟，在辐射探测领域中具有重要应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111595555B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010488462.8
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法，装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。
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公开(公告)号：CN110736561B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201911012197.X
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法，反射光学元件的制备包括步骤：在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO2相变薄膜；在VO2相变薄膜上镀制高反膜。由于VO2的相变特性，反射光学元件的透过率会随温度发生变化，高功率激光系统中测温方法包括利用接触式测温的方法测试反射光学元件在某一波长处透过率随温度变化的曲线；高功率激光系统中，增加该波长的探测激光入射至反射光学元件表面的辐照区域，并利用功率计测试探测激光的透过率；结合上述透过率随温度变化曲线利用透射率计算光学元件的表面温度。本发明相比红外热像仪测温的方法不仅成本较低，而且可以高精度的测试光学元件表面微米深度的温度变化。
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公开(公告)号：CN111595555A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010488462.8
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法，装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。
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公开(公告)号：CN109143436A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811050039.9
申请日：2018-09-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
CPC classification number: G02B5/18
Abstract: 一种偏振无关金属介质二维光栅，由上至下由顶层二维结构介质光栅层、介质光栅剩余层、金属层和基底构成光栅结构；所述的顶层二维结构介质光栅层为长方体或圆柱体或圆锥体或圆台结构。顶层二维结构介质光栅层和介质光栅剩余层为同种介质材料，该介质材料为HfO2，Ta2O5或SiO2中的任意一种；金属层的材料为Au，Ag或Cu中的任意一种。本发明的偏振无关金属介质二维光栅可以使TE和TM两种偏振模式的入射光以(‑1，0)级利特罗角入射时，(‑1，0)级反射衍射效率在中心波长780纳米波长高于92％，且两个偏振态之间的效率差异小于1.5％，实现对偏振无关入射光的高效率衍射。
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公开(公告)号：CN108732670A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810742641.2
申请日：2018-07-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种800纳米中心波长的金属介质膜宽带脉宽压缩光栅，其特点是在石英基底上自底层向外层依次的金属层、剩余层和光栅层一体构成，所述的光栅层为梯形光栅，该梯形光栅的材料为SiO2；周期为500-680纳米；底部占空比为0.48-0.58；底角83°-86°；槽深860-930纳米。本发明在入射角度65°，在750-850纳米波段TE偏振的-1级反射衍射效率大于90％。入射波长800纳米激光以65°或17°入射至光栅表面，光栅对TE偏振光的-1级反射衍射效率大于90％。本发明的单脉冲面损伤阈值为0.4J/cm2@35fs，800±35nm。本发明可用作高功率超短脉冲激光系统的脉宽压缩光栅。
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