一种高密度像元红外焦平面器件充胶的优化方法

    公开(公告)号:CN119381268A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411497939.3

    申请日:2024-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种高密度像元红外焦平面器件充胶的优化方法,该方法步骤包括,选取流动性较好的底充胶,采用一字形或L型方式进行底充胶自然流动填充,静置,然后放入真空装置中进行抽放真空并观察,重复抽放真空直到芯片四周有底充胶溢出。本发明减少了底充胶填充缺陷,增强了芯片与读出电路的连接强度,提高了器件可靠性。尤其适用于大规模小中心距的红外焦平面。

    一种用于碲镉汞探测器N区横向展宽的变间距测量方法

    公开(公告)号:CN105047574B

    公开(公告)日:2017-08-25

    申请号:CN201510295755.3

    申请日:2015-06-02

    Abstract: 本发明公开了一种用于碲镉汞探测器N区横向展宽的变间距测量方法,该方法是在已经制备ZnS阻挡层和对准标记的碲镉汞红外芯片上,通过光刻工艺,设计一系列不同间距PN结的离子注入掩膜。离子注入后再通过常规工艺制备钝化层和金属化欧姆接触,剥离并获得一系列不同间距PN结展宽的测试图形。最后,用低温冷探针系统对每对PN结进行电流电压测试,并通过结合电流电压测试结果分析和每对PN结间距判断横向展宽宽度。本发明方法操作简单,便于实现在线分析PN结结宽。

    金属半导体接触的非线性传输线模型及参数的拟合方法

    公开(公告)号:CN104035017A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410258872.8

    申请日:2014-06-12

    Abstract: 本发明公开了一种金属半导体接触的非线性传输线模型及参数的拟合方法,它涉及到半导体器件结构性能的检测和表征领域,其步骤包括:1.建立非线性传输线模型;2.测量半导体薄膜材料上平行双矩形电极的I-V曲线;3.利用关系式R=dV/dI获得R-V曲线;4.利用非线性传输线模型计算测试结构的理论R-V曲线;5.利用模拟退火遗传算法拟合金属半导体接触的物理参数。本发明的优点为:建立了非线性传输线模型和相应的数值算法,可以定量的提取金属半导体接触相关物理参数,为精确表征和分析非线性金属半导体接触提供了新的方法。

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