公开(公告)号：CN101561632A

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：CN200910134442.4

申请日：2009-04-14

Applicant: 三星电子株式会社 ,  AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  郑斗喜 ,  李政洙 ,  李羲国 ,  吴世泰 ,  姜德万 ,  崔宰荣

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008 ,  H01L21/336 ,  H01L21/027 ,  H01L21/84

CPC classification number: G03F7/0236 ,  G03F7/0007

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶树脂组合物、用于形成图案的方法、以及使用该光刻胶树脂组合物制造显示面板的方法。该光刻胶树脂组合物包括碱溶性树脂、光刻胶化合物和溶剂，其中碱溶性树脂包括由上面化学式1表示的第一聚合物树脂，其中，R1、R2、R3、R4、R5和R6中的至少一个是羟基，至少两个是甲基且其余的任意基团是氢，而R7、R8、R9、R10和R11中的至少一个是羟基，至少两个是甲基且其余的任意基团是氢。

公开(公告)号：CN1241072C

公开(公告)日：2006-02-08

申请号：CN00817711.2

申请日：2000-12-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 朴弘植 ,  周振豪 ,  李有京 ,  姜圣哲 ,  吴世泰 ,  姜德万

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  C11D7/50

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/38 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量%的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。

公开(公告)号：CN1777842A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010756.9

申请日：2004-04-23

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 姜德万 ,  吴世泰 ,  权赫重 ,  内藤荣治

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/0226 ,  G03F7/0048

Abstract: 本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂，其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异，本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微图案的平版印刷工艺中在涂布薄膜的时候极大地改进薄膜厚度的均匀度。此外，通过从装置上除去光敏材料，根据本发明的有机溶剂可以用来清洗在微电路形成过程中与光敏材料接触的装置。其还可以除去残留在光敏材料所涂布的基底的不希望部分上的光敏材料。

公开(公告)号：CN100541338C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200480010756.9

申请日：2004-04-23

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 姜德万 ,  吴世泰 ,  权赫重 ,  内藤荣治

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/0226 ,  G03F7/0048

Abstract: 本发明提供了一种包含苯甲醇或其衍生物作为有机溶剂的抗蚀剂组合物。本发明还提供了一种用于除去抗蚀剂的有机溶剂，其中该有机溶剂包含苯甲醇或其衍生物。利用由UV射线辐射的辐射部分和非辐射部分之间的溶解度差异，本发明的抗蚀剂组合物被应用于形成微图案的平版印刷工艺中在涂布薄膜的时候极大地改进薄膜厚度的均匀度。此外，通过从装置上除去光敏材料，根据本发明的有机溶剂可以用来清洗在微电路形成过程中与光敏材料接触的装置。其还可以除去残留在光敏材料所涂布的基底的不希望部分上的光敏材料。

公开(公告)号：CN1261826C

公开(公告)日：2006-06-28

申请号：CN03802089.0

申请日：2003-01-09

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 吴世泰 ,  姜德万 ,  崔景洙

IPC: G03F7/32

CPC classification number: C11D7/264 ,  C11D3/3707 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/168

Abstract: 本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物，其中，含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后，在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物，包括：(a)0.1-20wt%的分子量为50-2000的烷基醚聚合物；和(b)80-99.9wt%的一种有机溶剂，包括(b-1)1-20重量份的二丙二醇甲基醚(DPGME)、10-50重量份的N-甲基吡咯烷酮(NMP)和50-90重量份的甲基异丁基酮(MIBK)，或(b-2)10-90重量份的二甲基甲酰胺(DMF)或二甲基乙酰胺(DMAc)和10-50重量份的正丁基乙酸酯。

公开(公告)号：CN1413317A

公开(公告)日：2003-04-23

申请号：CN00817711.2

申请日：2000-12-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  克拉里安特国际有限公司

Inventor： 朴弘植 ,  周振豪 ,  李有京 ,  姜圣哲 ,  吴世泰 ,  姜德万

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  C11D7/50

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/38 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量％的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。