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公开(公告)号：CN1892426B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200610098739.6
申请日：2006-07-10
CPC classification number: G03F7/022 , G03F7/0045
Abstract: 提供光刻胶组合物、使用该光刻胶组合物形成薄膜图案的方法、以及使用该光刻胶组合物制造薄膜晶体管阵列面板的方法。在一个方式中，光刻胶组合物包括碱溶性树脂、光敏化合物以及添加剂，用于在通道区域有利地提供均匀的光刻胶。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN1967338A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610171882.3
申请日：2006-11-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02F1/136 , G02F1/133 , H01L21/00
Abstract: 本发明提供了一种显示基底，包括薄膜晶体管层、滤色器层、多个像素电极、第一覆盖层和取向层。该薄膜晶体管层包括多个像素区域。该滤色器层形成在该薄膜晶体管层上。该像素电极形成在具有至少一个间隙的该滤色器层上，该间隙限定在相邻像素电极之间。该第一覆盖层提供在相邻像素电极之间的间隙内，并且覆盖通过该像素电极之间的该间隙露出的该滤色器层的一部分。该取向层形成在该像素电极和该第一覆盖层上。因此，该滤色器层与该取向层相分离以减少残留影像，因此提高了图像显示质量。
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公开(公告)号：CN1241072C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN00817711.2
申请日：2000-12-08
Applicant: 三星电子株式会社 , AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , C11D7/50
CPC classification number: G03F7/168 , G03F7/38 , G03F7/42 , G03F7/422 , H01L21/02052 , H01L21/0274 , H01L21/31133
Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量%的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。
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公开(公告)号：CN1298918A
公开(公告)日：2001-06-13
申请号：CN99127834.8
申请日：1999-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09K19/38
CPC classification number: G02F1/133711
Abstract: 本发明涉及液晶排列材料的再生方法,其中与LCD液晶加工中原始液晶排列材料等效的再生液晶排列层可通过收集排列材料的废溶液而再生,该废溶液是在使用液晶排列材料的LCD制造过程中大量产生的。通过将排列材料的废溶液放入一种有机溶剂或超纯水中而固化聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺,液晶排列材料组分聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺不溶于该有机溶剂或超纯水中,从有机溶剂或者超纯水分离聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺,并将所分离的固体聚酰氨酸和可溶聚酰亚胺溶解在一种溶剂中而做到这一点。用此方法再生液晶排列层材料能大大有助于降低生产成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1297169A
公开(公告)日：2001-05-30
申请号：CN00126840.6
申请日：2000-09-06
IPC: G03F7/16
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了一种阳性光致抗蚀剂层的制备方法。在该方法中,将所述光致抗蚀剂组合物滴加到形成于基片上的绝缘层或导电性金属层上。所述光致抗蚀剂组合物包含聚合物树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光剂及溶剂。将上述涂敷了光致抗蚀剂组合物的基片以1250至1350rpm的转速旋转4.2至4.8秒。然后,干燥上述涂覆了光致抗蚀剂组合物的基片并将上述干燥的基片进行曝光。接着,利用碱性显像液清除曝光部位。所述溶剂包括乙酸3－甲氧基丁酯和4－丁内酯,或者包括乙酸3－甲氧基丁酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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公开(公告)号：CN1288178A
公开(公告)日：2001-03-21
申请号：CN00126260.2
申请日：2000-08-30
IPC: G03F7/008
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0226
Abstract: 本发明涉及一种感光速度及残膜率优秀,恶臭的发生量少,从而能够改善作业环境的正型光致抗蚀剂组合物,其包括:用以形成光致抗蚀剂层的高分子树脂、由于曝光而使光致抗蚀剂层的溶解度发生改变的感光性化合物以及作为溶剂的3－甲氧丁基乙酯、2－庚酮和4－丁内酯。
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公开(公告)号：CN1897285B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200610098474.X
申请日：2006-07-07
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/12 , H01L23/522 , H01L21/84 , H01L21/768 , G02F1/133
CPC classification number: H01L27/124 , G02F2001/13629 , H01L29/458
Abstract: 本发明提供了一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法，包括：在基板上形成栅极线；在该栅极线上形成栅极绝缘层、半导体层和欧姆接触；在该欧姆接触上形成含Mo的第一导电膜、含Al的第二导电膜和含Mo的第三导电膜；在该第三导电膜上形成第一光刻胶图样；使用该第一光刻胶图样作为掩模，蚀刻第一、第二和第三导电膜、欧姆接触、以及半导体层；将该第一光刻胶图样除去预定厚度，以便形成第二光刻胶图样；使用该第二光刻胶图样作为掩模，蚀刻该第一、第二和第三导电膜，以便暴露欧姆接触的一部分；以及使用含Cl气体和含F气体蚀刻暴露的欧姆接触。
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公开(公告)号：CN101106142A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710146458.8
申请日：2007-06-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/12 , H01L21/84 , G02F1/1362 , G02F1/133
Abstract: 一种显示基板，包括TFT层、钝化层、有机层、无机绝缘层和像素电极。该TFT层包括栅极线和数据线、薄膜晶体管和存储电极。该数据线与该栅极线相交叉，并通过栅绝缘层与该栅极线电绝缘。该TFT电连接至该栅极线和数据线。该钝化层覆盖住该TFT层。该有机层在该钝化层上。该低温沉积的无机绝缘层在该有机层上，并且该低温为约100℃至约250℃。该像素电极在该无机绝缘层上，以通过穿过该无机绝缘层、有机层和钝化层形成的接触孔电连接至该TFT。该无机绝缘层有助于阻挡来自该有机层的杂质泄漏到该无机绝缘层上方的层中。本发明还涉及一种显示基板的制造方法和一种具有该显示基板的显示装置。
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公开(公告)号：CN1916111A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610110743.X
申请日：2006-08-08
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/133711 , G02F1/133788 , Y10T428/1005
Abstract: 一种具有液晶取向特性的有机组合物，其包含光敏化合物和式1表示的粘合剂树脂，其中每个R1独立地为氢或甲基；R2是4－16个碳原子的烷基；R3是1－7个碳原子的烷基、1－7个碳原子的环氧烷基、苄基或苯基；l、m和n表示聚合单元的摩尔比，并且分别为约0.01至约0.50、约0.10至约0.60和约0.03至约0.50。
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