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公开(公告)号：CN1158569C
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN00126263.7
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光化学品以及作为溶剂的乙酸3-甲氧基丁酯和4-丁内酯。该组合物具有良好的感光性和残膜率，且没有恶臭。
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公开(公告)号：CN1289070A
公开(公告)日：2001-03-28
申请号：CN00126263.7
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光化学品以及作为溶剂的乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯。该组合物具有良好的感光性和残膜率,且没有恶臭。
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公开(公告)号：CN1184534C
公开(公告)日：2005-01-12
申请号：CN00126840.6
申请日：2000-09-06
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种正型光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中，将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后，干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着，利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3-甲氧基丁酯和γ-丁内酯，或者包括乙酸3-甲氧基丁酯、2-庚酮和γ-丁内酯。
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公开(公告)号：CN1297169A
公开(公告)日：2001-05-30
申请号：CN00126840.6
申请日：2000-09-06
IPC: G03F7/16
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种阳性光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中,将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后,干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着,利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯,或者包括乙酸3－甲氧基丁酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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公开(公告)号：CN1288178A
公开(公告)日：2001-03-21
申请号：CN00126260.2
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀,恶臭的发生量少,从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3－甲氧丁基乙酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1163797C
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN00126260.2
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀，恶臭的发生量少，从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物，其包括：用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3-甲氧丁基乙酯、2-庚酮和4-丁内酯。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN100371809C
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN02816648.5
申请日：2002-07-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/136
CPC classification number: H01L27/124 , G02F1/136286
Abstract: 在制造TFT阵列基板的方法中，在绝缘基板上形成栅线路。栅线路含有栅线、栅电极和与栅线相连的栅垫。依次形成栅绝缘层和半导体层。形成包括多个与栅线交叉的数据线、多个与数据线相连并位于栅电极附近的源电极、多个依照栅电极与源电极正对的漏电极以及与数据线相连的数据垫的数据线路。沉积形成保护层，在保护层上形成图案以形成至少使漏电极暴露的接触孔。在保护层上沉积银或银合金导电层。用包括磷酸、硝酸、乙酸、过氧一硫酸钾和超纯水的蚀刻液或包括硝酸、乙酸、乙二醇和超纯水的蚀刻液在保护层上形成图案，因此形成反射层。反射层是通过接触孔与漏电极连接的。
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公开(公告)号：CN1643649A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03806619.X
申请日：2003-03-19
IPC: H01J65/00
Abstract: 本发明公开了一种灯、制造该灯的方法和具有该灯的LCD。在灯管的外表面上设置电极，并且在电极和灯管之间夹置一个粘结元件。该粘结元件通过加热硬化和膨胀，将电极粘结到灯管上。因而去除了在外表面上形成电极时产生的空隙，并且获得高质量的图象。
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公开(公告)号：CN1458547A
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：CN03131482.1
申请日：2003-05-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13357 , H01J61/00
CPC classification number: H05B41/2824 , G02F1/133604 , G02F2001/133612 , H01J65/046 , Y02B20/186
Abstract: 一种背后照明设备，其具有灯驱动器件，用于驱动彼此并联的外部电极荧光灯(EEFL)。灯驱动器件包括：功率切换晶体管、二极管、变换器以及PWM控制器。晶体管基于切换信号将外来直流功率信号转换为脉冲功率信号，二极管防止冲流流入晶体管。变换器将脉冲功率信号转换为交流功率信号，升高交流功率信号的电压，并给灯提供已升高的交流功率信号。由外来开/关信号激活PWM控制器，以给晶体管提供切换信号，以便调节交流功率信号的电压。EEFL可以保持恒定的电流，并且背后照明设备可以具有均匀亮度、高亮度和高热效率的特性。
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