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公开(公告)号：CN118781184A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764552.3
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于波面梯度特征匹配的面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获取被检光学元件的初始面形数据及在多个旋转角度下对应的面形数据；对滤波后的面形数据进行二维梯度计算，得到具有多个特征标记点分布的二维总梯度数据；获得各特征标记点的精确定位坐标；获得被检光学元件的旋转中心坐标；获得标准参考镜的中心像素坐标；根据被检光学元件的旋转中心坐标和标准参考镜的中心像素坐标，调整被检光学元件使被检光学元件与标准参考镜对准。本发明主要用于解决光学元件面形绝对检测的旋转平移操作前，被检光学元件中心与参考面光轴中心的高精对准问题，具有方法原理简单、高精高效便捷的特点。
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公开(公告)号：CN117470814B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202310829284.4
申请日：2023-07-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。
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公开(公告)号：CN119710605A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411757922.7
申请日：2024-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供了一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法，属于半导体晶圆镀膜技术领域。包括箱体、闸门、轨道组件以及夹持组件；箱体具有相互连通的镀膜腔体和翻转腔体，镀膜腔体用于安装镀膜器件；闸门安装于箱体以分隔镀膜腔体和翻转腔体；轨道组件安装于翻转腔体；夹持组件与轨道组件导向配合，以在镀膜腔体和翻转腔体之间往复移动，夹持组件用于夹取位于镀膜腔体中的样品，并将样品移动至翻转腔体中翻面。本发明通过设置样品在翻转腔体中翻面，镀膜腔体和翻转腔体连通，避免在镀膜过程中将样品取出翻面导致样品被污染的情况出现；并且，由于不需要在镀膜腔体中翻面，可适当缩小镀膜腔体的尺寸，从而提高对镀膜腔体的抽真空效率。
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公开(公告)号：CN114815740B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202210414628.0
申请日：2022-04-20
Applicant: 硕橙(厦门)科技有限公司 , 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G05B19/406
Abstract: 本发明提供了一种超精密飞切机床健康度监测方法、装置、设备及介质，包括：获取待监测飞切机床的振动数据；调用训练好的飞切动作识别模型对振动数据进行数据预处理，生成对应特征数据，通过对多组飞切机床历史振动数据进行动作标记，并根据从中提取到进刀序列与出刀序列特征量，构建飞切动作识别模型；调用训练好的健康度模型对特征数据进行处理，生成健康度评分，在飞切动作点识别基础上,获取多组飞切机床各工艺参数下历史特征数据，并根据提取出进刀振动数值、出刀振动数值、数据过零率三个维度特征，对基于多元高斯分布的健康度模型进行训练；根据健康度评分，输出预警信号。旨在解决现市面上超精密飞切机床工艺质量差，加工效率低的问题。
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公开(公告)号：CN118866419A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410889257.0
申请日：2024-07-04
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种纳米周期多层膜及其制备方法与应用。针对极紫外到X射线波段极短波长多层膜反射率受限于多层膜膜层界面粗糙度和膜层成分混合导致反射率下降的问题本发明通过纳米间隔层结合离子辅助动态调控技术解决了纳米膜层界面结构粗糙σr和成分扩散σd协同抑制难题，该方法简单易行，适用于极紫外到X射线波段的多层周期结构高反射膜层的反射率提升，可应用于X射线成像诊断、同步辐射光源和X光荧光分析等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118781185A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764610.2
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于视觉图像亚像素定位实现面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获得干涉仪成像视场在零条纹下的检测视场图像；获得被检测光学元件相对标准参考镜旋转多个角度所对应的检测视场图像；根据检测视场图像获得亚像素图像边缘信息；根据亚像素图像边缘信息提取被检测光学元件的特征标识点；根据特征标识点计算旋转平台的旋转中心坐标；根据旋转中心坐标与被检元件当前位置几何中心坐标，调整被检测光学元件，以使被检测光学元件的中心与旋转平台的中心高精重合。本发明方法原理简单，无需增加其他的辅助装置，利用视觉图像实现中心定位校准，更加高精高效。
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公开(公告)号：CN111482333B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202010422036.4
申请日：2020-05-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供了提拉涂膜夹具、提拉涂膜设备及提拉涂膜方法，涉及化学膜制备技术领域。一种提拉涂膜夹具，包括主体、密封圈和两个压杆。主体具有凹槽和围设于凹槽四周的平台，平台用于放置待涂膜元件。密封圈围设于凹槽的四周且与平台密封连接。两个压杆能够分别与凹槽两侧的平台可拆卸连接，以将放置于平台上的待涂膜元件紧贴与密封圈。该提拉涂膜夹具对元件采用两侧夹持，不在元件顶部和底部有任何高出元件表面的夹持，避免影响元件表面膜层的均匀性。采用凹槽和密封圈的配合，实现大口径高径厚比元件的单面密封，能够实现对大口径高径厚比元件的两个不同表面制备不同的化学膜。
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公开(公告)号：CN111482333A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202010422036.4
申请日：2020-05-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供了提拉涂膜夹具、提拉涂膜设备及提拉涂膜方法，涉及化学膜制备技术领域。一种提拉涂膜夹具，包括主体、密封圈和两个压杆。主体具有凹槽和围设于凹槽四周的平台，平台用于放置待涂膜元件。密封圈围设于凹槽的四周且与平台密封连接。两个压杆能够分别与凹槽两侧的平台可拆卸连接，以将放置于平台上的待涂膜元件紧贴与密封圈。该提拉涂膜夹具对元件采用两侧夹持，不在元件顶部和底部有任何高出元件表面的夹持，避免影响元件表面膜层的均匀性。采用凹槽和密封圈的配合，实现大口径高径厚比元件的单面密封，能够实现对大口径高径厚比元件的两个不同表面制备不同的化学膜。
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公开(公告)号：CN117470814A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202310829284.4
申请日：2023-07-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。
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公开(公告)号：CN116871688A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310829518.5
申请日：2023-07-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , G01N21/95 , G01N21/958 , G01N21/88
Abstract: 一种光学元件修复装置及其修复方法，涉及光学技术领域。该光学元件修复装置包括：泵浦光源，泵浦光源用于朝向待修复样品的表面缺陷处发射泵浦光；在线监测机构，在线监测机构包括探测光源和第一图像处理器，探测光源用于向待修复样品的表面缺陷处发射探测光，第一图像处理器用于接收被待修复样品的表面缺陷处反射的探测光并得到待修复样品的表面缺陷处的图像信息；修复机构，修复机构用于根据待修复样品的表面缺陷处的图像信息对待修复样品的表面缺陷处进行修复。该光学元件修复装置能够对损伤进行精准、高效的定点修复，从而能够改善现有技术中修复速率和修复成功率较低的问题。
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