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公开(公告)号：CN111185852B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202010186987.6
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种双工位立卧轴金刚石砂轮在位修整器及其修整方法，在位修整器包括：底板，其固定于工作台一侧，其上具有集液槽，集液槽连通排液管；支架为两组，且沿工作台的X轴方向对称固定于底板上；摇篮式基座顶部两侧分别对应、且可摆动于两组支架顶部，形成立式工位或卧式工位；摇篮式基座顶部两侧向下延伸连接形成底部安装区，电机的输出端朝下固定、且穿出底部安装区；底部安装区上与电机平行布置有砂轮修整机构，且电机的输出轴通过同步带将动力传递至砂轮修整机构；锁紧机构用于工位调整后限制摇篮式基座相对支架摆动。本发明满足了大口径光学元件批量制造过程中，平面和圆弧金刚石砂轮的高精度、高效在位修整的要求。
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公开(公告)号：CN110900356B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN201911090087.5
申请日：2019-11-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及全口径抛光中抛光盘表面摩擦特性的在线检测装置及方法，装置包括：固定部可拆卸于全口径抛光机床的横梁上；竖直驱动部连接于固定部上，且远离全口径抛光机床横梁的一侧，滑动部沿竖直方向上可滑动连接于竖直驱动部上；精密力传感器固定于滑动部上，且位于远离竖直驱动部一侧；滑动部与推力驱动部上部铰接位置为A点，精密力传感器与推力驱动部下部接触位置为B点；推力驱动部输出端连接推杆用于改变推杆的行程；推杆底部与工作板连接，且工作板底面与环抛机抛光盘抵接位置为C点；根据精密力传感器检测的横向摩擦力F，测量A点和B点的距离为X，及A点和C点之间的距离为Y，以A点为旋转轴满足力矩平衡方程：Fx‑Gy＝0，其中G为横向摩擦力。
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公开(公告)号：CN108908124B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201810930250.3
申请日：2018-08-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B53/053 , B24B53/095 , B24B41/02 , B24B47/04
Abstract: 本发明公开了一种圆弧金刚石砂轮离线修整装置，包括：金刚石砂轮、修整砂轮、金刚石砂轮回转驱动装置、修整砂轮回转驱动装置、修整液供给装置、X轴向直线驱动装置、Y轴向直线驱动装置、Z轴向直线驱动装置和数控系统，通过数控系统实现对X轴向直线驱动装置、Y轴向直线驱动装置和Z轴向直线驱动装置的高精度圆弧插补进刀运动，和对金刚石砂轮回转驱动装置和修整砂轮回转驱动装置的稳定旋转运动控制，在修整过程中通过修整液供给装置输送过滤水修整液或含有碳化硅磨料的修整液，实现对金刚石砂轮的修形和修锐。本发明结构紧凑，利用三轴联动圆弧插补运动实现对金刚石砂轮的修形和修锐，不仅修整精度高，且加工效率高。
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公开(公告)号：CN111286699A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN202010222435.6
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置，用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹，以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚，以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角；根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形；根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形，计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚，所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的；根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚，对所述待修正挡板进行修正，得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正，可以提高挡板修正的精确和效率。
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公开(公告)号：CN111235527A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111185816A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN202010029342.1
申请日：2020-01-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种二维随机振动抛光机床及其抛光方法，涉及抛光技术领域。该二维随机振动抛光机床包括第一振动组件、第二振动组件、抛光组件和控制器，控制器控制第一振动组件、第二振动组件能够以随机的频率分别驱动抛光组件沿X、Y方向往复振动。该抛光方法应用于上述抛光机，其中，第一振动组件和第二振动组件在控制器的控制下以随机的频率对工件进行抛光处理。该二维随机振动抛光机床的抛光组件在第一振动组件和第二振动组件随机频率的振动下，能够有效去除工件表面的中高频误差、缺陷以及改善其粗糙度，抛光效果好，得到工件品质高。
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公开(公告)号：CN109746836B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN201910143074.3
申请日：2019-02-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及光学超精密加工磨削液智能监测报警装置及方法，包括控制器，其内部预设有磨削试验台各工况下许用的磨削液的液位值、温度值、压力值及流量值；数据采集模块，其安装于磨削试验台中与控制器电性连接，并用于采集磨削试验台磨削液上述信号；报警输出模块，控制器电性连接报警输出模块，报警输出模块与磨削试验台的控制系统可转换电性连接或断开连接；控制器根据数据采集模块采集的磨削试验台磨削液的上述信号并与其内部预设许用值比对，低于或高于预设值，控制器均控制报警输出模块报警；加工工件时报警输出模块与磨削试验台的控制系统电性接通，磨削试验台的控制系统控制磨削试验台的主轴抬起远离加工工件表面，保护工件安全。
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公开(公告)号：CN114662047A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210355359.5
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质，去除函数误差修正能力表征方法包括如下步骤：获取面形误差体积变化量和加工时间，所述面形误差体积变化量为预设空间频率下加工前后面形误差的体积差值；通过面形误差体积变化量和加工时间计算所述去除函数的有效去除速率谱。本发明提供的一种用于子口径抛光的去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质能够实现去除函数空间频率误差修正能力的定量表征，为后续实现根据误差分布快速自动匹配最优的工艺参数奠定了基础。
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公开(公告)号：CN113046715B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202110273214.6
申请日：2021-03-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学元件镀膜技术领域，提供了一种光学元件全口径镀膜装置及其方法，该镀膜装置包括夹持工装主体、夹持组件、侧面板、至少一个顶紧组件；所述夹持工装主体包括基板、至少两个限位块，所述基板上设置有容纳孔，所述限位块对称设置在所述容纳孔的四周；所述夹持组件滑动设置在所述限位块内；所述侧面板设置在所述限位块的两侧，与所述限位块固定连接；所述顶紧组件贯穿所述限位块，与所述夹持组件的端面抵接。本发明提供的镀膜装置设置了侧面板，夹持组件采用聚四氟乙烯材料，结构强度高，夹持应力小，不会对光学元件造成损伤，并且方便快捷、不易松动、掉落，可适用于需要全口径镀膜的中小尺寸的光学元件。
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公开(公告)号：CN111235527B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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