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公开(公告)号：CN102540560A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110432302.2
申请日：2011-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02B5/20
CPC classification number: G02B5/201 , G02B5/003 , G02F1/133512 , G02F1/133514
Abstract: 本发明公开一种显示基板及其制造方法和具有其的显示面板。显示面板包括：基底基板，具有多个像素区域，其中每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，大体上定义子像素区域；和多个滤色器图案。光阻挡层图案和多个滤色器图案的上表面共同形成大体上平的表面。
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公开(公告)号：CN102002334A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010159530.2
申请日：2010-04-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09J133/02 , C09J133/12 , C09J133/14 , C09J133/10 , C09J125/08 , C09J179/08 , C09J145/00 , C09J183/04 , G02F1/1333
CPC classification number: C08F220/06 , C08F220/26 , C08F222/04 , C08F224/00 , C08G73/1067 , G02F1/133707 , G02F1/133719 , G02F1/133753 , G02F1/133788 , G02F1/136209 , G02F1/13624 , G02F2001/133726 , G02F2001/133746 , G02F2001/133757 , G02F2001/136222 , G02F2201/086 , G02F2202/022 , G02F2202/103 , G02F2202/104
Abstract: 本发明提供了一种有机层组合物以及包括该有机层组合物的液晶显示器。根据一种示例性实施方式的有机层组合物包括通过使包括在第一组和第二组中的化合物共聚合而形成的粘合剂，其中第一组包括基于丙烯酰基的化合物，而第二组包括没有-COO-基团的化合物。
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公开(公告)号：CN1432872A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5％重量至约30％重量的聚合树脂、约2％重量至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％重量至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％重量至约90％重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN101477308A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200810190664.3
申请日：2008-12-26
Applicant: 三星电子株式会社 , 高科技实美化学株式公社
CPC classification number: H01L27/1288 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/033 , H01L27/1214 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法。负型光刻胶组合物包括：包含含有乙烯不饱和键的乙烯不饱和化合物和光聚合引发剂的能光固化组合物；包含通过热交联的碱溶性树脂的热固性组合物；和有机溶剂。该负型光刻胶组合物改善稳定性、感光度、在进行显影操作后的可分离性，并减少残留物以改善有机绝缘层的可靠性。此外，负型光刻胶组合物改善有机绝缘层的透射率并减小色坐标的变化以改善显示装置的显示质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1296772C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN02150451.2
申请日：2002-11-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/012 , G03F7/038 , G03F7/16 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5%重量至约30%重量的聚合树脂、约2%重量至约10%重量的光敏化合物、约0.1%至约10%重量的灵敏度提高剂、约0.1%重量至约10%重量的灵敏度抑制剂和约60%重量至约90%重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0048
Abstract: 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN101355056A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200810134043.3
申请日：2008-07-22
CPC classification number: H01L27/1288 , H01L27/1214
Abstract: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物，该方法包括在绝缘基板上形成数据线路，通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜，该感光组合物包含三元共聚物，其中该三元共聚物得自以下单体：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物，不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。
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公开(公告)号：CN119335807A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410236119.2
申请日：2024-03-01
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了掩模制造方法。所述掩模制造方法包括：通过对光学邻近校正(OPC)目标设计布局实施第一OPC来获得第一光学邻近校正后的(OPCed)设计布局；基于所述第一OPCed设计布局对所述OPC目标设计布局执行反向剖分以生成第一段；执行反向校正以将所述第一OPCed设计布局的第一偏差分配给所述OPC目标设计布局的所述第一段；基于所述第一段的段分组确定全芯片代表性偏差；将所述全芯片代表性偏差应用于整个芯片区域；基于已经应用于所述整个芯片区域的所述全芯片代表性偏差来准备掩模数据；以及基于所述掩模数据使掩模衬底曝光。
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公开(公告)号：CN119225111A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410290458.9
申请日：2024-03-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了光学邻近校正方法和使用其的半导体制作方法。所述半导体制作方法包括：对布局的设计图案执行光学邻近校正以生成校正后的布局；以及通过使用用所述校正后的布局制造的光掩模来在衬底上形成光刻胶图案。执行所述光学邻近校正包括：在所述设计图案的轮廓上生成形状点；产生所述形状点的散列值；选择代表第一形状点的第一独特形状点；确定所述第一独特形状点的第一校正偏置；以及通过将所述第一校正偏置共同应用于所述第一形状点来创建校正图案。产生所述散列值包括：生成目标形状点周围的查询范围；以及基于所述查询范围内的几何分析，产生所述散列值。
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