公开(公告)号：CN104425308A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201410455722.6

申请日：2014-09-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森山茂 ,  尾上幸太朗 ,  后藤英昭 ,  藤原真树

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L22/12

Abstract: 本发明提供一种能够实现轻量化且廉价的测定装置、基板处理系统和测定方法。实施方式的一个方式所涉及的测定装置包括搬送部、拍摄部和测定部。搬送部搬送形成有图案的基板。拍摄部配置于搬送部的上方，对载置于搬送部上的基板的图案进行拍摄。另外，测定部根据由拍摄部所拍摄的图案的图像信息来测定图案的形状。

公开(公告)号：CN104425308B

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201410455722.6

申请日：2014-09-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森山茂 ,  尾上幸太朗 ,  后藤英昭 ,  藤原真树

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/677 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种能够实现轻量化且廉价的测定装置、基板处理系统和测定方法。实施方式的一个方式所涉及的测定装置包括搬送部、拍摄部和测定部。搬送部搬送形成有图案的基板。拍摄部配置于搬送部的上方，对载置于搬送部上的基板的图案进行拍摄。另外，测定部根据由拍摄部所拍摄的图案的图像信息来测定图案的形状。

公开(公告)号：CN102540770B

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201110401536.0

申请日：2011-12-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐田彻也 ,  后藤英昭 ,  永田笃史 ,  藤原真树

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。

公开(公告)号：CN102540770A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110401536.0

申请日：2011-12-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐田彻也 ,  后藤英昭 ,  永田笃史 ,  藤原真树

IPC: G03F7/30 ,  H01L21/00 ,  H01L21/677

Abstract: 提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。本发明还提供一种显影方法和具备该显影装置的涂敷显影处理系统。