公开(公告)号：CN1501177A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN200310123329.9

申请日：2003-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立山清久 ,  野村雅文 ,  筱木武虎

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03D3/065 ,  G03D3/06 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3071 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明的显影方法和显影装置中，浓度测定部(222)采取一部分调合罐(186)内的显影液，用吸光光度法测定抗蚀剂浓度，将测定结果(抗蚀剂浓度测定值)传送到控制部(240)。控制部(240)控制TMAH原液供给管(200)、溶媒供给管(204)以及排泄管(208)的各个开关阀(210)、(212)、(216)，进行显影液的成分调整，使调合罐(186)内显影液的TMAH浓度是与维持显影速率为一定的抗蚀剂浓度测定值对应的TMAH浓度值。从调合罐(186)向供给罐(188)移送的显影液，由泵(228)驱动通过显影液供给管(224)送到显影处理部(126)的显影液喷嘴DN。因此，在显影处理中，即使多次再利用显影液，也能确保显影均匀性。

公开(公告)号：CN1262888C

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN02141002.X

申请日：2002-06-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立山清久 ,  元田公男 ,  佐田彻也 ,  宫崎一仁 ,  筱木武虎

IPC: G03F7/26 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/027

Abstract: 目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。此时，(基板)182和起模顶杆(184)也上升，起模顶杆(184)从下突起，向传输路径(108)的上方抬起基片(G)。接着，以传输路径(108)的宽度方向上延伸的轴(196)为中心向后仅旋转基板(182)规定角度。此时，起模顶杆(192)、止动部件(194)、基片(G)也在传输路径(108)上向后方仅倾斜相同角度。基片(G)止动于止动部件(194)上，基片(G)上的液体(Q)由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落，落到基片的外部。从基片(G)落下的液体(Q)收集在盘(130)中。

公开(公告)号：CN1311303C

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：CN200310123329.9

申请日：2003-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立山清久 ,  野村雅文 ,  筱木武虎

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03D3/065 ,  G03D3/06 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3071 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明的显影方法和显影装置中，浓度测定部(222)采取一部分调合罐(186)内的显影液，用吸光光度法测定抗蚀剂浓度，将测定结果(抗蚀剂浓度测定值)传送到控制部(240)。控制部(240)控制TMAH原液供给管(200)、溶媒供给管(204)以及排泄管(208)的各个开关阀(210)、(212)、(216)，进行显影液的成分调整，使调合罐(186)内显影液的TMAH浓度是与维持显影速率为一定的抗蚀剂浓度测定值对应的TMAH浓度值。从调合罐(186)向供给罐(188)移送的显影液，由泵(228)驱动通过显影液供给管(224)送到显影处理部(126)的显影液喷嘴DN。因此，在显影处理中，即使多次再利用显影液，也能确保显影均匀性。

公开(公告)号：CN1392454A

公开(公告)日：2003-01-22

申请号：CN02141002.X

申请日：2002-06-19

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立山清久 ,  元田公男 ,  佐田彻也 ,  宫崎一仁 ,  筱木武虎

IPC: G03F7/26 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/027

Abstract: 目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。此时，(基板)182和起模顶杆(184)也上升，起模顶杆(184)从下突起，向传输路径(108)的上方抬起基片(G)。接着，以传输路径(108)的宽度方向上延伸的轴(196)为中心向后仅旋转基板(182)规定角度。此时，起模顶杆(192)、止动部件(194)、基片(G)也在传输路径(108)上向后方仅倾斜相同角度。基片(G)止动于止动部件(194)上，基片(G)上的液体(Q)由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落，落到基片的外部。从基片(G)落下的液体(Q)收集在盘(130)中。