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公开(公告)号：CN119710605A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411757922.7
申请日：2024-12-03
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C23C14/50 , C23C16/458
Abstract: 本发明提供了一种在真空系统中双面镀膜的翻转装置和镀膜方法，属于半导体晶圆镀膜技术领域。包括箱体、闸门、轨道组件以及夹持组件；箱体具有相互连通的镀膜腔体和翻转腔体，镀膜腔体用于安装镀膜器件；闸门安装于箱体以分隔镀膜腔体和翻转腔体；轨道组件安装于翻转腔体；夹持组件与轨道组件导向配合，以在镀膜腔体和翻转腔体之间往复移动，夹持组件用于夹取位于镀膜腔体中的样品，并将样品移动至翻转腔体中翻面。本发明通过设置样品在翻转腔体中翻面，镀膜腔体和翻转腔体连通，避免在镀膜过程中将样品取出翻面导致样品被污染的情况出现；并且，由于不需要在镀膜腔体中翻面，可适当缩小镀膜腔体的尺寸，从而提高对镀膜腔体的抽真空效率。
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公开(公告)号：CN114662047A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210355359.5
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质，去除函数误差修正能力表征方法包括如下步骤：获取面形误差体积变化量和加工时间，所述面形误差体积变化量为预设空间频率下加工前后面形误差的体积差值；通过面形误差体积变化量和加工时间计算所述去除函数的有效去除速率谱。本发明提供的一种用于子口径抛光的去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质能够实现去除函数空间频率误差修正能力的定量表征，为后续实现根据误差分布快速自动匹配最优的工艺参数奠定了基础。
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公开(公告)号：CN114425732B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210355185.2
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 发明适用于光学加工技术领域，提供了一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质，子口径加工工艺的自动优选方法包括如下步骤：获取不同去除函数的有效去除速率谱，所述有效去除速率谱为去除函数修正各空间频率误差体积的收敛速率；获取光学元件的体积谱密度函数，所述体积谱密度函数为光学元件的面形误差在各频率下所含残余误差材料体积的密度；通过所述有效去除速率谱和体积谱密度函数得到优选加工工艺。本发明提供的一种子口径加工工艺的自动优选方法、系统和介质具有加工效率高、生产成本低的优势。
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公开(公告)号：CN113076633A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110311761.9
申请日：2021-03-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学元件的匀滑技术领域，本发明在常见模型的基础上进行补充和修正，提出了一种适用于大口径光学元件复杂周期波纹误差匀滑的多参数匀滑方法，包括以下步骤：步骤H1：对光学元件进行子区域划分；步骤H2：计算各子区域初始波纹误差值RMS0；步骤H3：对光学元件进行预处理试验；步骤H4：得出ΔRMS与RMS曲线的拟合斜率k'；步骤H5：获得各子区域面形波纹收敛因子矩阵；步骤H6：获得各子区域中频误差预测曲线；步骤H7：获得各子区域的加工次数；其中，RMS表示元件表面波纹误差值，RMS0表示元件表面初始波纹误差值，ΔRMS表示经过单次匀滑加工后元件表面波纹误差的变化量。可以达到较为精确的理论预测效果，为后续工艺指导提供定量化支持。
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公开(公告)号：CN110954016A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911099655.8
申请日：2019-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种高精度光学元件干涉检测中的装夹装置，包括底座；底座两侧各设置一组支撑柱；每一组连接推动部一侧均与支撑柱连接；每一组连接推动部另一侧均对应连接一组夹持部，且使两组夹持部沿相对方向做夹紧或放松运动；每一组夹持部上均具有与光学元件侧面抵接的弹性件；力传感器固定于连接推动部上用于测量夹持部对光学元件夹持力的反作用力。光学元件通过底座、两侧的夹持部三点夹持，保证了光学元件装夹的稳定，弹性件有利于改善夹持部对光学元件的夹持力的均匀性，从而减小光学元件变形及其对检测精度的影响；力传感器用于测量夹持部对光学元件夹持力的反作用力，为夹持过程中调节夹持力的大小提供参照。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106926134B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201710181800.1
申请日：2017-03-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B49/12
Abstract: 本发明提供一种非球面磨削圆弧金刚石砂轮三维形状误差的在位精密测量方法，该方法包含：1)螺旋式连续扫描测量砂轮表面各点的高度数据；2)将数据按螺旋轨迹模型进行插值拟合处理，得到砂轮表面三维几何形貌矩阵，并进行最小二乘圆弧拟合，得到砂轮圆弧半径、圆弧中心坐标和圆弧中心偏差；3)建立砂轮表面的平均三维几何形貌矩阵，并与形貌矩阵相减，得到三维误差分布矩阵、圆弧度误差和径向跳动误差；4)测量砂轮外圆周高度数据，通过最小二乘圆弧拟合，得到砂轮基础部分半径。本发明实现对圆弧金刚石砂轮所有重要几何参数的高效精密非接触式测量，测量结果可直接用于非球面光学元件超精密磨削加工砂轮运动控制点坐标的精确插补计算。
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公开(公告)号：CN108381330B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201810222611.9
申请日：2018-03-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 本发明提供了一种抛光装置及抛光设备，属于抛光设备领域。抛光装置包括机架、抛光盘、第一驱动装置、支撑架、活动架、第二驱动装置和夹具，抛光盘可转动的设置于机架。第一驱动装置用于驱动抛光盘相对机架绕第一竖轴线转动。支撑架设于机架上。活动架与支撑架活动连接。第二驱动装置用于驱动活动架相对支撑架竖向移动。夹具可转动的设置于活动架，夹具能够相对活动架绕第二竖轴线转动，夹具位于抛光盘的上方。在抛光过程中，由于夹具与活动架转动连接，抛光盘在转动的同时将带动整个夹具转动，从而带动晶体转动，进而提高了对晶体的抛光效果。
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公开(公告)号：CN118781184A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764552.3
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于波面梯度特征匹配的面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获取被检光学元件的初始面形数据及在多个旋转角度下对应的面形数据；对滤波后的面形数据进行二维梯度计算，得到具有多个特征标记点分布的二维总梯度数据；获得各特征标记点的精确定位坐标；获得被检光学元件的旋转中心坐标；获得标准参考镜的中心像素坐标；根据被检光学元件的旋转中心坐标和标准参考镜的中心像素坐标，调整被检光学元件使被检光学元件与标准参考镜对准。本发明主要用于解决光学元件面形绝对检测的旋转平移操作前，被检光学元件中心与参考面光轴中心的高精对准问题，具有方法原理简单、高精高效便捷的特点。
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公开(公告)号：CN114662047B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202210355359.5
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质，去除函数误差修正能力表征方法包括如下步骤：获取面形误差体积变化量和加工时间，所述面形误差体积变化量为预设空间频率下加工前后面形误差的体积差值；通过面形误差体积变化量和加工时间计算所述去除函数的有效去除速率谱。本发明提供的一种用于子口径抛光的去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质能够实现去除函数空间频率误差修正能力的定量表征，为后续实现根据误差分布快速自动匹配最优的工艺参数奠定了基础。
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公开(公告)号：CN113686903A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202111094288.X
申请日：2021-09-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种光学元件缺陷检测系统及检测方法，包括床身支撑模块、隔振模块、定位夹持模块、缺陷检测模块、缺陷分析模块、扫描运动模块和电气控制模块，每个模块完成相应的功能，具体工作步骤包括：开启设备及软件、系统初始化设置、设置系统参数、放置被测样品、设置测量参数、样品扫描测试、检测数据采集、缺陷类型分析、缺陷特性评价和结果输出系统关闭。本发明解决了人工检验可能由于某些人员原因导致的缺陷形貌误判和缺陷定位错误，降低了缺陷定位错误发生率，进一步提高了大口径光学元器件的缺陷检测准确率。
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