集成电路结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN112687671B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202011107459.3

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 在实施例中,结构包括:处理器器件,该处理器器件包括逻辑器件并且没有存储器;第一存储器器件,通过金属至金属接合和电介质至电介质接合而直接面对面地接合至处理器器件;横向地围绕第一存储器器件的第一介电层;位于第一介电层和第一存储器器件上方的再分布结构,该再分布结构包括金属化图案;以及延伸穿过第一介电层的第一导电通孔,第一导电通孔将再分布结构的金属化图案连接至处理器器件。本发明的实施例还涉及集成电路结构及其形成方法。

    封装件及其形成方法
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114765165A

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202210038417.1

    申请日:2022-01-13

    Abstract: 方法包括形成重构晶圆,包括:在载体上方形成再分布结构,在再分布结构上方接合第一多个存储器管芯,在再分布结构上方接合多个桥接管芯,以及在第一多个存储器管芯和多个桥接管芯上方接合多个逻辑管芯。多个桥接管芯中的每个互连多个逻辑管芯中的四个并且与多个逻辑管芯中的四个的角部区域重叠。第二多个存储器管芯接合在多个逻辑管芯上方。多个逻辑管芯形成第一阵列,并且第二多个存储器管芯形成第二阵列。本申请的实施例涉及封装件及其形成方法。

    集成电路结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN112687671A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011107459.3

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 在实施例中,结构包括:处理器器件,该处理器器件包括逻辑器件并且没有存储器;第一存储器器件,通过金属至金属接合和电介质至电介质接合而直接面对面地接合至处理器器件;横向地围绕第一存储器器件的第一介电层;位于第一介电层和第一存储器器件上方的再分布结构,该再分布结构包括金属化图案;以及延伸穿过第一介电层的第一导电通孔,第一导电通孔将再分布结构的金属化图案连接至处理器器件。本发明的实施例还涉及集成电路结构及其形成方法。

    集成电路结构及其形成方法

    公开(公告)号:CN112687670A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011106428.6

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 在实施例中,一种结构包括:图形处理器器件;无源器件,耦合至图形处理器器件,该无源器件直接面对面地接合至图形处理器器件;共享存储器器件,耦合至图形处理器器件,共享存储器器件直接面对面地接合至图形处理器器件;中央处理器器件,耦合至共享存储器器件,中央处理器器件直接背对背地接合至共享存储器器件,中央处理器器件和图形处理器器件的每个具有比共享存储器器件小的技术节点的有源器件;以及再分布结构,耦合至中央处理器器件、共享存储器器件、无源器件和图形处理器器件。本发明的实施例还涉及集成电路结构及其形成方法。

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