公开(公告)号：CN110199053A

公开(公告)日：2019-09-03

申请号：CN201880006748.9

申请日：2018-01-15

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  J·侯

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/56 ,  C23C16/44

Abstract: 与具有优良耐化学性和结构完整性的涂层相关的制品和方法可以在介于约150℃与低于300℃之间的低处理温度下通过原子层沉积和氟退火制备。所述膜包含含有钇的氟化金属氧化物。

公开(公告)号：CN114695239B

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202111648506.X

申请日：2021-12-30

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·凡卡拉曼 ,  S·西里尼亚诺 ,  刘研 ,  S·古达蒂 ,  T·K·佩鲁马尔 ,  M·利维 ,  J·莱辛斯基 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: H01L21/683 ,  B33Y80/00

Abstract: 本申请案涉及一种通过增材制造来制备的静电吸盘以及相关方法及结构。描述用于在加工工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘以及通过增材制造技术制备的静电吸盘底座组件。

公开(公告)号：CN119547179A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380053932.X

申请日：2023-06-28

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  斯科特·L·巴特尔 ,  G·理查兹 ,  本杰明·R·加勒特

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  C23C16/455

Abstract: 一种系统包含：化学品供应柜(例如，例如经配置以装纳安瓿的化学品供应柜)；模块，其经配置以使表面改质；及控制单元，其经连接到所述模块，其中所述控制单元经配置以指导所述表面的所述改质。

公开(公告)号：CN119121186A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411269980.5

申请日：2018-01-15

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  J·侯

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/40 ,  C23C16/56

Abstract: 本申请涉及用氟退火膜涂布的制品。与具有优良耐化学性和结构完整性的涂层相关的制品和方法可以在介于约150℃与低于300℃之间的低处理温度下通过原子层沉积和氟退火制备。所述膜包含含有钇的氟化金属氧化物。

公开(公告)号：CN108780773B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN201780015129.1

申请日：2017-02-02

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 林奕宽 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  J·M·格拉斯科欧

IPC: H01L21/683

Abstract: 本发明涉及一种具有整体非弧形顶表面状突部的静电吸盘，所述突部具有与椭圆的部分类似的边缘表面。所述突部的结构导致由所支撑衬底与所述吸盘之间的交互生成的微粒材料减少。通过改善所述突部表面的平滑化及平坦化来达成降低刮擦、打磨、磨损及微粒生成的水平。

公开(公告)号：CN114929925A

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202080091244.9

申请日：2020-12-17

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德 ,  B·C·亨德里克斯

IPC: C23C8/08 ,  C22C21/08

Abstract: 描述了由含镁金属制成且在主体表面处形成有氟化镁表面钝化区域的金属体，以及在金属体的表面处形成氟化镁表面钝化区域的方法，和所述主体的用途。

公开(公告)号：CN107615462A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680018518.5

申请日：2016-02-13

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  D·W·彼得斯 ,  李卫民 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  R·A·库克 ,  N·困达 ,  林奕宽

IPC: H01L21/56 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C28/044 ,  C23C14/243 ,  C23C14/50 ,  C23C16/403 ,  C23C16/404 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555 ,  C23C28/042

Abstract: 本发明描述适用于多种衬底制品、结构、材料及设备的涂层。在各种应用中，所述衬底包含金属表面，所述金属表面易于在其上形成此金属的氧化物、氮化物、氟化物或氯化物，其中所述金属表面经配置以在使用中与气体、固体或液体接触，所述气体、固体或液体与所述金属表面进行反应以形成对所述衬底制品、结构、材料或设备有害的反应产物。所述金属表面涂覆有保护涂层，所述保护涂层防止所述经涂覆表面与所述反应性气体进行反应及/或以其它方式改进所述衬底制品或设备的电性质、化学性质、热性质或结构性质。描述涂覆所述金属表面及用于选择所利用的涂层材料的各种方法。

公开(公告)号：CN119054066A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202380033580.1

申请日：2023-04-05

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： 刘羽轩 ,  李志峰 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  刘研 ,  C·凡卡拉曼 ,  P·R·瓦兰阿西

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请涉及一种导电聚合物层，其位于静电卡盘上。所述导电聚合物层包括导电聚合物及光敏聚合物。所述导电聚合物的导电性促进通过所述导电聚合物层进行的电荷消散，而所述光敏聚合物的光敏性允许所述导电聚合物层的表面被光图案化。所述导电聚合物层导电及光敏的程度可通过变动所述导电聚合物及所述光敏聚合物的相对量来调节。

公开(公告)号：CN118974310A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202380031339.5

申请日：2023-03-07

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： B·C·亨德里克斯 ,  S·L·巴特尔 ,  B·R·加勒特 ,  C·瓦尔德弗里德 ,  G·理查兹

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/08 ,  C23C16/455

Abstract: 公开一种可暴露于例如钼蒸气、钨蒸气或其任何组合的化学蒸气的装置，所述装置具有覆盖其至少一部分的涂层。所述涂层减少或抑制所述装置的外表面暴露于蒸气时的质量改变。在某些情形中，所述质量改变为质量增加，且所述涂层减少或抑制等于或小于1x 10‑5g mm‑2的质量增加。

公开(公告)号：CN118176322A

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202280073474.1

申请日：2022-09-22

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/56 ,  C23C16/455 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C14/58 ,  C04B41/53

Abstract: 一些实施例涉及具有可去除式涂层的物件。所述物件可包含衬底和所述衬底上的涂层。可将蚀刻终止层设置于所述衬底与所述涂层之间，以允许在不损坏所述衬底的情况下去除所述涂层。一些实施例涉及从物件去除涂层的方法。所述方法可包含：获得包含介于衬底与所述衬底上的涂层之间的蚀刻终止层的物件，并且从所述物件去除至少一部分所述涂层。其它实施例进一步提供物件和相关方法。