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公开(公告)号：CN118781184A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764552.3
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于波面梯度特征匹配的面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获取被检光学元件的初始面形数据及在多个旋转角度下对应的面形数据；对滤波后的面形数据进行二维梯度计算，得到具有多个特征标记点分布的二维总梯度数据；获得各特征标记点的精确定位坐标；获得被检光学元件的旋转中心坐标；获得标准参考镜的中心像素坐标；根据被检光学元件的旋转中心坐标和标准参考镜的中心像素坐标，调整被检光学元件使被检光学元件与标准参考镜对准。本发明主要用于解决光学元件面形绝对检测的旋转平移操作前，被检光学元件中心与参考面光轴中心的高精对准问题，具有方法原理简单、高精高效便捷的特点。
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公开(公告)号：CN111041413B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201911268270.X
申请日：2019-12-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，采用了镀膜过程基片面形和高低折射率膜层的综合控制方法：镀膜前针对基片在镀膜过程的形变，采用基片预先翻面退火的方法控制抵消镀膜过程中的基片面形受热引起的变化；采用调节充氧量结合离子辅助沉积的方法控制反射镜中膜层的残余应力，使各膜层的残余应力基本接近零应力。本发明公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，该方法具有面形精度高，简单易行，使用范围广，适用不同膜层以及基底组合的反射镜面形控制。
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公开(公告)号：CN111349885A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN202010221589.3
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，从而得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，保证膜厚控制的效果良好。
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公开(公告)号：CN119710605A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411757922.7
申请日：2024-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供了一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法，属于半导体晶圆镀膜技术领域。包括箱体、闸门、轨道组件以及夹持组件；箱体具有相互连通的镀膜腔体和翻转腔体，镀膜腔体用于安装镀膜器件；闸门安装于箱体以分隔镀膜腔体和翻转腔体；轨道组件安装于翻转腔体；夹持组件与轨道组件导向配合，以在镀膜腔体和翻转腔体之间往复移动，夹持组件用于夹取位于镀膜腔体中的样品，并将样品移动至翻转腔体中翻面。本发明通过设置样品在翻转腔体中翻面，镀膜腔体和翻转腔体连通，避免在镀膜过程中将样品取出翻面导致样品被污染的情况出现；并且，由于不需要在镀膜腔体中翻面，可适当缩小镀膜腔体的尺寸，从而提高对镀膜腔体的抽真空效率。
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公开(公告)号：CN111235527B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106289727B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201610599309.6
申请日：2016-07-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供一种元件激光损伤测量方法及装置。测量时，对每一个预设测试点采用基本相同的能量和能量密度的激光脉冲进行逐次多发次辐照，并实时监测测试点的光学图像以判断该测试点是否产生功能性损伤，同时在线获取每一次辐照时的激光能量密度值；然后根据测试点的功能性损伤判定结果及在线激光能量密度值计算生成元件的功能性损伤测量曲线。这种元件激光损伤测量方法的测量结果准确度高、收敛速度快，多次测量所得测量曲线之间的偏差较小，还能有效降低不同测量人员之间及测量次序等人为因素对最终测量结果的影响。
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公开(公告)号：CN117470814B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202310829284.4
申请日：2023-07-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。
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公开(公告)号：CN111349885B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202010221589.3
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，从而得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，保证膜厚控制的效果良好。
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公开(公告)号：CN107132604B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201710498955.8
申请日：2017-06-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明提供了一种渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片，属于薄膜制备工艺技术领域。所述制备参数获取方法包括：获取待制备的渐变折射率薄膜的制备数据，其中，所述制备数据包括所述渐变折射率薄膜的每个膜层的折射率和膜层厚度；获取基准对应关系，所述基准对应关系为混合膜层的折射率与膜层浓度之间的关系；根据所述基准对应关系以及所述制备数据，得到所述渐变折射率薄膜的制备参数。通过本方法有利于较准确地得到待制备的渐变折射率薄膜的制备参数，从而制备出性能更符合需求的渐变折射率薄膜以及滤光片。
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公开(公告)号：CN107966750B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201711177793.4
申请日：2017-11-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B1/10 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 本发明提供一种激光薄膜及其制备方法和应用，涉及光学薄膜技术领域。一种激光薄膜的制备方法，包括：以HfCl4和SiCl4作为前驱体，在90～110℃的条件下采用原子层沉积法在衬底上交替沉积制备HfO2激光薄膜和SiO2激光薄膜。制备方法简单，可控性强，制得的产品质量高。一种激光薄膜，由上述激光薄膜的制备方法制备而成。具有厚度小，高激光损伤阈值的特点。
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