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公开(公告)号：CN1241072C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN00817711.2
申请日：2000-12-08
Applicant: 三星电子株式会社 , AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/50
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/38 , G03F7/42 , G03F7/422 , H01L21/02052 , H01L21/0274 , H01L21/31133
Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量%的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN100371809C
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN02816648.5
申请日：2002-07-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/136
CPC classification number: H01L27/124 , G02F1/136286
Abstract: 在制造TFT阵列基板的方法中，在绝缘基板上形成栅线路。栅线路含有栅线、栅电极和与栅线相连的栅垫。依次形成栅绝缘层和半导体层。形成包括多个与栅线交叉的数据线、多个与数据线相连并位于栅电极附近的源电极、多个依照栅电极与源电极正对的漏电极以及与数据线相连的数据垫的数据线路。沉积形成保护层，在保护层上形成图案以形成至少使漏电极暴露的接触孔。在保护层上沉积银或银合金导电层。用包括磷酸、硝酸、乙酸、过氧一硫酸钾和超纯水的蚀刻液或包括硝酸、乙酸、乙二醇和超纯水的蚀刻液在保护层上形成图案，因此形成反射层。反射层是通过接触孔与漏电极连接的。
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公开(公告)号：CN1643649A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03806619.X
申请日：2003-03-19
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明公开了一种灯、制造该灯的方法和具有该灯的LCD。在灯管的外表面上设置电极，并且在电极和灯管之间夹置一个粘结元件。该粘结元件通过加热硬化和膨胀，将电极粘结到灯管上。因而去除了在外表面上形成电极时产生的空隙，并且获得高质量的图象。
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公开(公告)号：CN1458547A
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：CN03131482.1
申请日：2003-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13357 , H01J61/00
CPC classification number: H05B41/2824 , G02F1/133604 , G02F2001/133612 , H01J65/046 , Y02B20/186
Abstract: 一种背后照明设备，其具有灯驱动器件，用于驱动彼此并联的外部电极荧光灯(EEFL)。灯驱动器件包括：功率切换晶体管、二极管、变换器以及PWM控制器。晶体管基于切换信号将外来直流功率信号转换为脉冲功率信号，二极管防止冲流流入晶体管。变换器将脉冲功率信号转换为交流功率信号，升高交流功率信号的电压，并给灯提供已升高的交流功率信号。由外来开/关信号激活PWM控制器，以给晶体管提供切换信号，以便调节交流功率信号的电压。EEFL可以保持恒定的电流，并且背后照明设备可以具有均匀亮度、高亮度和高热效率的特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1306336C
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN02145838.3
申请日：2002-10-15
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种包括热致酸生成剂的光致抗蚀剂组合物和用其形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括100重量份的碱溶性丙烯酰基共聚物，5-100重量份的1，2-醌二叠氮化合物，2-35重量份的含氮交联剂，0.1-10重量份的加热能产生酸的热致酸生成剂。在基底上涂覆光致抗蚀剂组合物并干燥，形成光致抗蚀剂层。通过使用具有预定形状的掩模使光致抗蚀剂层曝光。通过使用含水碱性溶液使曝光的光致抗蚀剂层显影，形成光致抗蚀剂图案。加热这样得到的光致抗蚀剂图案，使其固化，不会产生热回流。
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公开(公告)号：CN1296772C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN1214279C
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN99127834.8
申请日：1999-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1337 , C08J11/04 , C09K19/38
CPC classification number: G02F1/133711
Abstract: 本发明涉及液晶排列材料的再生方法，其中与LCD液晶加工中原始液晶排列材料等效的再生液晶排列层可通过收集排列材料的废溶液而再生，该废溶液是在使用液晶排列材料的LCD制造过程中大量产生的。通过将排列材料的废溶液放入一种有机溶剂或超纯水中而固化聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺，液晶排列材料组分聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺不溶于该有机溶剂或超纯水中，从有机溶剂或者超纯水分离聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺，并将所分离的固体聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺溶解在一种溶剂中而做到这一点。用此方法再生液晶排列层材料能大大有助于降低生产成本。
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公开(公告)号：CN1606714A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN02825525.9
申请日：2002-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及具有用于LCD生产方法的耐高温性的光致抗蚀剂组合物，且更具体地说，本发明涉及具有耐高温性的能够减少工艺的策略(一种方式)、工艺简化和节约费用的光致抗蚀剂组合物。本发明的组合物通过使跳过5步工艺成为可能而有利于这一特性，诸如形成金属薄膜的Cr金属沉积和整个金属表面的光/蚀刻/PR剥离/蚀刻步骤；通过用本发明的组合物取代常用的金属薄膜，使得TFT－LCD生产过程中的N+离子掺入可以因其耐高温性而进行。
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公开(公告)号：CN1158569C
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN00126263.7
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光化学品以及作为溶剂的乙酸3-甲氧基丁酯和4-丁内酯。该组合物具有良好的感光性和残膜率，且没有恶臭。
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