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公开(公告)号：CN102540770A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110401536.0
申请日：2011-12-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。本发明还提供一种显影方法和具备该显影装置的涂敷显影处理系统。
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公开(公告)号：CN1262888C
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN02141002.X
申请日：2002-06-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/26 , G02F1/1333 , H01L21/027
Abstract: 目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。此时，(基板)182和起模顶杆(184)也上升，起模顶杆(184)从下突起，向传输路径(108)的上方抬起基片(G)。接着，以传输路径(108)的宽度方向上延伸的轴(196)为中心向后仅旋转基板(182)规定角度。此时，起模顶杆(192)、止动部件(194)、基片(G)也在传输路径(108)上向后方仅倾斜相同角度。基片(G)止动于止动部件(194)上，基片(G)上的液体(Q)由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落，落到基片的外部。从基片(G)落下的液体(Q)收集在盘(130)中。
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公开(公告)号：CN110544752B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201910830977.9
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和基板处理系统的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的基板处理系统包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN113741156A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202110539078.0
申请日：2021-05-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供能够抑制基片的产品缺陷的显影处理装置和显影处理方法。实施方式的显影处理装置包括运送机构、送入部、显影部和气体供给部。运送机构平流地运送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。送入部能够供基片送入。显影部具有显影液供给嘴，该显影液供给嘴对由运送机构从送入部运送的基片的表面供给显影液。气体供给部设置在送入部，向显影液供给嘴倾斜地供给气体。
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公开(公告)号：CN110556311A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910432528.9
申请日：2019-05-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种提高热处理时的基片温度的均匀性的技术。实施方式的基片处理装置包括输送机构、第一热处理部、第二热处理部和排气机构。输送机构平流地输送基片。第一热处理部对被平流地输送来的基片进行热处理。第二热处理部与第一热处理部连续地设置，对由第一热处理部进行了热处理的基片以比第一热处理部低的温度进行热处理。排气机构从第一热处理部的上方进行排气，以使得空气从比第一热处理部靠基片的输送方向的上游侧和第二热处理部侧流向第一热处理部内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104051674B
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201410097639.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供种更够高效地且在短时间除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且容易对用于收集溶剂的构件进行更新的干燥装置和干燥处理方法。干燥装置(100)包括能够抽成真空的处理容器(1)、用于在处理容器(1)内支承基板(S)的作为支承构件的载置台(3)、与支承在载置台(3)上的基板(S)相对地设置且用于收集自有机材料膜挥发的溶剂的溶剂收集部(5)、以及控制部(6)。溶剂收集部(5)还包括用于使收集的溶剂脱离的作为溶剂脱离装置的温度调节装置(7)。溶剂收集部(5)包括与载置在载置台(3)上的基板(S)相对且与该基板(S)的表面大致平行地配置的1张或者多张金属板的收集板(50)。在收集板(50)中形成有多个贯通开口(50a)。
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公开(公告)号：CN107872914A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863784.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05B33/10
CPC classification number: H05B33/10
Abstract: 本发明提供能够提高通过量的减压干燥系统。该减压干燥系统包括：第一减压干燥装置，其包括：收纳形成有包括有机材料和溶剂的涂敷层的基板的第一处理容器；在上述第一处理容器的内部保持上述基板的第一基板保持部；和将上述第一处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第一减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使上述溶剂从上述涂敷层蒸发；和第二减压干燥装置，其包括：收纳从上述第一减压干燥装置搬送来的上述基板的第二处理容器；在上述第二处理容器的内部保持上述基板的第二基板保持部；和将上述第二处理容器的内部减压至比大气压低的气压的第二减压机构，在气压比大气压低的减压气氛中使残留于上述涂敷层的上述溶剂蒸发。
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公开(公告)号：CN107871828A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710863857.X
申请日：2017-09-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , B05D3/0254 , H01L51/0026
Abstract: 本发明提供一种能够减轻基板的面内的涂敷层的减压干燥速度的不均的减压干燥装置。本发明的减压干燥装置，包括：处理容器，其收纳形成有包含有机材料和溶剂的涂敷层的基板；在上述处理容器的内部从下方保持上述基板的基板保持部；与上述处理容器的排气口连接，将上述处理容器的内部减压的减压机构；和对从由上述基板保持部保持的上述基板的上表面附近向上述处理容器的排气口去的气流进行限制的气流限制部，上述气流限制部包括：在由上述基板保持部保持的上述基板的侧方遮挡气流的侧壁部；和在由上述基板保持部保持的上述基板的上方遮挡气流的顶部。
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公开(公告)号：CN101814424A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN201010119645.9
申请日：2010-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供能高效顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上供给到被处理基板的第1处理液而替换为第2处理液的动作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。包括：基板输送路径，以平流输送被处理基板；第1处理液供给部件，向在基板输送路径中输送的被处理基板供给第1处理液；气体供给部件，朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向在基板输送路径中输送的、被供给第1处理液后的被处理基板吹规定的气流；第1冲洗液供给部件，以规定的流速向在基板输送路径中输送的、被气体供给部件吹过的气流后的被处理基板的基板表面供给第2处理液；第2冲洗液供给部件，以比第1冲洗液供给部件高的流速向被供给第2处理液后的、在基板输送路径中输送的被处理基板供给第2处理液。
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公开(公告)号：CN1252514C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN02126281.0
申请日：2002-06-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种显象处理装置，它具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在输送通路上输送该基片而驱动输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在输送通路上的基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使处理液供给机构的至少一个喷嘴沿输送通路移动的喷嘴扫描机构；其中，当在输送通路上输送基片时，一边通过喷嘴扫描机构使至少一个所述喷嘴在与基片输送方向相反的方向上移动，一边将处理液供给所述被处理面。
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